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Métodos y materiales
El proceso de metalización consta de los siguientes tres pasos: (1) evaporación del haz de
electrones, (2) electrodeposición por circulación de chorro y (3) grabado químico. La
evaporación del haz de electrones es una forma de deposición física de vapor que se puede usar
para depositar una capa de espesor uniforme en una variedad de materiales. Se formó una fina
capa de cobre para usar como una capa de semilla durante el proceso de metalización. En la
electrodeposición por circulación de chorro, los metales depositados se pueden despegar del
sustrato debido a la alta presión de succión. Por lo tanto, se debe considerar la adhesión entre
la capa de semilla y el sustrato. Como regla práctica, se formó un espesor de 100 nm de cobre
para resistir la presión de succión durante el proceso de electrodeposición por circulación de
chorro. En la parte superior de la capa de semilla de cobre, se usó electrodeposición de
circulación en chorro para fabricar micro-patrones. Finalmente, el grabado químico sirve para
eliminar la capa de semillas y limpiar el sustrato.
Conclusión