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Introduo rotao Revestimento

Spin coating uma prtica comum na cincia moderna de engenharia e, onde utilizado
para depositar revestimentos uniformes de materiais orgnicos e / ou para distribuir
uniformemente as partculas sobre uma superfcie plana. [1,2] Em particular, o revestimento
rotativo usado na indstria da microelectrnica, a pastilhas de silcio com um revestimento
foto-resistente, no incio do processo de padronizao litogrfica. [3] De modo a conseguir-
litografia alta fidelidade, necessria uma pelcula foto-resistente liso, uniforme de espessura
previsvel e reproduzvel.
Um grande esforo tem sido investido em catalogar a dependncia da espessura e
uniformidade sobre estes parmetros experimentais, especialmente para revestimentos de
fotorresistentes padro. [4-7] anlises tericas de revestimento de rotao com base nos
princpios de hidrodinmica tem sido dificultado, em parte, devido complexidade fsica e
matemtica do sistema em comparao com a relativa facilidade de aquisio de dados do
processo. No entanto, mesmo a anlise parcial pode fornecer alguns insights sobre a eficcia e as
limitaes do processo.
Descrio Fsica e aproximaes comuns
No nvel mais bsico do sistema fsico sob considerao o de um fludo viscoso num
disco rotativo. (Fig 1.) As seguintes aproximaes so muitas vezes feitas: que o plano de
rotao horizontal, de modo que no h componente gravitacional radial; que a camada lquida
to fina que as diferenas de potencial gravitacional normal superfcie tm efeito
insignificante; e que a velocidade radial em todos os lugares pequeno o suficiente para que as
foras de Coriolis pode ser negligenciada.
Para simplificar ainda mais o problema, uma ou mais das seguintes aproximaes
adicionais podem ser feitas: a de que o plano de rotao infinito; que a camada lquida
radialmente simtrico; que o lquido newtoniana; que a resistncia ao cisalhamento s
aprecivel em planos horizontais; e que a superfcie j est completamente molhada. Estas
premissas so certamente nem sempre justificada, no entanto a sua incluso fornece um ponto de
partida eficaz para um tratamento quantitativo do sistema. Embora um exame completo de
evaporao do solvente no revestimento por rotao complexo, que no pode ser ignorado. Ele
ser apresentado em diferentes graus de aproximao na anlise a seguir.

Aproximao de No evaporao
Ignorando completamente a evaporao, a fsica bsica foram trabalhados pela primeira
vez por Emslie et. ai. [8] Ao fazer todas as premissas descritas na seo anterior, e igualando as
foras viscosas e centrfugas por unidade de volume, voc comea:

onde a viscosidade, a densidade do lquido, a velocidade de rotao, e v a velocidade
radial em qualquer ponto (r, , z). Por convenincia, = / define a viscosidade cinemtica.
Integrando-se com as condies de contorno que v = 0 na superfcie do disco de z = 0, e que dv /
dz = 0 na superfcie livre, onde no pode haver uma fora de cisalhamento, d:

De v, fluxo radial q facilmente obtido por integrao ao longo z. h a espessura da pelcula.
Combinando isso com equao de continuidade:

d a equao diferencial que regula a espessura da pelcula lquida sobre a superfcie como uma
funo do tempo:

Para verificao, para uma distribuio uniforme lquido inicial (h independente de r), a
distribuio final de lquido tambm uniforme, e uma espessa camada dilui significativamente
mais rpido do que uma fina assim no haver uma tendncia para a uniformidade dos filmes
iniciais no uniformes.

Usando esta equao e a ltima expresso derivada:

pode-se escrever:

com solues:

Estas solues oferecem as coordenadas (r, h) de qualquer ponto sobre a superfcie do
disco, em termos de coordenadas originais (r0, h0). Emslie et. ai. analisar o problema ainda mais
considerando a dependncia do tempo e do raio de vrias distribuies de fluido iniciais
diferentes, e encontrar a aumentar a uniformidade com o aumento do tempo de centrifugao,
dentro do intervalo de validade do conjunto inicial de hipteses. claro que, uma vez que existe
um disco infinito e nenhuma soluo evaporao para engrossar e solidificar o lquido,
continuar a fluir radialmente para fora e magro para sempre.
Aproximao de evaporao constante Depois de um Set Point
A fim de produzir uma pelcula slida por meio de revestimento por centrifugao, a
soluo deve evaporar-se. No incio da concentrao do soluto uniforme. O solvente evapora-
se uniformemente sobre toda a rea de superfcie, causando uma concentrao de slidos c (t),
para aumentar, de forma independente de r desde h independente de r para filmes uniformes.
Fazendo as aproximaes adicionais de i) que c independente de z, ii) o volume da soluo do
lquido igual ao volume do solvente mais o volume do soluto, e iii) que a taxa de evaporao
apenas uma funo do experimental parmetros tais como a velocidade de rotao, pode-se
definir um volume por unidade de rea de lquido L e S de slido, de modo que c (t) = S / (S + L)
e h (t) = S + L. A espessura da pelcula inicial ir diminuir uniformemente, como antes, mas a
taxa de desbaste diferente. A taxa de variao de S e L devido ao escoamento e a taxa de
evaporao e [7]

Estas so as taxas de variao de volume por unidade de superfcie e, em teoria, podem
ser integrados a partir dos valores iniciais de espessura e concentrao at L = 0 e apenas a
pelcula slida continua. No entanto, eles no podem ser resolvidos analiticamente.

Meyerhofer resolve-los numericamente, com uma relao emprica entre a viscosidade ea
concentrao de = solvent + solids * Cy, com em torno de 2,5 para fotorresistentes. [7] Ele
determina que, se a velocidade de centrifugao rpido o suficiente para que a espessura final
no depende da espessura da soluo inicial, mas apenas na velocidade de centrifugao - rpido
o suficiente para gerar uma fase dominada pelo fluxo que diminui S0 em 50% ou mais - em
seguida, uma soluo aproximada razovel pode ser obtido dividindo o processo de revestimento
por centrifugao em duas fases. (. Figura 2, c e d) No primeiro, as foras viscosas
predominantemente determinar a espessura da pelcula. No segundo, o filme tornou-se
suficientemente fina e densa o suficiente para que o fluxo de fluido pra essencialmente, ea partir
desse ponto em diante a evaporao do solvente domina. A transio, em que a taxa de
evaporao e da taxa de fluxo viscoso tornam-se iguais, pode ser considerado o ponto em que os
conjuntos de "pelcula" ou gis sobre o substrato. Assim, o estgio lucros iniciais at as
contribuies de evaporao e de sada so iguais:

com c ~ c0 e ~ 0 uma vez que at este ponto da concentrao da soluo tem sido constante.
Alm deste ponto, sada insignificante, e:

Especialmente para filmes inicialmente grossas e velocidades de rotao mais elevadas,
este resultado uma aproximao muito boa para a soluo numrica das equaes completas
com parmetros idnticos.
A viscosidade uma funo particular do material de revestimento a ser rodada; no
entanto e no uma constante, mas proporcional taxa de fluxo de ar sobre a superfcie, o que
por sua vez est (mais simplesmente) proporcional raiz quadrada da velocidade de rotao. [9]
Com isto em mente:

com uma constante de proporcionalidade dependente do fluxo de ar que tem de ser medido por
um determinado dispositivo de revestimento de centrifugao. A dependncia da espessura da
pelcula final sobre a raiz quadrada inversa da velocidade de rotao o mais comum relatada
relao experimental entre estas duas grandezas, [10], de modo a sistemas simples experincia e
teoria j esto em concordncia.
Bornside et. ai. em 1991 [10] modificar ligeiramente esta anlise, para eliminar as
constantes empricas da equao. Eles estabelecem a taxa de evaporao como:

onde k o coeficiente de transferncia de massa, xa0 a concentrao inicial do solvente
no lquido de revestimento, e xA a fraco de massa de solvente no lquido de revestimento
que estaria em equilbrio com a fraco de massa de solvente no gs a granel. Em seguida, a
espessura do filme molhado quando cessa sada est:

e a espessura do filme seco com nenhum lquido que permanece no fim do processo :

com a dependncia de tirou explicitamente. c depende do nmero de Schmidt (a razo entre a
viscosidade cinemtica e difusividade de massa) do gs ambiente, Dg a difusividade do binrio
do solvente no gs ambiente, g a viscosidade cinemtica do gs ambiente, pA * a presso de
vapor do solvente puro, temperatura T, e MA o peso molecular do solvente. [10] Bornside et.
ai. derivar esta relao do coeficiente de transferncia de massa, para o transporte a partir da
superfcie de um disco giratrio infinito para o volume de um fluido semi-infinito de fluxo
laminar sobre ela, [11-13] juntamente com a relao entre a presso de vapor e uma fraco
molar em soluo ideal. [14] Os comparar este resultado com os dados experimentais obtidos
utilizando rotao poli revestido (metacrilato de metilo) dissolvido em clorofrmio, e obter a
concordncia razovel com os resultados tericos.

Resumo e Concluso

Em suma, o nvel mais bsico de anlise capaz de demonstrar por spin coating tantas
vezes produz de forma confivel um filme de espessura uniforme; reproduz a dependncia
experimental habitual da espessura do filme em velocidade de centrifugao; e em casos simples
que pode prever a espessura do filme final, explicitamente baseado apenas em parmetros do
processo e as propriedades dos materiais. Defeitos e no uniformidades em Spin revestido filmes
(Fig. 3), em ltima instncia resultar de efeitos negligenciadas que se tornam importantes em
casos individuais. Um exemplo o de partculas de terra em um substrato, o qual pode produzir
estrias, como ilustrado na fig. 3a. Para uma investigao ab initio de defeitos e no
uniformidades do processo, pode-se relaxar pressupostos adicionais no modelo terico,
normalmente custa de uma soluo analtica.
Para ler mais, Acrivos et al. mostram que a uniformidade em si no garantida para
lquidos no-newtonianos. [15] Moriarty et. ai. comear a considerar os efeitos da propagao
frontal. [16] Bornside considera os efeitos da variao na composio, viscosidade e difusividade
em funo de z. [17] Schwartz et. ai. considerar a incluso de viscoso, capilar, gravitacional,
centrfugo, de Coriolis e do ngulo de contacto efeitos finitos, mostrando, por exemplo, que uma
das principais causas dos dedos durante a acelerao (Fig. 3b) de molhagem do substrato
imperfeita. [18]


http://large.stanford.edu/courses/2007/ph210/hellstrom1/