ABLATION LASER (TECHNIQUE OF NANOTECNOLOGY)

DE: ALONDRA HERNNDEZ CEDILLO

Es el proceso de eliminacin de material
de un slido (o lquido de vez en cuando)
de la superficie por irradiacin con un
haz de lser.
En la ablacin por lser, de alta potencia
pulsos de lser se utiliza para evaporar
la materia a partir de una superficie
objetivo.
Como resultado, un chorro supersnico
de partculas (plume) se expulsa normal
a la superficie objetivo.
(Plume), se expande con una distribucin de velocidad fuerte hacia adelantedirigida de las diferentes partculas. En el se condensan especies ablacionada
sobre el sustrato situado frente a la puerta.
El proceso de ablacin se lleva a cabo en una cmara de vaco - ya sea en
vaco o en presencia de un gas de fondo. En el caso de pelculas de xido, el
oxgeno es el gas de fondo ms comn. Por ejemplo, la presin de oxgeno para
pelculas delgadas de YBCO es de aproximadamente 0,2 mbar. Adems, la
temperatura del sustrato tiene que ser lo suficientemente grande (700-800 C)
y uniforme a travs del rea del sustrato entero para obtener pelculas
epitaxiales. Laser-pulso densidad de energa en el objetivo tambin debe ser
mayor que un cierto valor umbral (por YBCO, 1 J / cm ).
Para aplicaciones de componentes, el espesor de la pelcula es tpicamente
100-200 nm. Con una velocidad de deposicin tpica (0,1 nm / pulso), unos
pocos miles de impulsos lser se requieren. El rea de la pelcula est
determinado por las dimensiones de la parte central de la pluma, y es
tpicamente 1 cm . El rea se puede incrementar mediante el escaneo del
punto de lser a travs del objetivo o de la pluma a travs del substrato,
moviendo el sustrato respecto a la pluma, o mediante el aumento de la
distancia del blanco-sustrato.
Los lseres de femtosegundo cuentan con otras ventajas. Adems de apenas
calentar una superficie, que produce un aerosol compuesto de una mucho ms
fina de tamao de partculas de distribucin de un lser de mayor duracin. Un
lser de nanosegundos produce partculas que van desde cinco nanmetros a
cinco micras de dimetro, que es demasiado diversa para la mayora de
dispositivos espectroscpicos. Un lser de femtosegundo, por otra parte, los

rendimientos de las partculas que tienen un promedio de aproximadamente

200 nanmetros de dimetro, lo que hace que el anlisis espectroscpico
mucho ms precisa.

Si est en el fondo, est en la nube, gracias a la capacidad de un lser de

femtosegundo para la ablacin de una superficie sin calentamiento.
La ablacin con lser elimina los pasos de preparacin de muestras largas que
normalmente se requiere para el anlisis de slidos por ICP e ICP-MS,
ofreciendo una opcin para el anlisis de resolucin espacial de caractersticas
pequeas aisladas en una superficie de muestra slida heterognea, al tiempo
que permite una precisin de muestreo y profundidad de perfiles.
Introduccin
La ablacin con lser es un mtodo rpido analtico que emplea tpicamente
una lente objetivo para enfocar un ultravioleta pulsada (UV) del haz lser sobre
una superficie de la muestra slida (vase la Figura 1) con la irradiancia
suficiente para la ablacin de una pequea cantidad de material. Una nube de
"humo" se levanta de la superficie de la muestra. Esto puede ser un nico
(transitoria) evento producido a partir de un pulso lser, o de varios pulsos.
Alternativamente, el lser puede ser disparado repetidamente a velocidades de
1 a 20 Hz (o ms) durante un perodo que duran desde varios segundos hasta
un minuto (o ms), produciendo un flujo constante de humo que sale de la
superficie de la muestra.

Figura 1. Diagrama de un sistema de ablacin por lser

Haciendo referencia de nuevo a la Figura 1, el humo de la ablacin se mezcla
continuamente con una corriente de gas debido fl habitculo que se desplace a
travs de la ablacin celular. El vehculo es normalmente argn o una mezcla
de argn y helio. El gas portador barre ablacin humo fuera de la clula y la
ablacin en una longitud de tubera de interconexin que lleva a que el
instrumento externo, que normalmente es un ICP (plasma acoplado
inductivamente espectrmetro de emisin ptica) o ICP-MS (espectrometra de
masas). El ICP y los instrumentos de ICP-MS realizar anlisis elemental del
slido original por emisin ptica o anlisis espectral de masas del humo que
se atomiza y / o ionizados por el plasma caliente argn. De los dos
analizadores, ICP-MS es (por el momento) el ms sensible, sin embargo
tambin es ms caro y requiere un mantenimiento adicional y servicio. La
ablacin con lser elimina largas etapas de preparacin de muestra que
normalmente se requieren para el anlisis de los slidos por ICP e ICP-MS (que
son otras caractersticas como analizadores de lquidos). La mayora de los
sistemas lser disponibles comercialmente de ablacin combinar un
microscopio de visualizacin y / o la cmara de vdeo ampliada opcin de
imagen con el haz de lser para (protegido) "selectivo" de visualizacin de la
superficie de la muestra. Como se muestra en la Figura 1, la combinacin de
las dos trayectorias pticas (lser y cmara de vdeo) se puede lograr usando
un espejo dicroico que refleja la luz lser a la muestra, pero transmite la luz
visible blanca de la muestra a la cmara de vdeo.

La ablacin con lser puede entonces adems, ofrecen una opcin para el
anlisis resuelta espacialmente aislados de pequeas caractersticas tales
como inclusiones de gas o de lquido, (burbujas en el slido, como en la Figura
2), granos incrustados, defectos, etc, en una muestra slida heterognea
superficie. Finalmente, el control de parmetros de ablacin con lser permite
el muestreo precisin la profundidad y la profundidad ling profi incluso en
condiciones favorables.
Mecanismos de ablacin
Ablacin ablacin trmica trmica es un proceso siempre presente, pero
indeseable en la que se absorbe un pulso de lser dentro de un cierto volumen
de la muestra slida, en el que un proceso de calentamiento se produce
posteriormente a travs del tiempo, dando lugar a la fusin de la muestra
localizada, ebullicin y vaporizacin trmica final. "Pure" ablacin trmica no es
deseable porque los procesos asociados son tasas variables errticos y el
rendimiento de ablacin de acuerdo con las variaciones en la conductividad
trmica local, en el punto de fusin, punto de ebullicin, y el calor de
vaporizacin para tipos de muestras diferentes, e incluso para diferentes
elementos y compuestos contenidos dentro de una muestra dada. Fusin
fraccionada y efectos fracciones de volatilizacin del crter, seguido por los
efectos de condensacin fraccionada en el gas portador fresco, a continuacin,
dar lugar a diferentes tamaos de partcula de aerosol, as como de ablacin a
la deriva y las tasas de transporte de masas que se convierten en difciles de
calibrar. Esto conduce a una mala precisin analtica y de precisin, en
particular en un anlisis de punto fijo, a menos que estndares de calibracin
son casi idnticamente emparejados en composicin a la muestra desconocida.
Resultados de ablacin trmica de una combinacin de longitudes de onda y
ancho de pulso es demasiado largo, y las densidades de energa enfocada por
segundo (colectivamente llamado "radiacin" se mide en J / cm / ns) son
demasiado bajos para promover un bien Opto-mecnico ablacin, como se
seala en la seccin siguiente.
Opto-mecnico (OM)
Ablacin Este es el proceso preferido debido a que es nominalmente
independiente de las propiedades trmicas, tales como la fusin y ebullicin
variaciones puntuales de los diferentes elementos y compuestos en la muestra.
En la ablacin con OM, un pulso de lser es absorbido en un pequeo volumen
de la muestra slida, con suficiente rapidez y densidad de energa (de nuevo,
la irradiancia llamados colectivamente) para desestabilizar mecnicamente la
regin localizada, provocando una explosin controlada localizada en la
superficie que se produce antes de los efectos trmicos tienen tiempo a
fuertemente manifiesto. En condiciones favorables, la explosin controlada
expulsa muchas pequeas partculas slidas como un aerosol a partir de un

crter de ablacin. El inflado resultante de humo que sale de la superficie de la

muestra es barrida fuera de la clula por el gas portador y en el analizador de
ICP o ICP-MS. Para la ablacin OM, estndares de calibracin no necesita ser
tan estrechamente ligada a las muestras. Ablacin OM requiere una longitud de
onda corta, corta por ancho de pulso de lser con energa adecuada para un
material dado.
En realidad, no es posible eliminar por completo la ablacin trmica, y por lo
tanto una combinacin de ablacin trmica y OM generalmente ocurrir. La
clave est en controlar las condiciones de ablacin por lo que la ablacin OM es
predominante. Cuanto ms predomina este tipo de ablacin es la calibracin
ms fcil y ms fiable ser.
Explosin de superficie controlada
Para lograr un tamao pequeo, aerosol de partcula relativamente uniforme
propicio para el transporte eficiente de la masa del aerosol a la ICP, buena ICP
o sensibilidad ICP-MS, seales estables, y calibracin fiable del sistema, es
importante que la controlada explosin OM ocurren relativamente cerca de la
de la muestra superficie superior. La explosin no deben proceder de las
profundidades de la muestra a granel. Una explosin ocurre OM excesivamente
profundo debajo de la superficie de la muestra ser un "rough" explosin,
inducir efectos aplastantes, y la expulsin de "grava grande" del crter, en
lugar de pequeas partculas de aerosol. Para mantener el evento OM
explosin cerca de la superficie de la muestra, un pulso de lser individual no
se debe permitir que penetre profundamente en la muestra antes de que se
absorba completamente. Ejemplo de opacidad por lo tanto debe ser alto en
relacin con la longitud de onda del lser. Materiales pticamente
transparentes son por lo tanto el tipo ms exigente de la muestra para la
ablacin con lser. Debido a la opacidad ptica para la mayora de los
materiales se eleva abruptamente como longitudes de onda disminuye por
debajo de 300 nm, las ventas de sistemas analticos de ablacin por lser
consiste casi exclusivamente de longitud de onda corta (UV) lser, con la
longitud de onda de 193 nm en general, siendo la ms favorecida cuando hay
fondos suficientes para comprar una o excimer lser de estado slido 193 nm.
Lseres UV de longitud de onda ligeramente ms largo (por ejemplo, 213 nm o
266) se seleccionan sobre la base de los presupuestos limitados de los
laboratorios de equipo de capital, y / o para las muestras de opacidad
inherentemente alto en estas longitudes de onda. Por ejemplo, en el anlisis
metalrgico y el suelo, la opacidad de la muestra es suficientemente alta para
que la ablacin 266 nm es ya ideal, y el mismo es probablemente cierto para
los plsticos, tejidos biolgicos, carbn, esquistos de petrleo y otros
materiales altamente coloreados. La ablacin a 213 nm ha convertido
ltimamente en un compromiso muy popular para muchos laboratorios.

Patrones de ablacin
Crter Single
Crter individual o perforacin de un agujero corresponde a un anlisis
localizada, punto estacionario de la muestra, y es til cuando una caracterstica
particular aislado en un material heterogneo es de inters, como en el anlisis
de gas pequeo o inclusiones de fluidos (tales como los de la figura 2), granos
incrustados, defectos, etc el dimetro del punto lser generalmente deben ser
del mismo tamao o ms pequea que la inclusin de la abertura, o el defecto
localizado, granos, etc que se analiza. Por inclusiones, etc, de tamao variable,
es por lo tanto importante que el sistema de ablacin lser proporcionan una
variedad de dimetros de ambas manchas para elegir, normalmente ofrece una
variedad de posibles crteres de ablacin por lser que van desde 4 hasta 200
micras de dimetro, como se muestra en la figura 3.

Line Scan y barrido de

Lnea de exploracin o rastering en la superficie de la muestra se consigue
permitiendo que el X motorizado y / o Y etapas de muestra de traslacin para
mover la celda de muestra horizontalmente durante la ablacin. Si la velocidad
de barrido de traslacin es suficientemente lenta con respecto a la frecuencia
de repeticin del pulso lser, entonces la superposicin de ablacin adyacentes
crter (en sucesivas cenizas fl) llega a ser tan extensa que el lser
esencialmente corta una zanja ya sea en una lnea recta (lnea de exploracin vea la Figura 4 ),

o en una ida y vuelta (raster) con patrn fuera del set, al final de cada lnea.
Las tasas de exploracin suelen oscilar desde 5 hasta 100 micrmetros /
segundo. Exploraciones de lnea y / o de barrido se utilizan para el anlisis a
granel, en vez de anlisis de punto. Lnea de exploracin o rastering produce la
ms estable, de estado estacionario seales en el rango de 2 a 5% RSD
estabilidad (desviacin estndar relativa), y a menudo mejores que esta en
altas tasas de ablacin y las concentraciones elementales razonablemente
altas. Para un anlisis grueso de la muestra, una lnea de exploracin o patrn
de trama es casi siempre preferible. Esto normalmente requiere que la muestra
sea plana o tener una zona plana en algn lugar sobre el mismo. Esta zona
plana necesita ser colocado con precisin en la horizontal, que es precisamente
perpendicular al haz lser, para mantener el lser enfocado durante la
exploracin de lnea. Si el rea plana no est orientada perpendicular a la viga,
entonces una lnea de exploracin rpida puede causar una prdida de foco del
lser. Cuidadosa de montaje de la muestra es por lo tanto importante mantener
el rea plana precisamente en la horizontal, o por lo menos exactamente
paralela a los ejes X, Y de traslacin de las fases de precisin de movimiento.
Tipos de lser
La industria de la ablacin lser analtica ha desarrollado principalmente en
torno a impulsos, Q-switched, la frecuencia multiplicada YAG lser Nd-. Nd-YAG
lser sistemas siguen siendo, con mucho, los ms vendidos en la ablacin con
lser de hoy en da debido a consideraciones de precio, el hecho de hallarse en
estado slido, y su disponibilidad en tres diferentes longitudes de onda UV (266

nm, 213 nm y 193), con un rendimiento buenas caractersticas de ablacin en

una amplia variedad de materiales de muestra slidos.
Lser Excimer, especficamente el ARF (fluoruro de argn) que funcionan con
lser a 193 nm, ms recientemente, han llegado a ser prominente en
laboratorios seleccionados que tienen los medios financieros para pagar el
aumento del costo de este lser y, adems, dispuestos a lidiar con el riesgo
para la seguridad y el costo adicional asociado con el almacenamiento y el uso
de una mezcla de 1% de flor en atmsfera de argn en el laboratorio. Desde
el excimer ArF slo existe en el estado excitado (de ah el nombre excimer),
debe ser formado in situ-en el lser de cavidad de flor y argn. La longitud de
onda nm 193 normalmente ofrece caractersticas superiores de ablacin, y la
versin excimer (nm lser de 193) ofrece una mayor estabilidad de la potencia
de su homlogo de estado slido nm 193.
Ancho de pulso y densidad de energa-Colectivo Irradiancia
Anchos de pulso de los comnmente empleados lseres Q-switched UV son
tpicamente 4 a 25 ns. Dentro de este rango, acortar la anchura del impulso
afecta dramticamente las caractersticas de ablacin y el resultado analtico,
especialmente al realizar ablaciones puntuales estacionarias. Por ejemplo, de
alta energa condiciones de ablacin densidad (hasta 35 J / cm ) a 266 nm con
un ancho de pulso 9 ns puede mejorar las caractersticas de punto de ablacin
y disminuir de fraccionamiento una elemental variante de tiempo del efecto
matriz afectar negativamente a la estabilidad de la seal y de calibracin-en
variedad un de materiales, en comparacin con la ablacin convencional 266
nm en 6 a 9 J / cm . Sin embargo, cuando el ancho de pulso se reduce a 4,5 ns,
se ha encontrado que la misma mejora se realiza a densidades de energa
mucho ms bajas. As, la densidad ptima de energa (J / cm ) para la ablacin
de un material dado es en realidad una fuerte funcin de la anchura del pulso
lser, y corresponde a los analistas para ser consciente de la anchura de
impulso de sus sistemas. El parmetro clave es realmente irradiancia, que se
obtiene dividiendo la densidad de energa, a veces denominado fluencia, por el
ancho de pulso para producir J / cm / ns. La irradiacin es el mejor indicador
general de las condiciones de ablacin para un material determinado de la
muestra y la longitud de onda. Se pueden variar ampliamente con los cambios
en la energa de salida del lser cabeza, la eficiencia de transferencia ptica, la
proporcin global demagnification ptico ("desenmascarado" dimetro de
punto), y la anchura del pulso lser.
Longitud de onda lser
Aunque las longitudes de onda que van desde 157 nm (UV vaco) a 1064 nm
(infrarrojo cercano NIR) se han empleado, las longitudes de onda ms utilizados
en los sistemas comerciales de ablacin por lser son actualmente 266 nm,

213 nm, o 193, que se consideran "aire camino "UV. Las longitudes de onda UV
son necesarias para garantizar la opacidad de muestra suficiente para el
impulso de lser que se absorbe rpidamente cerca de la superficie para
reducir al mnimo las influencias trmicas y effectthe deseado explosin
superficial controlada que produce el tamao de la ablacin de partcula ms
pequeo y ms uniforme. En trminos prcticos, la opacidad de la muestra y
de las indicaciones de tamao de partcula tpicamente debe ser equilibrado
contra el presupuesto de laboratorio y de precio de compra de equipos, como
se indica conceptualmente dentro de la serie de longitud de onda lser de
ablacin, como se muestra en la Tabla 1.

Al equilibrar el deseo de opacidad alto de muestras y pequeas partculas de

ablacin a la compra de equipos, longitudes de onda lser generalmente no se
elige en el extremo izquierdo de la serie anterior. Ni los 1064 nm 532 nm
longitud de onda, ni se emplean comnmente. Selecciones prcticos, por lo
tanto en la actualidad reducido a una. Subconjunto de 266 nm, 213 nm y 193
Seleccin dentro de este subconjunto prctica est normalmente dictada por
una combinacin de opacidad de la muestra y el presupuesto de laboratorio.
Laboratorios de alta presupuesto a menudo elegir 193 nm, pero la mayora de
los presupuestos de laboratorio son ms limitados, por lo que el nmero de
sistemas de 193 nm realmente vendidas no es muy alta. Adems, muchos
tipos de muestras que tienen opacidades naturalmente ricos en longitud de
onda ligeramente ms largo (por ejemplo, plsticos, tejidos biolgicos, carbn,
esquistos bituminosos, suelos, metales, aleaciones, sper aleaciones, y
materiales de colores oscuros en general) por lo que es innecesario en estos
casos invertir en un sistema de ablacin 193 nm lser cuesta entre EE.UU. $
190.000 y $ 300.000 (dependiendo de las caractersticas y opciones, y sin
contar el coste del ICP-MS). 266 nm y 213 nm en la actualidad los sistemas al
por menor de EE.UU. entre $ 85.000 y $ 95.000, respectivamente, y son por lo
tanto ms frecuentemente comprados, con 213 sistemas nm siendo
actualmente los vendedores ms frecuentes. La Figura 4 muestra que tanto
266 nm y 213 nm lser puede producir buenas ablaciones lnea de exploracin,
incluso en cuarzo. (Tenga en cuenta que la exploracin nm 213 en lnea de
cuarzo es ligeramente "ms limpia"-less "rotura" en los bordes de la zanja
ablacin-debido al aumento de la opacidad de cuarzo a esta longitud de onda.)
Viga en forma

Los lseres producen inherentemente una distribucin de intensidad gaussiana

en todo el perfil de la viga. Esto lleva a un punto caliente en el centro y las
tasas de ablacin variadas en el punto de lser enfocado. Se debe enfatizar
que esto no es un problema en el anlisis grueso de slidos usando una lnea
de exploracin o barrido de patrn. Seales estables y anlisis de buenas a
granel se puede realizar con un haz Gaussiano, si una exploracin de lnea o
patrn de trama se emplea moviendo la muestra constante (horizontalmente)
en una etapa de traslacin motorizada precisin durante la ablacin.
Sin embargo, en el anlisis de punto localizado el perfil de haz gaussiano
puede ser problemtico en que el material est siendo muestreada a diferentes
profundidades por diferentes partes de la viga. El resultado final para el anlisis
in situ o perforacin del orificio fijo es que el agujero es taladrado demasiado
profundamente y con frecuencia demasiado violentamente en el centro, la
induccin de dificultad con el gas portador partculas de ablacin eficiente
barrido fuera del crter, y con el fraccionamiento elemental desestabilizacin
de la seal en el tiempo . Con seales de los diferentes elementos flotantes a
diferentes velocidades y direcciones distintas, incluso en el anlisis in situ con
un haz gaussiano, la calibracin se hace difcil y poco fiable. Por esta razn, un
haz de lser se homogeneiz con un fl a-rematado perfil se desea crear en fl de
fondo crteres de ablacin, como se ve en la Figura 5, para cualquier aplicacin
de anlisis de punto o estacionaria agujero de perforacin. A ms estables de
perforacin de orificios resultados de seales de calibracin, y se hace ms
fcil y ms confiable.
Figura 5. Microfotografa electrnica de barrido

(SEM) del crter punto de ablacin en jadeta mineral, una fl excepcionalmente

de fondo en crter fue producido por ablacin estacionaria con un haz
homogeneizada (multimodo)213 nm lser.
Homogeneizacin de haz para lseres de Nd-YAG se consigue tpicamente con
un lser multi-modo, que tiene una zona natural de cerca-fi homogeneidad del
haz ELD cerca de la cabeza del lser, lo que se logra mediante la colocacin de

aberturas seleccionables de tamao variado en esta zona (ver Figura 1), y la

imagen de la abertura con iluminacin posterior para el plano de muestra.
(Nota: la modificacin de las aberturas seleccionables en la rueda de diafragma
de la figura 1 producido el tamao diferente (demagnified) crteres de ablacin
por lser de la Figura 3.) Homogeneizacin de haz con lser excimer se realiza
tpicamente con una ptica externa homogeneizadora de haz (no mostrado).
Profundidad de Foco
Este parmetro determina la fl en la muestra debe ser para un anlisis mayor
que implica una lnea de exploracin o modelo raster, y con qu precisin debe
ser enfocado para cualquiera de los agujeros de perforacin o rastering para
evitar la prdida de la densidad de energa o radiacin. Profundidad de enfoque
se determina por una combinacin de divergencia de haz lser, la longitud
focal de la lente objetivo, y la relacin de demagnification general del sistema.
Profundidad tpica de enfoque para un F = 38 mm lente focal objetivo longitud
en un sistema de ablacin de 266 nm lser es de alrededor de 200 micras, pero
a veces es incluso menos con algunos sistemas de 193 nm. La muestra debe
ser por lo menos "que en fl" y la fl menos debe colocarse por lo menos "que en
paralelo" a los ejes X, Y traduccionales escenario para una lnea de exploracin
o patrn estable rastered anlisis granel.
Un RAD-endurecido inusual sistema de ablacin lser recientemente diseado
para el anlisis de residuos nucleares, el RAD-8 por Spectra-Lase, emplea una
lente de longitud focal ms larga objetivo (F = 310 mm) y presenta una
profundidad de foco de 1 mm para un enfoque ntido, y de hasta 2 mm con slo
limitadas desenfoque de la imagen. Esto es significativamente ms tolerantes
de errores de enfoque lser, y es especialmente tolerante a las variaciones
relativamente grandes en la planeidad de la superficie (morfologa), incluso
mientras se realiza el anlisis a granel con una lnea de exploracin o patrn de
trama. Es interesante tener en cuenta que, con una gran profundidad de foco,
superficies desiguales con tanto como un milmetro de variacin en la
planeidad de la superficie potencialmente pueden ser analizados por la lnea de
escaneado o rastering patrones, sin necesidad de preparar un fl en la superficie
mediante molienda y / o pulido. Esto tiene el potencial para mejorar an ms la
naturaleza preparacin libre de anlisis de ablacin lser, cada vez mayor es el
anlisis de inters y las lentes focales cortas de longitud objetivos no son
necesarios.
Muestreo efecto de profundidad
La profundidad del muestreo depende generalmente de una combinacin de la
opacidad del material en la longitud de onda del lser, la potencia del lser y la
densidad de energa enfocada y la anchura de pulso (colectivamente
irradiancia) empleado, y el nmero de cenizas fl realizadas en una zona

determinada localizada. Cuanto menor sea la muestra de opacidad, mayor es

la potencia del lser, la ms altamente enfocado el haz, mayor es la tasa de
repeticin de pulsos (Hz), y ms largo ningn punto se realiza la ablacin, el
ms profundo es el analista se perfore un crter dada en un en una ubicacin
fija. Correspondientemente, si la muestra se traduce lateralmente durante la
ablacin en una lnea de exploracin o patrn rastering, a continuacin, ms
lentas velocidades de barrido en el que la muestra se mueve en la viga
resultar en una zanja ms profunda de longitud reducida de ser cortado. Ms
rpidas velocidades de exploracin o barrido de resultar en un corte menos
profunda trinchera, pero ms largo. Por lo tanto, para un tiempo de anlisis
dada asignada para adquisicin de archivos de datos, tasas lentas de escaneo
usar hasta menos de la superficie de la muestra disponible, manteniendo ms
del rea de superficie de referencia estndar para la reutilizacin en futuros
anlisis de otras muestras. Las rpidas velocidades de exploracin utilizar
hasta el rea de superficie disponible antes, y estndares de referencia caros
ser ms en poco tiempo. Hay que sealar sin embargo que los rendimientos
de escaneo rpido slo un corte poco profundo y superficies de referencia
estndar a menudo puede ser restaurada por la superficie de esmerilado o
pulido.
Para el anlisis in situ a travs de perforacin de pozo, es importante para
evitar la perforacin demasiado profundamente, a fin de evitar efectos
elementales de fraccionamiento afecten negativamente a la estabilidad de la
seal y de calibracin. Para ideales 266 nm ablacin lugar, la profundidad del
crter final no debe exceder preferentemente 25% del dimetro de la mancha,
y ciertamente nunca ms de 100% del dimetro de la mancha. Crteres anchos
y poco profundos siempre da seales de ablacin ms estables y calibracin
ms fiable para el anlisis in situ de las estrechas y profundas. Lnea de
exploracin o rastering, como se ve en la Figura 4, produce tpicamente cortes
significativamente menos profundas o zanjas, seales ms estables, y la
calibracin general ms fiable que el taladrado, pero se limita principalmente a
anlisis granel.
Profundidad Profi ling
Profundidad profi ling puede ser alcanzado simplemente utilizando un tiempo
de integracin corto para reunir datos resuelta en el tiempo, mientras que un
agujero de perforacin estacionario operacin de ablacin est en curso. Los
datos tendrn que ser exportados a un paquete de software externo a fin de
correlacionar los datos elementales con la profundidad. El conocimiento de
tiempo transcurrido durante la ablacin ms la tasa de ablacin sern
necesarios para establecer la profundidad a la que se adquiri cada dato. Tasas
de ablacin puede ser determinado de manera independiente para el material
separado por perforacin de un agujero relativamente profunda y contando el
nmero de lser cenizas fl que se produjeron en hacerlo. A medida posterior

externa de una profundidad del agujero resultante por otros medios, dividido
por el nmero total de cenizas fl, permitirn establecer la tasa de ablacin por
flash. En la prctica, los lmites mximos de los perfiles de profundidad
profundidad efectiva por este medio ser la ptica de la profundidad de foco
del lser, adems de artefactos elementales de fraccionamiento que (si no se
eliminan) sera muy til "confundir" un perfil de profundidad. En este caso, los
artefactos elementales de fraccionamiento son ms eficazmente suprimida por
elegir el dimetro mayor de las manchas prcticamente disponible, y entonces
no perforar ms profundo que este dimetro. Perfiles de profundidad ms all
del lmite de la profundidad ptica de foco no es recomendado, pero este
intervalo puede ampliarse mediante la continua reorientacin de la Z-etapa
durante la ablacin. En otras palabras, el Z-etapa pueden ser criados de
manera constante durante la ablacin para mantener continuamente la parte
inferior del crter de corriente en el plano de enfoque del lser. En este caso,
conocimiento previo de la tasa de ablacin es importante, de modo que el alza
Z-etapa de movimiento se puede ajustar para que coincida con la velocidad de
ablacin.
Sistema de Datos
Para el anlisis de punto pequeo o perfiles de profundidad, la seal producida
es transitoria o tiempo-variante, y una regin de datos de clave puede durar
menos de 2 a 4 segundos. Un sistema de espectrmetro de datos por lo tanto
debe ser capaz de capturar y almacenar los picos transitorios o seales
variantes en el tiempo de un experimento de perfil de profundidad. Datos de
Tiempos de adquisicin de integracin tan bajas como 100 ms debe ser
proporcionada para permitir la resolucin de tiempo adecuado perfil deseado o
eventos transitorios. Algunos sistemas permiten la seleccin de tiempos de
integracin por debajo de 100 ms, pero stas rara vez elegido, debido al ruido
de seal inherente.
Post-procesamiento
ICP e ICP-MS sistemas de datos son a menudo capaces de capturar un pico
transitorio o perfil de profundidad, pero son tpicamente slo est diseado
para la reduccin de datos, procesamiento e impresin de informes de una
seal de velocidad constante o vara con el tiempo, tal como se producira por
un nebulizador convencional. Bulk anlisis travs de la lnea de ablacin por
lser de barrido o rastering est por lo tanto fcilmente tratado por el
espectrmetro existente sistema de datos, siempre que la duracin de la lnea
de exploracin o anlisis raster patrn produce una seal de estado
estacionario de duracin suficiente. Anlisis de picos transitorios de una
ablacin pequea mancha o un anlisis del perfil de profundidad normalmente
debe ser manejado por exportar el archivo de captura de datos a un paquete
externo, como Excel, escarcha, Geo-Pro, o un paquete de software de

cromatografa. El ICP-MS debe prever la capacidad de exportacin de datos. Se

espera que los sistemas de ablacin por lser se incorporan tpicamente pronto
poste paquetes de software de procesamiento para manejar los datos
exportados de la ICP-MS.
Patrones de calibracin
NIST (National Institute of Standards and Technology) ofrece una variedad de
estndares de calibracin slidos. Treinta y cuatro nuevos estndares
adicionales se estn desarrollando actualmente en el USGS (United States
Geological Survey), en Golden, CO
Conclusin
La ablacin con lser es un mtodo excepcionalmente rpida y conveniente de
directo ICP e ICP-MS anlisis de muestras slidas para elementos mayores,
menores y traza. Bulk anlisis y modos de anlisis de puntos se consigue
comnmente, y perfiles de profundidad es posible. Al escribir estas lneas, hay
aproximadamente 515 instalaciones de ablacin lser en todo el mundo, con
cerca de 70 sistemas nuevos que se venden cada ao. Este mercado se espera
que crezca significativamente a medida que los precios del sistema
eventualmente bajar y una mayor variedad de estndares de calibracin estn
disponibles.