O hidrxido de sdio tem caracterstica de um slido branco, higroscpico e inorgnico.
Comporta-se como uma base de Arrhenius, ou seja, quando dissolvido em gua, se dissocia liberando (-OH). Atualmente, o NaOH preparado predominantemente por mtodos eletrolticos, usando a soluo aquosa de NaCl como matria prima. Trs processos eletrolticos so utilizados para a produo industrial do NaOH: Clula de mercrio, Clula de diafragma e clula de membrana. Objetivo Citar sucintamente, as formas de produo industrial do NaOH. Clula de Mercrio Baseia essencialmente de duas partes: o eletrolizador e o decompositor. No eletrolizador, duas camadas lquidas fluem por diferena de gravidade, de uma extremidade da clula outra. A camada inferior de mercrio, agindo como catodo. Sobre esta camada flui uma soluo saturada de gua e cloreto de sdio (salmoura), na qual esto imersos os anodos de titnio recobertos com xidos de metais do grupo da platina. Durante a eletrlise, cloro liberado nos anodos, enquanto que ons sdio so atrados ao catodo de mercrio onde so descarregados formando sdio metlico. O sdio dissolve-se no mercrio formando um amlgama. O amlgama sendo lquido flui para o decompositor, localizado fora da clula, onde reagido com gua desmineralizada formando soda custica, hidrognio e regenerando o mercrio que retorna para a clula. A principal caracterstica deste processo a produo de soda custica concentrada (50% NaOH) com baixo teor de cloreto de sdio, sem necessidade de purificao posterior, exceto a remoo de traos de mercrio dissolvidos no produto. Esta soda custica pode ser usada em processos que exigem um produto com baixos teores de cloretos. Clula de Membrana Executa-se alimentando a salmoura especialmente purificada ao compartimento andico. O cloro gs gerado liberado no anodo e deixa o compartimento andico junto com a salmoura gasta. Os ons sdio e alguma gua so transportados atravs da membrana semi permevel ao compartimento catdico. A membrana de troca inica essencialmente impede a passagem de ons cloreto ao compartimento catdico. gua eletrolizada no catodo formando hidrognio gasoso e ons hidroxila. Estes ons combinam-se com os ons sdio para formar 1
hidrxido de sdio. Uma soluo de reciclo de soda custica alimentada ao compartimento
catdico onde sua concentrao elevada concentrao desejada antes de sair da clula. Este reciclo de soda custica estabiliza a concentrao do produto e uniformiza as temperaturas das clulas presentes na sala de clulas. Clula de Diafragma As clulas de diafragma caracterizam-se, como o nome indica, pela presena de um diafragma que separa o compartimento andico do catdico. O diafragma, consistindo basicamente de asbesto, permite a passagem dos ons por migrao eltrica, mas reduz a difuso dos produtos. O diafragma permite o escoamento da salmoura do compartimento andico para o catdico e, desta forma, diminui muito, ou impede, as reaes secundrias (por exemplo, a formao de hipoclorito de sdio). O escoamento mantido constante mediante uma diferena de nvel entre o compartimento andico e o catdico. Concluso A soda custica das cubas de mercrio mais pura e mais concentrada (50% em mdia), embora o processo consuma mais energia e seja, ambientalmente, mais malfico. J o processo das clulas de membrana fornece soda custica pouco mais concentrada do que o de diafragma, todavia menos concentrada (32%) do que a obtida por clulas de mercrio, em uma rota de menor consumo de energia eltrica, necessitando, portanto, ser concentrada por evaporao de parte da gua. Referncias MORAES, J. P. Eletrlise da salmoura para a gerao de cloro empregando ctodos de difuso de oxignio modificados com ferro. Campinas, SP: [s.n.], 2011. Dissertao de Mestrado - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecnica Guekezian ...let. al.I 2. ed. So Paulo : Pearson Makron Books, 1994. Volume II. RUSSELL, J. B. Qumica Geral / John B. Russell; traduo e reviso tcnica Mrcia SHREVE, R.N.; BRINK, J.; JOSEPH, A. Indstria de processos Qumicos, 4 edio, Mc GrawHill, New York, 1997. TICIANELLI, E.A.; GONZALES, E.R. Eletroqumica: Princpios e aplicaes. So Paulo, Edusp, p.189-217, 1998. 2