UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos

Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez

1
CAPTULO N 3

Introduccin a la
Fotoelasticidad
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
2
Fig. 1. Franjas isocromticas producidas
por los esfuerzos en un modelo de llave
de tuercas. El material empleado es el
CR 39 (carbonato alyl diglicol), con una
plancha de 3/16 de espesor.
CAPTULO 3
INTRODUCCIN A LA FOTOELASTICIDAD

Conceptos Fundamentales

Qu es la Fotoelasticidad?

La fotoelasticidad es un mtodo de anlisis
de esfuerzos en el que se usa un modelo del
elemento o estructura de inters. El modelo
se hace de un plstico especial que posee las
propiedades pticas y de deformacin con-
venientes. Puesto que el modelo es geom-
tricamente similar a la estructura real, la
distribucin de esfuerzo en l indica los
efectos de la configuracin geomtrica sobre
la distribucin del esfuerzo en la estructura
real. Sin embargo, las propiedades mecnicas
del material del modelo y de la estructura
pueden diferir considerablemente, y es posi-
ble por consiguiente, que el modelo d una
falsa impresin del comportamiento real de
la estructura.

Este mtodo difiere del extensomtrico en
que proporciona una determinacin global
de los esfuerzos en todos los puntos, tanto
en la superficie como en el interior, y no slo
una medida del esfuerzo en un punto espe-
cfico. La fotoelasticidad es principalmente
un mtodo bidimensional en el que los mo-
delos utilizados tienen espesor constante. En tcnicas ms avanzadas los esfuer-
zos se congelan en modelos tridimensionales, y luego se analizan cortes de dos
dimensiones.

A continuacin vanse las siguientes ilustraciones de ensayos realizados en dos
dimensiones.



Fig. 2. Modelo fotoelstico de una barra plana sometida a compresin con un agujero central.
Obsrvese los puntos donde se concentran fuertemente los esfuerzos. Empricamente se
puede comprobar la veracidad del Principio de Saint Venant.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
3


Fig. 3. Modelo fotoelstico de una viga sometida a una carga concentrada en su punto medio.



Fig. 4. Modelo fotoelstico de una viga con dos incisiones sometida a cargas concentradas.
Ntese la concentracin de esfuerzos en las incisiones.



Fig. 5. Modelo fotoelstico de un disco plano macizo sometido a compresin diametral.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
4
Conforme a la Teora de la Elasticidad, los esfuerzos normales x y y en el disco
vienen dados por las siguientes expresiones:

o
x
=
P
nRt
[
x
2
-R
2
x
2
+R
2

2
; o

=
P
nRt
(3R
2
+x
2
)(x
2
-R
2
)
(x
2
-R
2
)
2


En la figura 6 se representa el significado de los dgitos de la figura 5; vienen a
ser los esfuerzos en el disco en funcin de la posicin de las franjas negras,
llamadas isocromticas.



Fig. 6. Orden de las franjas del disco de la Fig. 5 en funcin al esfuerzo normal.

Para formas tridimensionales ms complejas, es imposible modelar la geometra
de un material con planchas fotoelsticas. Asimismo, a menudo se desea medir
la distribucin real de esfuerzos en piezas, por ejemplo, en un elemento de
mquina, en una vlvula de regulacin, o en la estructura de una gran mquina.
En tales casos, se usa en recubrimiento fotoelstico especial sobre la superficie
exterior de la pieza, el cual debe ser capaz de adherirse y moldearse completa-
mente a la forma de la pieza.

Cuando la pieza es cargada, las deformaciones se transfieren al recubrimiento;
la luz polarizada se dirige a la pieza, y las franjas indican indudablemente los
cambios de esfuerzos que sufre. De estas observaciones se puede determinar
las zonas donde ocurren los mximos esfuerzos, y calcular sus valores aproxi-
mados. As entonces, conociendo la distribucin general de esfuerzos y la posicin
de sus ms altos valores, se podr realizar ensayos ms especficos si se desea
mayor precisin numrica. Despus de este ensayo se suele emplear el mtodo
extensomtrico.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
5


Fig. 7. Recubriendo una pieza mecnica fundida compleja para
realizar un anlisis fotoelstico.



Fig. 8. Evaluando los esfuerzos del modelo de la pieza fundida sobre el ma-
terial fotoelstico empleando luz polarizada.

Un modelo fotoelstico se analiza por medio de un aparato ptico llamado
polariscopio. Consiste en una fuente de luz polarizada que pasa a travs del
modelo con medios para aplicar carga al modelo y para analizar el fenmeno
resultante. En la fig. 9 se muestran las partes fundamentales de uno de estos
equipos.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
6

Fig. 9. POLARISCOPIO. Consta de las siguientes partes: S: Fuente de luz.
L1: Lente colimador. P: Polarizador. QP: Placa grande de cuarto de onda (de
mica). T: Regin de carga. L2: Lente auxiliar. Qa: Placa pequea de cuarto de
onda (de mica). L3: Lente de la cmara.

Polarizacin de la Luz y Fotoelasticidad

Existen cuatro tipos de polarizacin de la luz:

a) Por absorcin (Ley de Malus).
b) Por dispersin o scattering.
c) Por reflexin (Ley de Brewster).
d) Por birrefringencia o doble refraccin.


Fig. 10. Esquema del paso de la luz en un polariscopio

Por razones de inters del curso, solo nos abocaremos al tipo d.

La birrefringencia es un fenmeno complicado que se presenta en materiales
como la calcita, en otros cristales no cbicos y en algunos plsticos sometidos
a traccin, como el celofn. En la mayora de los materiales, la velocidad de la
luz es la misma en todas direcciones, lo cual sucede solo en los isotrpicos;
debido a su estructura atmica, los materiales birrefringentes son anisotrpicos.
Plano de
polarizacin
Plano de
polarizacin
Diferencia
de fase
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
7

Fig. 11. Divisin de un haz de luz en dos haces
en un material birrefringente, con polarizaciones
mutuamente perpendiculares.
La velocidad de la luz depende de su
direccin de propagacin a travs del
material. Cuando un rayo de luz est
incidiendo sobre estos materiales,
puede separarse en dos rayos, deno-
minados rayo ordinario (o) y rayo ex-
traordinario (e). Estos rayos estn po-
larizados en direcciones mutuamente
perpendiculares, y se propagan con
diferentes velocidades. Dependiendo
de la orientacin relativa del material y
de la luz incidente, los rayos pueden
propagarse tambin en direcciones
diferentes.

Existe una direccin particular en un material birrefringente en que ambos rayos
se propagan con la misma velocidad. Esta direccin se denomina eje ptico del
material. (ste es realmente una direccin y no slo una recta en el material).
Cuando la luz se propaga a lo largo del eje ptico no ocurre nada inusual. Sin
embargo, cuando la luz est incidiendo en ngulo con respecto al eje ptico como
se ve en la fig. 11, los rayos se propagan en distintas direcciones y emergen
separados en el espacio. Si se hace girar al material, el rayo extraordinario
(rayo e en la figura) gira en el espacio.

Si la luz est incidiendo sobre una placa birrefringente de modo que sea
perpendicular a su cara cristalina y perpendicular al eje ptico, los dos rayos
se propagan en la misma direccin, pero con velocidades diferentes. Los rayos
emergen con una diferencia de fase que depende del espesor de la placa y de la
longitud de onda de la luz incidente. En una lmina de cuarto de onda, el
espesor es tal que existe una diferencia de fase de 90 entre las ondas de una
longitud de onda determinada cuando emergen, mientras que en las lminas
de media onda, al emerger los rayos poseen una diferencia de fase de 180.


Fig. 12. Luz polarizada que emerge de un polarizador y que incide sobre un material
birrefringente, de tal forma que el vector campo elctrico forma 45 con el eje ptico,
que es perpendicular al haz luminoso. Los rayos ordinario y extraordinario se
mueven en la misma direccin, pero con diferentes velocidades.

UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
8

Fig. 13. Cuando el material birrefringente es una
lmina de media onda, la luz emergente tiene
girada su direccin de polarizacin.
Supongamos que la luz incidente est polarizada linealmente de forma que el
vector campo elctrico forma 45 con el eje ptico, como se indica en la figura
12. Los rayos ordinario y extraordinario parten en fase y tienen amplitudes
iguales. En el caso de una lmina de cuarto de onda, las ondas emergen con
una diferencia de fase de 90, de modo que el campo elctrico resultante tiene
componentes Ex = E0sen t y Ey = E0 sen ( t+90) = E0 cos t. Por tanto, el
vector campo elctrico rota barriendo un crculo, y la onda est polarizada
circularmente.

Con una lmina de media onda, las ondas emergen con una diferencia de fase
de 180, de modo que el campo elctrico resultante est polarizado linealmente
con componentes:

Ex = E0 sen t, y Ey = E0 sen( t + 180) = -E0 sen t

El efecto neto es que la direccin de polarizacin de la onda ha girado en 90
respecto a la de la luz incidente, como se ve en la figura 13.

En resumen, con el uso de materiales birrefringentes obtenemos interesantes
imgenes como el de la fig. 1 y el de la fig. 14, gracias al cual podemos identificar
las zonas ms y menos cargadas en el modelo.

As entonces, la Fotoelasticidad se
basa en el fenmeno que ocurre
cuando luz polarizada pasa a travs
de un plstico especial del modelo,
que cuando se carga se comprueba
que es birrefringente. Esto significa
que tiene propiedades nicas que
hacen que un rayo de luz polarizada
que penetra el espesor del material
en un punto se descomponga en dos
componentes sobre las dos direccio-
nes de esfuerzo principal en el punto.
Una de estas componentes se retarda,
con relacin a la otra, cuando pasa
a travs del plstico cargado. En otras
palabras una componente necesita
ms tiempo para atravesar el cuerpo que la otra componente. Este retardo rela-
tivo (diferencia en tiempo) es proporcional a la diferencia de esfuerzos principales
en el punto de anlisis. Por lo tanto:

N
t
F
mn mx
=
(I)

Siendo: F: Coeficiente de franja por esfuerzo del material.
t: Espesor del modelo.
N: Nmero de longitudes de onda completas de retardo relativo u
orden de franja.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
9
Fig. 14. Modelo de una construccin arquitectnica analizada
por Fotoelasticidad.
En la disposicin usual del
polariscopio, si el retardo
relativo en un punto del
modelo es exactamente de
una longitud de onda com-
pleta o de un mltiplo de
ella, la luz se extingue en el
sistema ptico, y resulta
una mancha oscura en la
placa fotogrfica o en la
pantalla visora para ese
punto del modelo. Si el re-
tardo es de media longitud
de onda o un mltiplo de
este valor, entonces la m-
xima cantidad de luz pasa
por el sistema ptico, y una
mancha brillante en la pan-
talla representa el punto
en el modelo.

Antes de ahondar un poco ms en el tema, podemos resumir lo ya expuesto del
siguiente modo:

1. La luz ordinaria consiste en el movimiento de una onda en la cual las vibra-
ciones son normales a la direccin de la propagacin. Un filtro especial, el
polarizador, puede seleccionar solo aquellos rayos que vibran en un plano
particular, produciendo luz polarizada.

2. Al ingresar un modelo transparente cargado, la luz polarizada puede vibrar
solo a lo largo de dos planos perpendiculares que coinciden con los planos
de los esfuerzos principales. La velocidad de propagacin de cada rayo de
luz componente depende del esfuerzo que acte en el plano. En consecuencia,
los dos rayos emergen desfasados del modelo, la diferencia de fase depende
de la diferencia entre los dos esfuerzos principales, la longitud de onda
empleada, y el espesor del modelo.

3. Los dos rayos que emergen del modelo son decepcionados por un segundo
polarizador, llamado el analizador, que solo transmite componentes de los
rayos en su plano de polarizacin. Las dos componentes emergentes son
aditivas, y causan extincin con luz monocromtica si una de las compo-
nentes es mltiplo de media longitud de onda (o 1 , 2 , etc.) respecto al
otro, y mxima intensidad luminosa si una componente es un nmero
entero de longitud de onda respecto al otro. Por ello, una variacin en la
magnitud de los esfuerzos principales en determinado punto de un modelo
dar lugar a grados de interferencia variados, tal que la superficie completa
del modelo aparezca cubierta de un nmero de franjas, a partir del cual se
puede obtener el mximo esfuerzo cortante.



UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
10

Fig. 15. Imagen fotoelstica de un modelo de
anillo (viga curva) sometido a compresin.
Luz Blanca y Negra en la Fotoelasticidad

Luz Blanca.- Como se dijo antes, con luz monocromtica vista mediante el ana-
lizador, la superficie de un modelo aparece cubierta con un nmero de franjas
monocromticas negras; pero si se usa luz blanca, el modelo aparecer cubierto
de una serie de bandas muy brillantes, llamadas isocromticas, las cuales tienen
la misma secuencia de colores como las que se observa en una pelcula de aceite
sobre el agua.

Esta apariencia se debe a la variedad de retardos relativos en diversos puntos
del modelo, que causan que cada color se extinga segn su longitud de onda.

Isclinas.- Si las direcciones de los esfuerzos principales en un punto de un
modelo tiene lugar en planos paralelos y perpendiculares al plano de polarizacin,
entonces la luz, al pasar por el modelo, continuar vibrando en dicho plano, y
por ello ser completamente absorbida por el analizador. Por lo tanto, ya que
las franjas no pueden verse, los esfuerzos no se pueden determinar.

Sin embargo, estas condiciones dan un mtodo por el cual se pueden determinar
las direcciones de los esfuerzos principales, ya que en las reas negras del
modelo, uno de los planos de esfuerzo principal coincidir con el plano de
polarizacin. Por ello, en un modelo bidimensional, el lugar geomtrico de estos
puntos produce bandas negras, llamadas isclinas, que cubren la superficie
del modelo. Orientando adecuadamente el polarizador y el analizador a varios
ngulos con respecto al modelo, se pueden determinar con bastante certeza las
direcciones de los esfuerzos principales.

Las isclinas no se deben confundir con las franjas, que son lneas de esfuerzo
cortante mximo; la discriminacin entre ambas se hace fcilmente rotando el
polarizador y el analizador alrededor del eje del polariscopio hasta que las
isclinas se vean moverse a travs del modelo concordante con las direcciones
variables de los esfuerzos principales, mientras que las franjas permanecern
fijas en posicin.

Puesto que el modelo corresponde a un
nmero infinito de puntos, un nmero
infinito de rayos de luz pasa a travs de
l, y la imagen vista en la pantalla consis-
tir en un nmero infinito de puntos bri-
llantes, oscuros y sombreados que se unen
formando un dibujo o patrn de bandas
luminosas y oscuras. Generalmente se
emplea luz casi de una sola frecuencia (luz
monocromtica), de modo que las bandas
son ms ntidas y muy prximas al blanco
y negro que de colores. Una banda, deno-
minada tambin franja o franja isocrom-
tica, representa el lugar geomtrico de
puntos que tienen la misma diferencia de
esfuerzos principales.

UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
11
Un estudio cualitativo de la pantalla visora dar una imagen inmediata y total
de la distribucin de esfuerzo en el modelo. Se pueden detectar los puntos de
esfuerzo mximo y se capta con facilidad el efecto de la configuracin geomtrica
del modelo.

Suele tomarse una de las franjas isocromticas para un futuro estudio cuanti-
tativo. La fig. 15 es una de tales fotografas. Existen dispositivos especiales o
tcnicas de compensacin que hacen posible la determinacin de las diferencias
de esfuerzo en puntos de rdenes de franjas parciales. Utilizando luz blanca,
eliminando ciertos elementos del sistema ptico y manipulando algunos otros,
el lugar geomtrico de puntos que tienen las mismas direcciones de esfuerzo
principal se puede configurar en la pantalla. Es posible trazar varias lneas,
que reciben el nombre de isclinas, las cuales permiten determinar las
direcciones de los esfuerzos principales en cualquier punto.

Los patrones de franjas isocromticas representan las diferencias de los esfuer-
zos principales en un punto. Como 1 - 2 = 2mx, se ve que los patrones de
franjas dan realmente una imagen global de las distribuciones de esfuerzo
cortante. A lo largo de los bordes del modelo, donde suele presentarse el esfuerzo
mximo, un esfuerzo principal es cero. Ah la diferencia de los esfuerzos princi-
pales, 1 - 2, se reduce directamente a un esfuerzo. En cualquier sitio, los
esfuerzos principales se pueden separar por lo general slo por computacin
numrica tediosa.

Materiales fotoelsticos

Todos los materiales transparentes son sensibles al efecto fotoelstico hasta
cierto grado, es decir, revelarn franjas cuando se les cargue en el polariscopio.
Los varios defectos, especialmente los que se deben a los esfuerzos por envejeci-
miento, hacen que la tcnica de medicin ms precisa de los esfuerzos sea mas
bien difcil con los materiales de hoy en da.

Coeficientes de franja por esfuerzo (F) y por deformacin (G)

Estos coeficientes varan de un material a otro, y en menor grado, varan en el
mismo material segn sus datos histricos y las condiciones de ensayo. No
aparentan relacionarse con alguna otra propiedad del material, aunque
naturalmente dependen de su estructura molecular. Se requiere que sus
valores sean bajos, de modo que se pueda determinar la mayor cantidad de
franjas cuando la muestra est cargada, para as obtener la mayor precisin en
la determinacin de los esfuerzos, todo en el rango elstico.

La relacin entre los coeficientes F y G viene dada por:

+
=
1
GE
F
(II)

Donde para una misma longitud de onda de luz de ensayo, se puede
determinar la constante fotoelstica del material (C), tal que:

UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
12

F
C =
(III)

En la tabla 1 se muestran los valores aproximados de los coeficientes F y G.

Si se usa una luz de diferente longitud de onda, se debe hacer la correccin
respectiva en forma proporcional a la longitud de onda de la luz de prueba.
Asimismo, se debe notar en la tabla que hay valores negativos de F, lo que
implica que el retardo se produce en el plano perpendicular al del material que
posee un valor positivo.

Al probar un material como aquellos al costado de un material con coeficiente
positivo, el efecto resultante sera el de la diferencia en el retardo producido por
cada material cuando son ensayados por separado.

Al seleccionar un material fotoelstico, ste se escoge generalmente por su valor
alto de C, facilidad de maquinado, alto lmite de proporcionalidad, transparencia
ptica, propiedades de flujo plstico y precio razonable. Los materiales de uso ms
comn son la baquelita, designada generalmente por BT 61, la resina de
Columbia, denominada CR-39 y varios materiales epxicos.

Caractersticas que debe reunir un material fotoelstico

Las condiciones ideales que un material fotoelstico debe reunir se pueden
resumir en las siguientes:

a) Transparencia.- Es obvio que si un material para anlisis fotoelstico no
tiene esa condicin, el material es inadecuado.
b) Rigidez.- El material debe tener un alto mdulo elstico, de modo que no
sufra altas deformaciones, para que la forma del modelo no se altere en la
prctica.
c) Maquinabilidad.- Tambin es obvio que si tampoco un material fotoelstico
se puede maquinar, el costo de los modelos sera sumamente alto. Ello desde
ya excluye al vidrio, con excepcin de los casos que se tengan que ensayar
modelos sumamente simples.
d) Alta sensitividad ptica.- Los rdenes de franja para esfuerzos, bien dentro
del lmite elstico y en modelos medianamente delgados, deben estar lo
suficiente definidos de modo que mx mn se pueda determinar con una
precisin satisfactoria, ello mediante un simple conteo, sin requerir de
instrumentos especiales.
e) Dureza adecuada.- El material no debe ser muy frgil ni debe causar
dificultades al maquinarlo, y ms an, debe poseer suficiente dureza para
que pueda ser sujetado durante su maquinado o en otras operaciones son
distorsionarlo.
UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
13
f) Ausencia de cedencia ptica o mecnica indebida.- Es indispensable que el
orden de franja no se altere en el tiempo debido al uso del modelo, con
excepcin de la carga que se aplique.
g) Ausencia de esfuerzos iniciales.- Es obvio que si en la muestra hay esfuerzos
residuales de una prueba anterior, dicha muestra puede dar lugar a la
obtencin de esfuerzos errados.
h) Debe ser isotrpico.
i) Debe tener comportamiento lineal tanto en sus relaciones esfuerzo - deformacin
como en sus relaciones esfuerzo franjas.
j) Constancia de las propiedades durante moderados cambios de temperatura
y tratamiento.
k) Bajo costo.-

Calibracin de un modelo fotoelstico

El propsito de esta actividad consiste en determinar primero el coeficiente de
franja por esfuerzo (F) del modelo que se desea probar, de manera similar al de
un anlisis tridimensional. A continuacin se recomienda la siguiente tcnica:

1. Se preparar una probeta para ensayarla a traccin, de la misma forma de
la pieza que se desea ensayar, y del mismo espesor del modelo que se
emplear en la prueba.
2. Se coloca la probeta en una congeladora cerca al modelo, y se realiza el pro-
ceso de congelamiento, con la primera cargada hasta su lmite proporcional.
3. Luego del congelamiento, se mantiene la probeta con el modelo, de modo que
ambos estn expuestas a las mismas condiciones de temperatura y humedad.
4. Se examina la probeta en el polariscopio en simultneo con el modelo, y se
determina el coeficiente F a partir del orden de franja en el centro de la
probeta. Si se observan efectos de borde, se revelar una pequesima
diferencia de orden de franja.

El efecto indicado se puede emplear para deducir los esfuerzos en otro
modelo de manera proporcional al espesor.

Este mtodo da una correccin de primer orden para el esfuerzo en los
bordes, pero ya que estos esfuerzos varan de punto en punto en un modelo
de forma irregular, la tcnica descrita deber emplearse para cuando se
requiera una evaluacin ms rigurosa.







UNAC FIME XXXIV CAP 2012 Anlisis Experimental de Esfuerzos
Profesor: Ing. Jos Martn Casado Mrquez
14
TABLA 1. Coeficientes F y G para diversos materiales a temperatura
ambiental y empleando luz de sodio de = 5 893 (1 = 10
-8
cm)

MATERIAL E (ksi)
F
(lb/pulg.franja)
G
(pulg.franja)
C = F/
(psi)
Gelatina (15% gelatina,
25% glicerina, 60% agua)
0,011 0,14 0,019 6 034
Caucho duro 0,1 0,6 1,65 0,017 71 118
Caucho suave 0,1 0,6 10 ----- 431 020
Catalina 800 (resina de
fenol formaldehdo)
250 57,6 0,000 226 2 482 674
Marblete (resina de fenol
formaldehdo)
240 57 0,000 31 2 456 813
Marblete (recocido 72
horas a 83C).
550 83 0,000 205 3 577 465
Kriston (alil ester monmero) 540 80 0,000 19 3 448 159
BT 61 (bakelita, resina
gliptal)
615 87 0,000 19 3 749 873
CR 39 (resina de Columbia o
carbonato de alil diglicol).
250 316 83,5 0,000 47 3 599 016
Marco resina ------ 145 ----- 6 249 788
Celuloide 350 245 0,001 10 559 986
Metil metacrilato (no plas-
tificado).
------- - 880 - 0,003 6 - 37 929 747
Vidrio comn 9 000 1 240 0,000 193 53 446 462
Vidrio de borosilicato 9 000 880 ----- 37 929 747
Vidrio de pedernal pesado 9 000 2 420 ----- 104 306 805
Vidrio de pedernal muy
pesado
9 000 - 1 740 ----- -74 997 455
Diamante ------ 1 200 1 445 -----
51 722 382
62 282 369
Poliestireno 310 -----