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15.1
15.1. INTRODUCCIN
15.1
15.2
15.4
15.13
15.14
15.6. MESFET
15.17
15.i
Tema 15
Transistor JFET
15.1.- Introduccin
El transistor JFET (Junction Field Effect Transistor) constituye un tipo de FET
de puerta de unin, esto es, entre la puerta y el canal conductor tenemos una unin pn.
Para su estudio se seguirn los mismos pasos que en el caso del MOSFET:
estudio de su constitucin o estructura, principios de funcionamiento y curvas
caractersticas. Adelantando resultados veremos que un JFET es un dispositivo
equivalente a un MOSFET de deplexin, con algunas particularidades que se
comentarn posteriormente.
15.1
n+
p
L
(a)
(b)
PUERTA
G
p++
FUENTE
S
DRENADOR
D
Canal
n
p++
VGS
VDS
(c)
Figura 15.1.- Transistor de unin de efecto de campo JFET: (a) Estructura tpica; (b)
Representacin circuital; (c) Representacin simplificada.
15.2
Estructura de un JFET
VDS > 0
VGS < 0
I S < 0 (saliente)
I D > 0 (entrante)
ID = IS .
15.3
VDS < 0
VGS > 0
I S > 0 (entrada)
I D < 0 (saliente)
D
G
|IDS|
S
Sealar, finalmente, que en un JFET las tensiones VDS y VGS se aplican respecto
al mismo terminal que en este caso es la fuente S .
VGS > 0
Principios de funcionamiento
VGS = 0
Si VDS = 0 , el dispositivo se encuentra en equilibrio termodinmico por lo
que I D = 0 . En este caso, el canal entre las dos uniones de puerta est
totalmente abierto (Figura 15.3).
G1
p+
n
p+
VGS = 0
ID = 0
G2
VDS = 0
VDS
. Nos encontramos en la REGIN HMICA o
Rcanal
G1
p+
n
p+
ID > 0
ID ~ 0
G2
VGS = 0
VDS > 0 (~ 0)
n
p+
ID > 0
G2
VGS = 0
VDS > 0
Figura 15.5.- JFET en la regin gradual, estrechamiento del canal para valores moderados de VDS .
15.6
Principios de funcionamiento
la
pendiente
de
las
I D VDS
caractersticas
se
hace
G1
p+
n
p+
ID >> 0
G2
VGS = 0
VDS >> 0
Figura 15.6.- JFET con el canal estrangulado o pinchado (pinch-off), VDS = VDS , SAT .
15.7
el mismo que con VDS = 0 , es decir, sera cero en todos los puntos del canal.
Por lo tanto, la diferencia de potencial entre el canal y las uniones de puerta
es el potencial termodinmico con lo que el canal debera estar totalmente
abierto.
Este
razonamiento
contradice
la
suposicin
inicial
de
G1
p+
p+
ID >> 0
G2
VGS = 0
VDS >> 0
Figura 15.7.- JFET con postestrangulamiento o saturacin, VDS > VDS , SAT .
En lo que respecta a que I D I D , SAT para VDS > VDS , SAT , hay una explicacin
fsica muy sencilla. Para VDS > VDS , SAT , el estrangulamiento del canal avanza
hacia la fuente una distancia L , Figura 15.7. El potencial por el lado del
drenador es VDS , mientras que, por el lado de la fuente es VDS , SAT . Esto es,
VDS VDS , SAT cae a lo largo de la seccin vaca (estrangulada) del canal:
15.8
Principios de funcionamiento
IDS
Gradual
Saturacin
L ~ L
L << L
Estrangulamiento
hmica
VDS
VDSsat
VGS < 0
15.9
Para VDS > 0 , se volver a repetir toda la secuencia anterior pero, en este
caso, la condicin de estrangulamiento del canal se dar a tensiones VDS , SAT
inferiores.
V{P
= T
(15.1)
15.10
Principios de funcionamiento
I D ( mA )
1
2
0,2
4
0,1
0,05
0,1
VDS (V )
15.11
Para su clculo, tendremos en cuenta que las uniones de puerta son muy
asimtricas ( N A >> N D ) con lo que la anchura de la zona de carga de espacio de estas
uniones se extiende prcticamente por el lado del canal. Consideraremos, adems, el
caso ms general en el que los dos terminales de puerta estn colocados a la misma
tensin de referencia. Atendiendo a la Figura 15.10 definimos,
Zona p (G)
dentre uniones
l zce
Canal n
Zona p (G)
Figura 15.10.- Anchura del canal de un JFET.
Puesto que slo estamos aplicando VGS , la contraccin del canal ser uniforme
en todos sus puntos. De la Figura 15.10 podemos escribir que,
w = d 2l
w=d 2
w=0
15.12
VGS = VT
2 1
1
+
(T VGS )
q N A ND
d2
N A >> N D
8 1
(T VT )
q ND
VT = T
q ND d 2
8
(15.2)
La ecuacin (15.2) define la tensin umbral cuando los dos terminales de puerta
estn conectados entre s. Lo que est claro es que constituye una caracterstica del
dispositivo que depende de la geometra del mismo, siendo el segundo trmino el
dominante.
Para VGS > VT , el canal hmico desaparece por completo. No existe conexin
fsica entre la fuente y el drenador y, por lo tanto, el JFET no puede conducir I D = 0 .
Relacin entre VP y VT
w = d 2 l (T VT ) = 0
(15.3)
valor en T . Si comparamos las ecuaciones (15.2) y (15.3) resulta que, para el caso
general que estamos considerando,
VP =
q ND d 2
8
(15.4)
(15.5)
Regin de saturacin.
Regin de ruptura.
ID
VGS >> 0 no es posible
VGS = 0.2 V
VGS = -1 V
Con VDS
muy
grandes la
unin de
drenador
se rompe
VGS = VT
VDS (V)
VGS = 0 V
-VT
VDS > 40
ID (mA)
IDSS (mA)
VT (V)
VGS (V)
Como puede observarse, las curvas obtenidas para el JFET son equivalentes a las
del MOSFET de deplexin o empobrecimiento, con la salvedad de que en los JFET no
se puede aumentar la anchura del canal con respecto a la situacin de equilibrio.
15.15
Por lo tanto, se puede concluir que, en general, los dos dispositivos JFET y
MOSFET son similares en todo salvo:
JFET
MOSFET
Anchura de la z.c.e.
de una unin pn
inversamente
polarizada.
Tensin VG aplicada.
JFET
Unin de puerta
inversamente
polarizada.
15.16
MOSFET
Capa de xido de
espesor xo .
MESFET
15.6.- MESFET
Los diodos metal-semiconductor (o diodos Schottky) y los diodos de unin pn
estn estrechamente relacionados en muchos aspectos. En particular, en los diodos
metal-semiconductor tambin se forma una regin de vaciamiento que puede ser
modulada mediante el voltaje aplicado. As, resulta lgico que se puedan construir
transistores de efecto de campo con puertas rectificadores metal-semiconductor,
MESFET (Metal-Semiconductor Field Effect Transistor). Los MESFET se utilizan,
sobre todo, en circuitos desarrollados sobre la base de GaAs debido, fundamentalmente,
a la falta de una tecnologa de contaminacin metal-aislante-semiconductor. Por lo
tanto, los razonamientos y conclusiones vistos para el JFET pueden aplicarse
igualmente a los MESFET. En las Figuras 15.13 y 15.14 pueden observarse la
estructura idealizada y una vista simplificada del MESFET.
G Puerta
Zona de vaciamiento
n
S Fuente
D Drenador
Zona de vaciamiento
G
Figura 15.13.- Estructura idealizada de un MESFET.
15.17
Contacto de la
puerta metlica
Contacto de la
fuente
Contacto del
drenador
n+
n+
Canal
Sustrato p
15.18