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Objetivos:
Conocer las caractersticas del silicio como material semiconductor
Entender los mecanismos de conduccin en una unin p-n
Contenidos:
Leccin 1: Silicio intrnseco. Silicio dopado. Intensidad de arrastre y de difusin
Leccin 2: Unin p-n. Zona de transicin. Polarizacin directa e inversa. Diodo de unin
y Zener.
Electrnica 0
Semiconductores
Semiconductor: material de conductividad intermedia entre la de los metales
y la de los aislantes, que se modifica por la temperatura, y las impurezas
Diagrama de bandas
Banda de Banda de
conduccin Banda de
conduccin conduccin
Eg Eg
Electrnica 1
Silicio intrnseco
Silicio: semiconductor ms usado para fabricar dispositivos electrnicos
Elemento del grupo IV del sistema peridico
Estructura atmica (14 electrones): 1s2 2s2 2p6 3s2 3p2
Forma enlace covalente
El
Se electrn libre con carga negativa se mueve por accin
mueve tambin
del campo electrico.
Es ms, se comporta como un portador de carga positiva
Y la carga
llamado + o hueco dejado por el electrn?
hueco
Electrnica 3
Silicio intrnseco: conduccin elctrica (2)
Se produce el movimiento de los pares electrn-hueco en presencia de un campo
elctrico, contribuyendo ambos a la corriente elctrica
Los portadores de
carga mayoritarios
son los electrones
Si aplicamos un
campo elctrico, los
electrones de
conduccin se
desplazan en sentido
opuesto al campo
Los electrones generados se denominan portadores de carga extrnsecos y su densidad coincide aprox.
con la de tomos de impureza nn0 ND porque su nmero domina a los pares electrn-hueco
A 0K
Si el por
tomo
la temperatura
generados deaumenta
fsforo
ionizacin trmicacubre los cuatro
el electrn enlacesfcilmente
se desliga covalentesdelde la red, ede
tomo introduce
un electrn
fsforo, queadicional
permanece ligado
fijoalentomo
la redde fsforo
como un por
in fuerzas
positivoelectrostticas n i2
Los huecos son minoritarios y su densidad se calcula con la Ley de Accin de Masas p n0
ND
Electrnica 5
Silicio dopado: Tipo-p
Si introducimos impurezas aceptoras del grupo III del sistema peridico (boro,
B) en la estructura cristalina, tenemos un Silicio dopado tipo-p
La densidad de los huecos generados coincide aprox. con la de tomos de impureza pp0 NA porque
Anmero
Si
su 0K
la eldomina
tomoa los
temperatura de boroelectrn-hueco
aumenta
pares slo cubre generados
un electrn tres
de de
un los cuatro
tomo de Sienlaces
por ionizacin covalentes
adyacente
trmica de la
se desliga
red, con
cubriendo lo que
la introduce
falta de una
electrn falta
en el de electrn
boro, ligado
generndose al
untomo
hueco de boro n i2
Los electrones son minoritarios y su densidad se calcula con la Ley de Accin de Masas n p0
NA
siendo
n la movilidad de los electrones
n1 n2<n1 p1 p2<p1
dn dp
0 0
dx dx
Cuando la concentracin de electrones no es Si existe un gradiente en la concentracin
uniforme, stos se mueven por difusin y la de huecos, stos tambin se mueven por
densidad de corriente a la que dan origen es difusin y la densidad de corriente que
proporcional al gradiente de la concentracin originan es proporcional a dicho
de electrones gradiente pero de sentido opuesto
dn(x) dp(x)
J n = qD n J p = qD p
dx dx
Electrnica 8
Unin p-n: Introduccin
Silicio tipo p Silicio tipo n
B- B- B- B- P+ P+ P+ P+
B- B- B- B- P+ P+ P+ P+
- +
Dos regiones de un semiconductor muy prximas, con distinto dopado
En la interfaz, el perfil de dopado tiene un gradiente muy pronunciado difusin
Los portadores mayoritarios difunden de una zona a otra, donde se recombinan
En una zona cercana a la unin llamada regin de carga espacial, aparece una carga
elctrica igual a la concentracin de impurezas campo elctrico
El campo elctrico limita la difusin de portadores a la zona de transicin o desercin
Electrnica 9
Unin p-n: zona de transicin
Electrnica 10
Unin p-n: potencial intrnseco
IDifusin
Algunos de los huecos generados
IArrastre trmicamente en la zona n se difunden al
borde de la regin de deplexin y por accin
del campo elctrico pasan a la zona p
De la misma forma los electrones pasan a la
zona n. Estas dos corrientes forman la
corriente de arrastre
En condiciones de equilibrio no existe corriente externa por lo que las
corrientes de difusin y arrastre deben ser iguales. IArrastre = IDifusin
Sin potencial externo aplicado se puede demostrar que el potencial de la
barrera es
N N Relacin de Einstein
VI = VT ln D 2 A Dn/n= Dp/ p= kT/q = VT
ni
(VT = 26mV a 300K)
Electrnica 11
Unin p-n: polarizacin
Electrnica 12
Unin p-n: polarizacin directa e inversa
Polarizacin directa: Polarizacin inversa:
0 < V < VI V<0
En general:
VU = VI - V,
siendo: V < VI
dn(x)
J n = qD n
dx V Dp
VT Dn
i = A J total = ISat e 1 ISat = A q n i2 +
Lp ND Ln NA
dp(x)
J p = qD p
dx
Siendo Ln,p las longitudes de difusin e ISat la corriente de saturacin
Electrnica 14
Unin p-n: caracterstica i-v
Polarizacin directa:
Sabemos que la relacin i-v es exponencial
V V
i = ISat e VT 1 ISat e VT
Y en polarizacin inversa?
Aumenta la barrera de potencial para los
portadores mayoritarios, la corriente es
muy pequea, tiene sentido opuesto, y es
debida al arrastre de los minoritarios.
Buena aproximacin: i = ISat
Electrnica 15
Diodo de Unin
Dispositivo no lineal de 2 terminales Caracterstica
i pendiente = 1/rD
i-v
i asntota
nodo - Ctodo Modelo
+ v
Diodo fuente
Aproximaciones con zonas lineales o modelos: ideal resistencia
Diodo ideal: V>0 conduce
V<0 no conduce i=0 Modelo
Modelo de fuente constante: asntota V fuente
V> V conduce
V
V< V no conduce i=0 -ISat
0 V
Modelo de fuente y resistencia: pendiente 1/rD
V> V conduce con cada de tensin
V< V no conduce i=0
Electrnica 16
Fenmenos de ruptura: diodo Zener
La unin p-n alcanza la tensin de ruptura, Vz si se
i
polariza fuertemente en la zona inversa
La corriente aumenta considerablemente
Se debe a dos fenmenos: - VZ
Ruptura por avalancha: generacin de nuevos
pares electrn-hueco en la zona de transicin v