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La electricidad
y la generacin
de plasmas
Jess Pedro Torres Castro

Becario de FPDI del III de la Junta

de Andaluca. Departamento de Fsica.
Universidad de Crdoba

Antonio Sola Daz

Profesor Titular de Universidad.

Departamento de Fsica.
Universidad de Crdoba.

Antonio Jos Gamero Rojas

Profesor Titular de Universidad.

Departamento de Fsica.
Universidad de Crdoba.

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Introduccin: el cuarto estado de la

materia en la naturaleza
Slido, lquido y gas. Esta conocida secuencia, siguiendo una progresin de aumento de
la temperatura, es en general para cualquier
sustancia el conjunto de las diferentes fases
fsicas en las que las molculas que la componen pueden ordenarse. Desde la rigidez
de la ordenacin (cristalina o no) de un slido, las molculas pueden romper sus enlaces
comunes convirtindose en una maraa an
sin desenredar en estado lquido. Un aporte
mayor de energa puede conseguir que las
uniones entre molculas se rompan totalmente y que cada molcula se mueva libremente en estado gaseoso, interactuando
entre s cuando el azar quiera que colisionen.
Pero si se calienta an ms un gas, puede llegar a haber suficiente energa como para disociar molculas en los tomos que la componen y los tomos en electrones e iones
(ncleos atmicos con dficit de electrones).
Se produce un cambio de fase fsica hacia un
nuevo estado de la materia, ahora descom-

anales de mecnica y electricidad / septiembre-octubre 2003

puesta cada vez ms en sus componentes

ms elementales; el estado de plasma. As se
denomina genricamente un gran conjunto
de diferentes sistemas fsicos con unas caractersticas muy parecidas, en un amplio rango
de densidades, temperaturas y energas, dado
que al aumentar cada vez ms la energa del
plasma, se irn disociando enlaces primero
moleculares y luego atmicos, y por tanto se
puede hablar de diferentes tipos de plasmas
con cada vez ms partculas ionizadas.
En la Naturaleza existe plasma electrnico
de combustin en un fuego, brillando en las
lmparas fluorescentes, se genera plasma en
el gas ionizado cuando un interruptor de alta
tensin se cortocircuita, cuando vemos una
aurora boreal estamos viendo un plasma, toda
la Ionosfera terrestre lo es, como nuestro
Sol, o hasta hay plasma (nuclear) en una estrella de neutrones. El rayo en una tormenta,
tambin es un plasma Por tanto, podemos
ver cmo la palabra plasma engloba en realidad diversos plasmas fsicos diferentes. Lo
caracterstico de todos ellos es que, a la vez

Figura 1. Diagrama de tipos de plasma

Experimentos
fusin

1010

108
Van
Allen

que es conductor, se mantiene elctricamente

neutro como ocurre en los electrolitos (existen teoras y modelos comunes en la fsica
de plasmas y en la qumico-fsica de disoluciones electrolticas).
A modo de ejemplo, en la Figura 1 se representan algunos plasmas tpicos, tanto naturales como artificiales, en un diagrama de
temperatura electrnica (una medida de la
energa media del gas de electrones) frente a
la densidad de electrones.
De hecho, el medio interestelar es plasma.
Vivimos actualmente en un Universo compuesto de plasma al menos en un 99% de la
materia conocida, aunque el plasma sea bastante inusual en la Tierra que los humanos
conocemos. Este hecho, puesto de manifiesto cuando la astronoma pudo estudiar el
cielo ms all del espectro visible de la luz,
llev a Hannes Alfvn, Nobel de Fsica en
1970 por su trabajo pionero en Fsica de
Plasmas, a denominar nuestro universo como Universo de plasma. El plasma es pues el
cuar to estado de la materia, aunque bien
merecera considerarse el primero, pues es
el estado originario de nuestro Universo, y
an hoy la materia que lo rellena es plasma
en gran parte.
Por lo dicho hasta ahora, estn claras las
implicaciones fundamentales y el inters
que conlleva el estudio de los plasmas. Sus
aplicaciones prcticas son ya muchas en la
actualidad en la tecnologa o la industria, y
en los prximos aos lo sern an ms.
Pueden usarse en tcnicas como la deposicin (de hasta micro-capas monomoleculares), pulverizacin por plasma, construccin
de micro-estructuras y MEMS (Micro Electro
Mechanical Systems), en litografa, en lmparas e iluminacin, en destruccin eficaz de
residuos, para limpieza microscpica de todo
tipo de superficies, tratamiento de aguas, en
metalurgia, en reactores nucleares (Tokamak,
etc.) y en su potencial uso para la fusin
termonuclear controlada, y un potencial largo etctera en parte por descubrir. Para el
conocimiento cientfico de nuestro mundo
y desarrollo de mltiples aplicaciones, es
necesario conocer bien los plasmas, saber
sus caractersticas y cmo se comporta bajo
determinadas condiciones. El plasma es un
sistema complejo que nos suscita muchos
interrogantes.
Adems de estudiar los plasmas presentes
en la naturaleza, es necesario su estudio en
el laboratorio y su creacin controlada para
aplicaciones tcnicas. Para que se cree y se

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106

Descargas
baja presin

104

102
105

Fusin
Interior
estrellas

Ionosfera

1010

Descargas
alta presin

Llama

1015

Enanas
blancas
O

Confinamiento
inercial

Corona solar

viento
solar

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Interestelar

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Temperatura electrnica (K)

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Slidos

1020

1025

1030

1035

Densidad electrnica (m-3)

Tabla 1. Principales dispositivos para generacin de plasmas

a partir de energa elctrica

Energa

corriente

estacionaria

continua

pulsada o interrumpida

campos alternos

alta frecuencia
o radio
frecuencia (RF)

elctrica
en
plasmas

microondas

columna positiva, etc

plasma focus, etc
ICP (acoplo inductivo)
CCP (acoplo capacitativo)
helicn, barrera dielctrica, etc
surfatrn,TIA, SLAN, etc

mantenga un plasma, es necesario alimentar

el sistema con energa para compensar las
prdidas y el enfriamiento del plasma. En caso
contrario puede tender a cambiar de fase
convir tindose en gas comn, no ionizado.
Pero calentar la materia no es el modo ms
sencillo de obtener un plasma en laboratorio, sino acoplando energa elctrica o electromagntica a un gas neutro de forma
eficaz. Esto es, producir una descarga elctrica
en dicho gas.
Existe una multiplicidad de formas de usar
la energa elctrica y electromagntica para
producir y mantener una descarga gaseosa
de plasma, y en este artculo nos proponemos hacer un repaso de las mismas, a la vez
que presentar los dispositivos capaces de
transferir ventajosamente esta energa al
plasma creado.

La energa elctrica
y la generacin de plasmas
Para generar un plasma es necesario aportar energa al sistema, normalmente gaseoso.
Es posible generar plasma mediante energa
calorfica, como en una llama ordinaria donde
el calor proviene de reacciones qumicas de
La electricidad y la generacin de plasmas

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Figura 2. Los valores numricos son caractersticos de un plasma de Nen,

a 1 Torr de presin interna y 50 cm de longitud entre los electrodos

Voltios
800

Descarga oscura
de Townsed

600

corriente

Voltaje
aplicado
Voltaje generado

corona

descarga
luminiscente
normal

400

200

iluminacin
del plasma
creciente
arco

10E-20

10E-12

10E-5

0001

01

Amperios

10

nacin, etc.) as como transportes de energa

que impliquen prdidas. Si la aportacin de
energa elctrica o electromagntica externa
es suficiente, se puede alcanzar un balance
entre ambos tipos de procesos (de prdidas
y ganancias) y el plasma generado se mantendr en el tiempo de forma estacionaria.
Por lo general, la forma en que la energa
elctrica pasa al plasma es a travs de los
electrones, mucho ms ligeros que cualquier
resto atmico o molecular ionizado. Por ello
pueden ser acelerados por un campo electromagntico de forma ms eficaz, y luego
mediante colisiones repar tir la energa al
resto de par tculas del plasma. Veamos las
principales formas en las que esto se puede
conseguir (Tabla 1).
I) Descargas en corriente continua (DC)

Figura 3. El plasma de columna positiva

zona oscura
del ctodo

zona oscura
de Faraday

descarga
del nodo

Columna positiva

zona oscura
de Aslon

Descarga
negativa

zona oscura
del nodo

descarga del ctodo

combustin.Tambin es posible hacerlo mediante fuertes compresiones adiabticas de un

gas. Un rayo intenso de fotones (lser) o de
partculas (neutras o cargadas) incidiendo sobre un gas tambin puede generar un plasma
transfiriendo energa por colisiones atmicas.
Pero la forma ms usual de crear un plasma es acoplando energa elctrica o electromagntica a un gas en principio neutro. En
todo gas existe una pequea cantidad de
electrones libres, creados por la radiacin
csmica o radioactividad natural, y otros
electrones que se liberan en presencia del
campo elctrico externo aplicado. Estas partculas cargadas negativamente pueden ganar
energa de este campo elctrico y provocar,
por medio de colisiones en avalancha con las
dems partculas del gas, la aparicin de nuevos tomos ionizados, emisin de luz y multitud de procesos. Por otro lado, se establecern tambin mecanismos de prdida de
partculas cargadas libres (difusin, recombi36

anales de mecnica y electricidad / septiembre-octubre 2003

Normalmente el dispositivo es un compartimento estanco (pero con posibilidad de

crear flujo de gas si se requiere) donde el gas
se encuentra entre dos electrodos. Aplicando una diferencia de potencial entre los electrodos por encima de cierto valor umbral o
de disrupcin que depende del tipo de gas
plasmgeno, de las caractersticas geomtricas del sistema y de la presin de llenado, es
posible la generacin y el mantenimiento de
la descarga en dicho gas.
El tipo de descarga creada puede clasificarse segn la diferencia de potencial que se
aplica entre los electrodos y la correspondiente corriente elctrica que circula por el
sistema (corriente interelectrdica), de
acuerdo al esquema mostrado en la Figura 2.
En principio se genera una intensidad interelectrdica que aumenta con el voltaje,
hasta llegar a formarse una descarga oscura
de Towsend, donde el voltaje entre los electrodos vara poco aunque lo haga la corriente.
Cuando el voltaje alcanza el valor de ruptura
del gas, la conductividad del gas aumenta
significativamente. Aparece entonces una
transicin en la que la tensin disminuye y la
intensidad aumenta. En esta situacin la excitacin de los tomos y molculas del gas es
tan elevada que hace visible la descarga
(regin luminiscente normal). En esta zona la
tensin a travs de la descarga es prcticamente independiente de la intensidad sobre
varios rdenes de magnitud.
Cuando la densidad de corriente sobre el
ctodo es muy alta, el bombardeo de los
iones (positivos) calienta lo suficiente el ctodo, producindose electrones extra por
emisin termoinica. Se produce entonces la

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transicin hasta el rgimen de descarga de

arco, dnde el gas se convierte en un puente
conductor entre ambos electrodos.
El diseo del dispositivo de descarga ms
comn es el de un tubo cilndrico con el ctodo y el nodo circulares en sus extremos.
En la regin de luminiscencia normal, la descarga que se genera presenta una disposicin de franjas ms o menos luminosas (ver
Figura 3).
En cada una de estas zonas creadas por la
energa elctrica, las propiedades de la descarga sufren variaciones significativas. Por ejemplo
el campo elctrico es negativo y prcticamente nulo en toda la zona denominada descarga
negativa, y de valor constante en la zona de
columna positiva. En resumen, los mecanismos
fsicos en la regin del plasma una vez generado ste son algo as: los iones se aceleran hacia el ctodo, atravesando zonas oscuras de
poca actividad (escasas colisiones), pero al llegar al electrodo y chocar con l producen
nuevos iones y electrones secundarios (y brillo
en el gas ionizado prximo). Los electrones viajan hacia el otro extremo de la descarga, dejndose parte de su energa en el camino por
colisiones de todo tipo. La zona luminosa correspondiente a la columna positiva presenta
una carga elctrica neta nula, constituyendo la
regin de plasma propiamente dicho. En la
parte opuesta, los electrones que desaparecen como corriente elctrica por el nodo
hacen que aparezcan zonas oscuras justo delante de este electrodo.
Otro sistema usual es el diseo de un ctodo cilndrico en forma de tubo con escaso
dimetro, suficiente para que la descarga se
forme en el interior de este ctodo hueco
(allow-cathod) (ver Figura 4). Otras mejoras
se pueden introducir mediante campos magnticos o calentando los electrodos (controlando su temperatura) externamente. Descargas de este tipo se usan en procesos de
deposicin y grabado molecular o en multitud de otras aplicaciones industriales como
iluminacin (tubos, lmparas luminiscentes
de plasma, los focos ms intensos, etc.).
II) Descargas pulsadas de corriente
continua (pulsed-DC)

Puede ser til usar pulsos de energa elctrica para que el medio gaseoso se encuentre
puro en cada ignicin del plasma, no permitiendo inhomogeneidades en la composicin
del gas de neutros del plasma (que aparecen
cuando lleva un tiempo encendido), entre el
centro y las paredes del tubo dnde se genera

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Figura 4. Corte transversal de un plasma de ctodo hueco

funcionando en deposicin
Plasma de descarga
de ctodo hueco
nodo
ctodo
plasma jets
alimentacin
de la deposicin

substrato
depositado

Figura 5. Dibujo esquemtico de una

llama de plasma ICP (Inductively Coupled
Plasma), producido en atmsfera abierta

ICP

llama
de cola
plasma
zona de
campo
magntico
inducido

corriente
elctrica

circuitera
y generador

zona
activa

bobina

entrada
de flujo
de gas

el plasma. As, en aplicaciones de deposicin

se consiguen resultados ms homogneos.
Un dispositivo potente de este tipo es el
plasma focus, capaz de concentrar la corriente
de plasma en un haz radiante de partculas y
radiacin, utilizable en litografa, emisin de
neutrones o microscopa.
III) Descargas de radio frecuencia

Tambin se consiguen plasmas aplicando

campos de radio frecuencia (RF), con valores tpicos comerciales de 13.56 y 27.12 MHz. A estas frecuencias, las oscilaciones son tan rpidas
que los electrones siguiendo el campo no alLa electricidad y la generacin de plasmas

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Figura 6. Esquema de una SLAN (slot antenna o antena-ranura)

La energa electromagntica de microondas se acopla dentro de la regin dnde se encuentra el gas a travs de unas ranuras equidistantes entre s, de tal
manera que se produzca resonancia de las microondas en la cavidad del gas. La
descarga se crea en el gas que se enciende como plasma. Se consigue mantener
el plasma en un amplio rango de presiones del gas, as como de densidades de
electrones
ajustes
para el acoplo

tubo (cuarzo)
plasma
dimetro 40-660 mm
ranuras antena

a) Descargas acopladas capacitivamente,

CCP (Capacitively Coupled Plasma). La potencia
es absorbida por el plasma gracias al aumento de la energa cintica de los electrones
motivada por el campo elctrico alterno. El
diseo de los dispositivos puede ser en general similar a los de descargas en DC, aunque los electrodos pueden situarse fuera de
la cmara de la descarga. Por sus caractersticas (grandes volmenes, homogeneidad)
estn muy extendidas sus aplicaciones en
deposicin, litografa, grabado, etc.
b) Descargas acopladas inductivamente, ICP
(Inductively Coupled Plasma). La potencia de
RF es transferida al gas por disipacin hmica
de corriente inducida por el campo electromagntico aplicado (ver Figura 5).
Este tipo de descargas se aplica fundamentalmente para deposicin de capa fina,
pulverizacin por plasma, anlisis espectroqumico o en espectrometra de masas.

gas
gua de ondas

Figura 7. Funcionamiento de un surfatrn

La energa elctrica en forma de microondas se transmite por un cable coaxial
hasta acoplarse, mediante el dispositivo mostrado y usando una antena ajustable, al flujo de gas entrante. Principalmente en la superficie de separacin tubo
dielctrico-plasma, se propaga una onda electromagntica (onda de superficie)
que a la vez mantiene el gas en forma de plasma
Antena
(posicin ajustable)

microondas
Cable coaxial

Parte superior
desmontable
Tubo de vidrio
Onda electromagntica de superficie
gas

Plasma

Zona
de creacin
del plasma

2 cm
Surfatrn

canzan los lmites del plasma. Al no existir por

tanto corrientes reales entre los electrodos, no
es necesaria la existencia de estos en contacto
con el plasma. Se evitarn as las impurezas del
ctodo en la descarga as como el incremento
de la vida media de los reactores y la reproducibilidad de las condiciones de trabajo.
Los procesos fsicos que entran en juego
son diferentes al caso de descarga en DC.
Atendiendo al mecanismo de acoplo de
energa podemos tener los siguientes tipos:
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IV) Descargas de microondas

Mediante campos electromagnticos en el

rango superior de las radio frecuencias, es decir en el dominio de las microondas, es posible
tambin generar y mantener un plasma. Un
valor tpico de frecuencia utilizado son los
2.45 GHz. En este caso, la respuesta de los
electrones no pasa de seguir las oscilaciones
del campo, pero no en fase con el mismo debido a las colisiones de los electrones con el
resto de las partculas. Este mecanismo colisional es el responsable de la absorcin de
energa por parte del gas de electrones libres,
energa que posteriormente stos transfieren
al resto del sistema. Los campos electromagnticos se establecen, propagan y/o absorben
en el plasma, comportndose ste colectivamente como un medio dielctrico.
Los dispositivos y diseos de acopladores
para lograr la descarga en el gas son diversos
atendiendo al mecanismo de transferencia de
energa. Bsicamente puede haber sistemas
de tipo resonante, propagativo o absorbente.
Estructuras para producir descargas de microondas pueden ser, por ejemplo, el surfatrn, la TIA (torch injection axial), el SLAN
(slot antenna o de antena ranura), basadas en
su capacidad de concentrar la potencia de las
microondas en un punto concreto del sistema donde se hace llegar el gas plasmgeno.
La energa electromagntica se acopla as
muy eficazmente al gas, que al ionizarse se
convierte en plasma (ver Figuras 6 y 7).
Desde los generadores de energa electromagntica, las microondas pueden transpor-

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tarse alternativamente por cables coaxiales o

guas de ondas, dependiendo de su potencia,
hasta el dispositivo de creacin de plasma.
El plasma puede estar encerrado fsicamente
o bien estar abier to a la atmsfera, con el
aspecto en este caso de una llama (TIA, etc.).
Un caso especial es la creacin del plasma
mediante la propagacin de ondas de superficie en la interfaz plasma-vidrio, propagndose
por el plasma a la vez que lo sustentan (en el
surfatrn, etc.).
Por ltimo, citemos que existen las descargas de microondas acopladas con campo
magntico, donde las par tculas de plasma
describen las caractersticas trayectorias circulares (a la frecuencia ciclotrn). En estas descargas, los electrones adquieren la energa de
forma resonante al ser la frecuencia del campo electromagntico la frecuencia ciclotrnica
o ECR (electrn ciclotrn resonance). Se consigue as un gran volumen de plasma muy homogneo (ver Figura 8).Todo ello es aplicable
en la prctica por ejemplo en deposicin de
capa fina, grabado, destruccin de residuos y
limpieza microscpica, iluminacin, etc.
Todas estas distintas formas de producir
plasma se traducen luego en diferentes diseos especficos en funcin de la aplicacin
deseada. Por ejemplo, una modificacin del
ICP es el helicn, en el que adems se suministra energa a la descarga mediante antenas
de forma adecuada en la superficie del plasma. Otro sistema ms complejo es el plasma
de barrera dielctrica, generndose el plasma
entre un par de electrodos planos recubiertos de material dielctrico y aplicando un
campo de alta frecuencia (se caracteriza por
la aparicin de filamentos de corriente de
corta vida limitados por los dielctricos). Este tipo de dispositivo es de uso generalizado
para produccin de ozono en plantas de tratamiento de aguas. Otras aplicaciones son en
lser de CO2, emisin de radiacin ultravioleta, limpieza de tuberas de combustible diesel, produccin de metanol (a partir de metano y oxgeno), y cmo no, la deposicin y
fabricacin de membranas ultrafinas.

Comentario final
Los plasmas son sistemas relativamente
complejos donde los parmetros que los
caracterizan (densidad electrnica y dems
especies, temperaturas, composicin, campo
electromagntico, flujos, etc.) estn muy interrelacionados. Su generacin y mantenimiento controlado es una labor delicada, y
aqu el conocimiento del electromagnetismo

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Figura 8. Esquema del dispositivo de un plasma ECR generado por un

campo magntico, funcionando en fabricacin de litografas
El plasma se produce a partir del gas en la parte superior, entre las bobinas que
crean el campo magntico, girando los electrones con la frecuencia ciclotrn.
De esta forma se aprovecha la emisin de plasma para enfocarlo y provocar el
efecto deseado.

plasma ECR

Generador
de campo
magntico

gas

plasma
Luz polarizada
rayo
de plasma

20 cm

alimentacin del elemento a depositar

es fundamental, pues es a travs de la energa

elctrica y electromagntica como mejor podemos generar y mantener una descarga de
plasma y, por tanto, estudiarlo y aplicar sus
propiedades cada vez ms al mundo tecnolgico e industrial. Cada dispositivo que
hemos nombrado requiere diseos muy especficos, no siendo sencillo predecir el compor tamiento del plasma creado hasta ser
construido y probado su funcionamiento en
la realidad. A las muchas aplicaciones basadas
en plasmas que ya existen, se irn sumando
en el futuro prximo otras nuevas dadas las
enormes potencialidades que presentan. Instituciones tecnolgicas o de investigacin por
todo el mundo (universidades, institutos o
empresas) dedican sus esfuerzos a ello. An a
pesar de lo relativamente reciente de estas
tecnologas, la generacin de plasmas, que es
una importantsima aplicacin de la energa
elctrica y electromagntica, estar en el futuro
repleta de aplicaciones tecnolgicas
Bibliografia
Plasma-Production, Plasma sources. H.Conrad,
M.Schmidt, INP Greifswald.
Plasmas en todas partes, Silvia Bravo, n.126 coleccin
"La Ciencia", Fondo de Cultura Econmica IGF,
UNAM.
http://www.plasmas.org.

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