Introduo

Limpeza, tal como referido anteriormente, consiste essencialmente na

eliminao de restos de alimentos e outras partculas. Este processo pode ser
concretizado atravs de uma ao fsica (ex.: varrer, escovar, etc.), qumica
(utilizao de detergentes) ou mecnica (bombas de gua de alta presso, etc.)
sobre uma determinada superfcie. Na indstria alimentar, a maioria dos
procedimentos passa por uma ao conjunta da utilizao de agentes qumicos
(detergentes), auxiliados pela ao mecnica, pelo que neste captulo, far-se-
particular referncia aos detergentes.
Os detergentes modificam a capacidade de penetrao e remoo da sujidade
pela gua. Removem a sujidade atravs da degradao de gorduras, de
protenas e da dissoluo de sais minerais e impedem a re-deposio da
sujidade.
Agentes alcalinos
As solues de limpeza alcalinas tem um valor de pH entre 7 (neutro) e 14 (o
mais alcalino). Existem vrios tipos de agentes alcalinos:
Agentes altamente alcalinos
Estes produtos utilizam-se para a remoo de impurezas incrustadas ou
queimadas. Nas concentraes em que so usados so extremamente
corrosivos para muitos materiais e em contacto com a pele podem provocar
queimaduras muito graves. Na aplicao destes produtos, h que tomar
medidas de proteo pessoal. Exemplos de agentes altamente alcalinos:
hidrxido de sdio (soda custica) e silicatos.
Agentes moderadamente alcalinos
So eficientes na remoo de gorduras mas no na remoo de resduos
minerais. Estes compostos apresentam poderes de dissoluo moderados e
podem ser desde ligeiramente corrosivos a nada corrosivos. Como exemplo
temos o carbonato de sdio que muito usado em limpeza manual e em
sistemas de produo de vapor.
Agentes alcalinos suaves
So muito usados para a limpeza manual de reas ligeiramente sujas. Estes
compostos (por ex: solues de bicarbonato
de sdio) so eficazes em gua sem calcrio, mas no removem os resduos
minerais.
Agentes cidos
Os agentes de limpeza cidos removem os materiais que esto secos ou
incrustados nas superfcies e dissolvem os minerais. So produtos
especialmente eficazes na remoo dos depsitos minerais formados pelos
agentes de limpeza alcalinos. Quando a gua aquecida a temperaturas
superiores a 80C, alguns dos minerais depositam-se e aderem s superfcies

metlicas. Os agentes cidos dissolvem os minerais dos depsitos de modo a

que sejam facilmente removidos.
cidos orgnicos (como o ctrico, o tartrico, o sulfmico) no corroem
superfcies, no irritam a pele e so facilmente
removidos com gua.
Os cidos inorgnicos so excelentes a remover e a controlar os depsitos
minerais, mas podem ser bastante corrosivos para as superfcies e irritantes
para a pele. Os agentes cidos so usados mais para situaes muito
especficas do que para uso geral. Estes agentes so menos eficazes que os
agentes alcalinos na remoo de sujidades causadas por gorduras, leos e
protenas.
Agentes fortemente cidos
Estes compostos corroem a grande maioria dos metais e estruturas de ao. O
aquecimento de agentes cidos leva
produo de gases txicos e corrosivos que podem afectar os pulmes. Estes
agentes removem minerais e a matria
incrustada nas superfcies dos equipamentos de vapor, caldeiras e alguns
equipamentos de processamento alimentar.
Quando a soluo est muito quente, os minerais podem redepositar-se e
formar uma pelcula. O cido fosfrico um exemplo deste tipo de compostos.
Agentes moderamente cidos
Estes compostos so ligeiramente corrosivos e podem causar reaces
sensveis. Alguns destes produtos podem atacar a pele e olhos. Exemplos de
agentes moderamente cidos so: cidos levulnico, hidroactico e glucnico.
Os cidos orgnicos so adequados para limpezas manuais e conseguem
amaciar a gua. So, no entanto, mais caros
que outros agentes cidos.

Cloro Residual Livre (CRL)

A clorao um dos mtodos mais empregados para a purificao e

desinfeco de guas para consumo humano. O agente de clorao mais
empregado o cido hipocloroso (HCIO). Em meio aquoso o cloro (Cl2)
hidrolisa, formando os ons hidrognio e cloreto e o cido hipocloroso. O cido
hiplocloroso e o on hipoclorito so as principais responsveis pela oxidao da
matria orgnica poluente e pela inibio do crescimento bacteriano. A soma
de suas concentraes conhecida como cloro residual livre. Esta
concentrao depende fortemente da temperatura e pH do meio. Alm de ser
efetiva, a desinfeco pelo mtodo de clorao relativamente barata, e o uso
de um pequeno excesso do produto pode fornecer gua um poder residual de
desinfeco durante seu armazenamento e fornecimento. Um importante
inconveniente do uso da clorao para a desinfeco da gua a produo
concomitante de substncias orgnicas cloradas - algumas das quais so
txicas, evidenciando o motivo de um monitoramento contnuo e eficiente.