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1 Introduo

O efeito eletro-ptico imprescindvel para a modulao da luz e a comutao de sinais pticos, amplamente empregados em sistemas de comunicao ptica. Esse efeito pode ser utilizado para fabricar componentes pticos, por exemplo, moduladores e conversores de freqncia. A fabricao de moduladores em fibras pticas com resposta comparvel, mas que sejam ordens de grandeza mais baratos que os moduladores de Niobato de Ltio (LiNbO3), extremamente atrativa para aplicaes futuras em sistemas tipo fiber-to-the-home para o controle da entrada e sada de sinais de televiso, vdeo, computador,
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telefone e outros servios. A converso de freqncias um efeito com importantes aplicaes em diversos sistemas, como o de memrias hologrficas, memrias pticas em discos compactos (CDs), sistemas de display, e multiplexao de canais em sistemas de comunicao ptica. Caractersticas tais como: transparncia em uma larga faixa espectral, baixo custo, alto limiar de dano ptico, viabilidade de fabricao em estruturas guiantes (fibras pticas), baixa perda e possibilidade de apresentar processos no-lineares intrinsecamente muito rpidos tornam a slica um material excelente para aplicaes pticas. No entanto, vidros e fibras pticas de slica no apresentam no-linearidade ptica de segunda ordem, o que necessrio para a construo de conversores de freqncia, moduladores e chaves eletro-pticas. Atualmente, cristais no-lineares como o KTP e o LiNbO3, utilizados nesse tipo de dispositivo eletro-ptico, tm um custo da ordem de milhares de dlares. Atravs das tcnicas de polarizao eletrotrmica e/ou ultravioleta (UV) de slica possvel a gerao de uma no-linearidade ptica de segunda ordem, induzindo uma susceptibilidade de segunda ordem efetiva no meio, viabilizando assim o desenvolvimento de dispositivos pticos tais como moduladores eletro-pticos e de chaves pticas, que podem ser fabricados a partir de um material abundante e de baixo custo - slica. A polarizao eletrotrmica consiste no aquecimento do sistema vtreo (volumtrico ou fibra ptica) com a simultnea aplicao de uma

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grande diferena de potencial ao longo da espessura da amostra, utilizando-se dois eletrodos, que tanto podem estar em contato com a amostra quanto evaporados sobre ela. O aquecimento tem como objetivo o aumento da mobilidade dos ons presentes na matriz vtrea (tipicamente ons positivos de sdio, alumnio, ltio, clcio e potssio, que so impurezas no intencionalmente presentes no material). A aplicao da diferena de potencial ao longo da amostra aquecida permite o deslocamento desses ons de suas posies originais. Durante o processo, na regio sob o nodo, os ons positivos vo sendo retirados pela ao do campo eltrico aplicado, formando uma camada de depleo. Esta regio torna-se cada vez mais negativamente carregada, gerando um campo eltrico interno Edc cada vez mais intenso. Acredita-se que um complicado processo de neutralizao da camada de depleo ocorre durante a polarizao, com a emisso de eltrons da amostra em direo ao nodo, ou com a difuso de ons positivos do ar em direo
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amostra. Quando a amostra resfriada na presena da alta tenso, a configurao de cargas congelada, e o campo Edc permanentemente gravado na amostra. Aps a retirada da amostra do forno, tem-se uma camada de cargas negativas a uma profundidade w da superfcie andica, uma camada de depleo neutra com espessura w, e uma camada de cargas positivas atrada para a superfcie andica pelo intenso campo eltrico no interior da amostra. Uma vez que se tem um campo eltrico gravado em uma certa regio da amostra, a mesma tem sua simetria de inverso quebrada ao longo da direo de Edc. Uma nolinearidade de segunda ordem efetiva ento induzida na amostra, e acredita-se que (2) (3)Edc, onde (3) o termo de terceira ordem da susceptibilidade do material (que sempre diferente de zero, no importando se o material ou no macroscopicamente simtrico por inverso). A motivao principal deste trabalho entender melhor o processo de polarizao e otimizar o valor do (2) induzido em slica. Trabalhou-se tanto com amostras de slica volumtrica, quanto com fibras pticas especiais (ACREO). Um outro objetivo o de acrescentar a confiabilidade nos resultados, caracterizando as amostras polarizadas pela medio da potncia de segundo harmnico gerado e da largura de camada de depleo utilizando varias tcnicas de caracterizao. Por ltimo, obteve-se uma melhor compreenso da fsica do processo de polarizao, fazendo a caracterizao de amostras vtreas apagadas durante a polarizao com

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anodos depositados de alumnio e ouro e de amostras vtreas atacadas quimicamente (de forma parcial e total) antes de ser polarizadas, para estudar a influncia da condio inicial da superfcie. Uma introduo ptica no-linear feita no captulo 2, introduzindo elementos da teoria da ptica linear e no-linear. Tambm abordado neste captulo o tema de gerao de segundo harmnico, e so tratados os seguintes efeitos no-lineares: a teoria da gerao do segundo harmnico e o efeito eletroptico. No captulo 3, faz-se uma descrio e um breve histrico de trs mtodos de polarizao: Eletrotrmica, UV e Corona. O captulo 3 descreve, tambm, algumas tcnicas de caracterizao de amostras vtreas polarizadas tais como: Ataque Qumico Interferomtrico Longitudinal com cido fluordrico, Maker Fringe, Microscopia tica e de Fora Atmica (AFM), Ataque Interferomtrico com Medio do Segundo Harmnico em Tempo Real e Interfermetro de Mach PUC-Rio - Certificao Digital N 0116448/CA

Zenhder. No captulo 4 so descritos os procedimentos e as montagens experimentais utilizados para os experimentos de polarizao eletrotrmica com amostras volumtricas de slica. Tambm so apresentadas as montagens para caracterizao de amostras polarizadas atravs de varias tcnicas. Os resultados obtidos atravs das tcnicas de caracterizao: Maker Fringe, Ataque Qumico Interferomtrico Longitudinal (com cido fluordrico), Microscopia ptica e de Fora Atmica (AFM) e Ataque Interferomtrico com Medida de Segundo Harmnico em Tempo Real so apresentados no captulo 5. feita tambm uma comparao entre os resultados obtidos com cada tcnica. Neste captulo so discutidos tambm os resultados obtidos para a anlise de superfcie e a experincia de quatro pontos analisados em uma mesma amostra, atravs da tcnica de ataque interferomtrico. No captulo 6 estudado o efeito do tratamento trmico no apagamento da no-linearidade induzida em amostras de slica polarizada. O estudo foi realizado atravs da observao da dependncia da espessura da camada de depleo (w) com o tempo de apagamento. O perfil da susceptibilidade de segunda ordem induzida durante a polarizao tambm estudado para amostras polarizadas e submetidas a tratamento trmico durante vrios intervalos de tempo.

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No captulo 7 so descritos os resultados de medies realizadas para o estudo da influncia do campo eltrico na taxa de ataque de HF nas fibras especiais. No captulo 8 descreve-se a construo de um dispositivo (fibra especial com eletrodos inseridos) fibra e uma montagem para polarizar

eletrotermicamente fibras pticas especiais (ACREO), com o propsito de induzir uma no-linearidade de segunda ordem nestas fibras. No captulo 9 proposto o desenvolvimento de um atenuador ptico varivel (VOA - Variable Optical Attenuator) baseado em fibra ptica especial usando um interfermetro de Sagnac. As concluses so apresentadas no captulo 10.

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