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Bajo voltaje
Filamento
Ánodo
Alto voltaje
Aperturas de condensadora
Lente condensadora
Muestra
Lente objetivo
Apertura de objetivo
Apertura de selección de área
Lente proyectora
Pantalla fosforescente
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Filamento
Ánodo
Alto voltaje
Cañón de electrones
Fuente de electrones
Sistema de aceleración y enfoque del haz
- Termoiónico:
Emite electrones al ser calentado.
W o LaB6
- Emisión de campo:
Emite electrones cuando se le aplica un campo eléctrico
intenso.
ZrO/W
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Cañón de electrones
suministro
de corriente
Wehnelt
resistor Bias
Filamento
suministro
de alto voltaje
cross-over 40 – 400 kV
(200 kV)
ánodo
Cañón de electrones
TE - W TE - LaB6 FE - ZrO/W
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Cañón de electrones
-Termoiónico de W:
Baratos, robustos y fácilmente reemplazables.
-Termoiónico de LaB6:
Densidad de corriente, brillo, tiempo de vida, precio y requisitos
de vacío mayores que W.
-Emisión de campo:
Densidad de corriente y brillo muy elevados.
Muy baja dispersión de energía, haz muy coherente.
Ultra-alto vacío y muy caro.
Cañón de electrones
Voltaje = 40 a 400 kV
A mayor voltaje:
Mayor brillo
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Bajo voltaje
Alto voltaje
Lentes
Aperturas
Lentes:
Su posición en la columna es fija y son todas convergentes.
Enfocan o aumentan cambiando la intensidad (voltaje) de la
corriente que pasa a través de ellas.
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Aperturas:
Es un diafragma de entre 10 y 300 micras.
Formación de la imagen
muestra
lente objetivo
lente proyectora
pantalla
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Formación de la imagen
Imagen de campo claro:
Se forma usando el haz central y
unos pocos haces difractados.
Formación de la imagen
Imagen de campo oscuro:
Se forma usando uno de los
haces dispersados.
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Formación de la imagen
Contraste:
Surge debido a la dispersión del haz incidente por la muestra.
Contraste de amplitud o contraste de fase.
Contraste de amplitud:
-Diferencias en grosor o número atómico
(dispersión elástica incoherente)
Contraste de fase:
Una forma de contraste de difracción en la que la imagen se
forma con más de un haz.
Formación de la imagen
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Formación de la imagen
Formación de la imagen
Patrón de difracción:
Proporciona información de la
estructura cristalina de la
muestra.
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Patrón de difracción
Monocristal Policristalina
Amorfa
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Preparación de muestra
Requisito: Debe ser extremadamente fina < 150 nm
Preparación de muestra
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Preparación de muestra
Preparación de muestra
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