Você está na página 1de 61

Apostila: Laboratório

de
Resistência dos
Materiais

Extensometria Elétrica
(Strain-Gage)
e
Fotoelasticidade
1º Semestre 2006

Orientado por: Sérgio Delijaicov


Editado por: João Paulo Buoro Perandini
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
SUMÁRIO

PARTE I: EXTENSOMETRIA 1

1. Introdução 1
2. A Extensometria Mecânica 1
3. A Extensometria Elétrica 2
4. A Extensometria Óptica 2

PARTE II: EXTENSOMETRIA ELÉTRICA 3

1. Generalidades 3
2. Princípio de Medidas 4
3. Tecnologia dos Extensômetros 19
4. Características Construtivas 22
5. Efeito Térmico Secundário 31
6. A Escolha de um Extensômetro 32
7. Técnica de Instalação dos Gages 33
8. Instrumentação 33

PARTE III: FOTOELASTICIDADE 43

1. Definições 43
2. Princípio 43
3. Polarímetro 46
4. Figuras Diversas 55

REFERÊNCIAS BIBLIOGRÁFICAS 58
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
PARTE I: EXTENSOMETRIA

1. Introdução
A “Análise Experimental de Tensões” tem como objetivo final a avaliação dos estados de
tensões que agem nos diversos pontos de uma estrutura.
Para tal, ela utiliza os métodos ou técnicas chamadas “extensométricas”, diretas ou
indiretas, que medem as deformações envolvidas em torno de um ponto da estrutura em estudo.
A conseqüente aplicação das relações tensão x deformação permitem avaliar o respectivo
estado de tensão.
No regime elástico, estas relações lineares são dadas pela lei Hooke generalizada:

εx =
1
E
[
⋅ σ x − ν ⋅ (σ y + σ z ) ]
1
[
ε y = ⋅ σ y − ν ⋅ (σ x + σ z )
E
]
1
[
ε z = ⋅ σ z − ν ⋅ (σ x + σ y )
E
]
OU

σ x = k ⋅ [(1 − ν )ε x + ν ⋅ (ε y + ε z )]
σ y = k ⋅ [(1 − ν )ε y + ν ⋅ (ε x + ε z )]
σ z = k ⋅ [(1 − ν )ε z + ν ⋅ (ε x + ε y )]

onde:
E é modulo de Young do material
ν é o coeficiente de Poisson
E
k=
(1 + ν ) ⋅ (1 − 2ν )

No regime plástico, as relações tensão x deformação deixam de ser lineares e dadas por
outras leis como as de Lery-Mises ou de Prandtl-Reuss, que podem ser encontradas nos livros
avançados da Resistência dos Materiais ou da Mecânica dos Sólidos Deformáveis.
As técnicas extensométricas podem ser classificadas em três grandes categorias:

2. A Extensometria Mecânica[1]
A extensometria mecânica tem como princípio básico de trabalho a medida da distância
entre dois pontos, antes e depois da solicitação da estrutura. A distância inicial entre os pontos ´l´
é o comprimento ativo do extensômetro.
Como os deslocamentos envolvidos são muito pequenos, faz-se necessário ampliar a
medida para uma leitura mais segura, que se consegue através de dispositivos óticos ou
pneumáticos.
Um grande inconveniente do uso dos extensômetros mecânicos é o fato das
deformações serem, geralmente, heterogêneas numa estrutura, fazendo com que o comprimento
ativo seja o menor possível, fator limitante da construção dos referidos extensômetros.

1
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
3. A Extensometria Elétrica
3.1. por Analogia: monta-se um círculo elétrico no qual uma grandeza obedeça as mesmas leis
que uma certa função de tensões, verificada na estrutura em estudo. Este método, cômodo em
certos casos particulares, necessita de montagens complexas em muitos outros, o que o torna
inadequado em face dos outros métodos descritos a seguir.

3.2. por STRAIN-GAGES: a deformação em torno de um ponto e numa certa direção de uma
estrutura carregada é determinada pela medida da variação de resistência elétrica de um fio
colado na mesma direção da deformação que se quer medir. O método é cômodo, preciso e
permite a determinação do estado de tensões num ponto isolado, ao mesmo tempo que não
avalia o campo completo de tensões no corpo.

4. A Extensometria Óptica[1]
4.1. MOIRÉ: a superposição de dois reticulados de malhas muito finas, um ligado à peça
deformada e portanto distorcido e o outro de comparação, permite observar um fenômeno de
franjas, chamado de MOIRÉ, cuja configuração está ligada à deformação da peça.

4.2. Holografia por interferometria: esta técnica mede a fase de uma vibração luminosa em
função de uma vibração luminosa de referência. Esta fase é função do caminho óptico percorrido
e varia de acordo com a mesma.

4.3. Fotoelasticimetria: mede por polarimetria a distorção de forma que uma vibração luminosa é
submetida quando atravessa um meio que, inicialmente homogêneo e isotrópico, se torna
birrefringente assim que é deformado.

Obs.: as técnicas de extensometria óptica são bem adaptadas à análise do campo de tensões e
se aplicam, em geral, a modelos estruturais. No entanto, em algumas variações, como na técnica
da fotoelasticimetria por reflexão, o estudo pode ser feito na estrutura real, tornando-a de grande
importância.

Em função da sua importância, desenvolveremos a seguir, particularmente, a técnica da


Extensometria Elétrica por STRAIN-GAGES, atendendo às aplicações de medida de estados de
tensões em pontos isolados e a técnica da Fotoelasticimetria, atendendo às aplicações de
estudo do campo de tensões estabelecido em estruturas carregadas.

2
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
PARTE II: EXTENSOMETRIA ELÉTRICA

1. Generalidades[1]
A extensometria elétrica por STRAIN-GAGES utiliza como elemento sensível um fio
resistivo que transforma uma variação de comprimento em variação de resistência elétrica.
Nos primeiros gages utilizados no início deste século o elemento resistente era
constituído por um depósito de carbono coloidal sobre um suporte isolante. Notou-se
rapidamente que os fatores secundários, temperatura e umidade exerciam uma influência
considerável sobre as indicações do gage.
Estes problemas levaram à concepção de gages constituídos por fio, onde, em sua
forma mais simples, é composto por um fio muito fino (10 a 30 µm de diâmetro) em liga Ni-Cr ou
Cu-Ni. O fio, depois de dobrado, é colocado sobre um suporte isolante, em geral uma folha fina
de papel (fig. 01).

[3]
Fig. 01 – O extensômetro de resistência elétrica.

No final da 2ª Guerra Mundial, registraram-se progressos consideráveis nas técnicas da


extensometria elétrica: os gages a fio foram substituidos por gages de tramos peliculares, tipo
“lâmina” ou “folha”, sobre suportes em resina epoxi (20 a 80 µm de espessura) e, posteriormente,
tratados por fotogravura (fig. 02).

[3]
Fig. 02 – Detalhes do extensômetro de resistência elétrica.

3
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Citamos abaixo algumas vantagens do caso dos extensômetros de lâmina:
- a precisão da grelha obtida por fotogravura é da ordem de microns;
- o suporte epóxi, mais sólido que o papel, pode ser muito fino, transmitindo assim mais
fielmente as deformações ao elemento sensível;
- sendo de constituição plana possibilitam melhor dissipação térmica;
- o procedimento de fabricação permite reduzir a dispersão de características geométricas
num mesmo lote;
- o efeito transversal é muito menor que os gages a fio;
- a técnica da fotogravura permite a obtenção de geometrias variadas com grandes reduções
de dimensões.

Desta forma, os gages de lâmina ou de folha são, no dias de hoje, os mais utilizados.

2. Princício de Medidas
[1]
2.1. O Strain-Gage:

Consideremos um gage tipo lâmina, colado sobre um certo ponto da superfície de uma
peça. Um sistema de eixos xyz é ligado a peça, onde o eixo x é paralelo aos fios do gage (fig.
03).

[3]
Fig. 03 – Detalhe de um fio de um gage tipo lâmina.

A resistência elétrica do fio é R =ρ. l / S , onde ρ é a resistividade do metal do gage, l e S


são, respectivamente, o comprimento e a área da secção transversal dos tramos do gage.
Tomando-se a variação da resistência elétrica do fio (derivada logarítmica), temos:

dR dρ dl dS (1)
= + −
R ρ l S
A Lei de Bridgman estabelece que a variação da resistividade é proporcional à variação
de volume do gage:

dρ dv dS dl
= c⋅ = c⋅ + (2)
ρ v S l

onde c é uma constante que depende do material.

4
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Substituindo (2) em (1) resulta:

dR dl dS (3)
= (c + 1) ⋅ + (c − 1) ⋅
R l S

Em se tratando de um caso típico de estado plano de tensões (σz=0), podemos escrever:


ν
εz = − ⋅ (ε x + ε y )
1 −ν
dS
como = ε y + ε z , então
S
dS ν
= εy − ⋅ (ε x + ε y )
S 1 −ν

(4)
dS 1 − 2ν ν
= ⋅εy − ⋅ εx
S 1 −ν 1 −ν
(5)
dl
onde ε x = Substituindo (4) e (5) em (3), resulta:
l

dR 1 − 2ν ν 1 − 2ν (6)
= c⋅ + ⋅εx + ⋅ (c − 1) ⋅ ε y
R 1 −ν 1 −ν 1 −ν

que é uma expressão do tipo:

dR (7)
= K1 ⋅ ε x + K 2 ⋅ ε y
R
onde K1 e K2 dependem de uma série de fatores, em particular da natureza do material do gage
e da temperatura de serviço.
Deve-se observar que a lei de Brigdman, como foi enunciada anteriormente, não leva em
consideração a anisotropia do metal dos gages, conseqüência de sua fabricação (trefilação ou
fotogravura). É provavél que a descrição exata dos fenômenos exige substituir simples
constantes c ou ν por outras grandezas mais complexas (tensoriais).
A constante K1 é o fator do gage e a constante K2 caracteriza sua sensibilidade à
deformação transversal. Em geral K2 é desprezado perante K1.
O efeito da deformação transversal sobre a longitudinal é dada pelo fabricante do gage
através do seguinte coeficiente:

dR
⋅ε y para ε x = 0
R
L= (8)
dR
⋅εx para ε y = 0
R

5
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Como o fabricante do gage procura no seu projeto o menor efeito possível da
deformação transversal sobre a longitudinal (o quociente da expressão anterior não passa de
alguns por cento), em primeira aproximação podemos escrever a seguinte expressão:

dR
= K ⋅εx (9)
R

onde K1 = K e K2 = 0 na expressão (7).

Deve-se observar a natureza estatística do fator do gage K devido a sua dependência


com inúmeros fatores, tais como material, temperatura técnicas de fabricação.

Observação: Em tudo que foi escrito, supõe-se que a deformação εx medida pelo gage, seja igual
ao do material sobre a qual ele é colado. Apesar de que seja difícil compreender que a
transmissão integral da deformação se dê através do material de suporte do gage (resina epóxi),
devemos notar que a transmissão é de deformações não de tensões. Isto se deve ao
comportamento elástico do material de suporte (caso seja viscoelástica a transmissao de
deformações, ainda esta se dá integralmente, ou com alguns desvios que não chegam a
comprometer a medida) (fig. 04).

[3]
Fig. 04 – Transmissão da deformação da estrutura para o gage.

[1]
2.2 Método de Medida:

Como sabemos, a medida da deformação εx, paralelamente aos fios do gage, se reduz à
avaliação da variação relativa de sua resistência elétrica:

dR
= K ⋅ε x
R

6
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Com base nesta informação, podemos dispor de dois princípios de medidas que
passamos a abordar: o método potenciométrico e o método em ponte.

2.2.1. Método Potenciométrico:

Se o gage é inserido numa montagem potenciométrica do tipo da figura 05, a tensão U


nos terminais do elemento sensível é:

[3]
Fig. 05 – Montagem potenciométrica.

como : R ' ⋅ dR dR R ⋅ R' e sabendo que o sinal é máximo para


dU = E ⋅ = E ⋅ ⋅
(R + R )' 2
R (R + R )
' 2

R=R’, então 1 dR e, portanto: 1


dU = ⋅E⋅ dU = ⋅ E ⋅ K ⋅εx
4 R 4
A medida da diferença de potencial dU nos permite, então, calcular a deformação.
Esta montagem, apesar de ser simples e muito usada nas medidas dinâmicas, apresenta
um grande inconveniente: a estabilização da tensão E de alimentação deve ser extremamente
cuidadosa.
2
Por exemplo, uma tensão de 10 MPa (aproximadamente 1kgf/mm ) no aço (E =
200GPa), se traduz pela seguinte deformação:

10 × 10 6
ε= = 50 × 10 − 6
200 × 10 9

Para um fator de gage de K = 2, a variação de tensão correspondente será:

dU K
= ⋅ ε x = 25 × 10 −6 mas se E = 4V, então dU = 100µV
E 4
Estabilizar uma tensão desta ordem é impraticável.

b.) Montagem em Ponte de Wheatstone:

A figura 06 indica uma ponte de Wheatstone, onde i, j e k são as correntes nas suas 3
malhas (os respectivos sentidos estão indicados na própria figura) e G é um galvanômetro.

7
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 06 – Ponte de Wheatstone.

O galvanômetro G, tendo uma impedância muito alta comparada à resistência


equivalente da ponte, permite escrever k<<<i e k<<<j. Então:

E E
i= e j= mas como U = VA-VB = R1i – R4j , temos:
R1 + R2 R3 + R4

( R1 ⋅ R3 − R2 ⋅ R4 )
U=
( R1 + R2 ) ⋅ ( R3 + R4 )

A ponte está equilibrada quando U = 0 ou R1.R3 = R2.R4.


Se as resistências Ri da fonte variam de dRi para i = 1, 2, 3 e 4, então:

R2 ⋅ dR1 − R1 ⋅ dR2 R4 ⋅ dR3 − R3 ⋅ dR4


dU = E ⋅ + ou
( R1 + R2 ) 2 ( R3 + R4 ) 2

R1 ⋅ R2 dR1 dR2 R3 ⋅ R4 dR3 dR4


dU = E ⋅ ⋅ − + ⋅ − (10)
( R1 + R2 ) 2
R1 R2 ( R3 + R4 ) 2
R3 R4

R1 R2 R1 + R2
como: R1.R3 = R2.R4 ou = =
R4 R3 R3 + R4

R1 R4 R2 R3
ou ainda: = e =
R1 + R2 R3 + R4 R1 + R2 R3 + R4

8
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
R1 ⋅ R2 R3 ⋅ R4
obtém-se pelo produto destas expressões: = (11)
( R1 + R2 ) 2
( R3 + R4 ) 2

substituindo-se (11) em (10) resulta:

R1 ⋅ R2 dR1 dR2 dR3 dR4


dU = E ⋅ ⋅ − − − (12)
( R1 + R2 ) 2
R1 R2 R3 R4

se R1= R2= R3= R4, então:

E dR1 dR2 dR3 dR4


dU = ⋅ − − − (13)
4 R1 R2 R3 R4

Se somente uma das resistências varia, a tensão de desequilíbrio é então proporcional à


variação relativa desta resistência.
Cada um dos braços da ponte é afetado de um sinal (positivo ou negativo) que permite
efetuar medidas aditivas (em 2 braços opostos) ou dedutivas (em 2 braços adjacentes), como
indica a figura 06.
[1]
2.3. Análise de Medidas:

2.3.1. Solicitação Simples:

Este é o caso de aplicação de gage simples (figura 07) onde, medida a deformação εx
na direção x, basta aplicar a lei de Hooke na sua forma mais simples ( σ x = E ⋅ ε x ) para o
cálculo da tensão σx.

Comprimento Ativo

[3,6]
Fig. 07-01 – Detalhe do gage sob deformação.

9
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Exemplos de strain gages para solicitação simples:

[5]
Fig. 07-02 – Exemplos de gage HBM série Y.

10
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[5]
Fig. 07-03 – Exemplos de gage HBM série G.

2.3.2. Solicitação Dupla:

Este é o caso de aplicação de rosetas como se ilustra na figura 08.


A análise do estado de deformação num ponto de uma estrutura solicitada de forma
dupla requer a avaliação de deformações lineares e de deformações angulares (distorções),
respectivamente ε x , ε y e γ xy . Como os extensômetros captam somente deformações
lineares e na direção do seu comprimento ativo, necessitamos de um conjunto destes para
caracterizar o estado de deformação em torno de um ponto. Tais conjuntos são chamados de
rosetas, que utilizam, de um modo geral, 3 extensômetros dispostos a 45º (roseta retangular) ou
a 120º (roseta delta).

11
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Exemplos de strain gages para solicitação dupla:

[3,5]
Fig. 08 – Exemplos de rosetas.

12
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
2.3.2.1. Caso geral:

[3]
Fig. 09 – Roseta genérica.

γ xy
ε a = ε x ⋅ cos 2 θ a + ε y ⋅ sen 2 θ a + ⋅ sen 2θ a
2
γ xy
ε b = ε x ⋅ cos 2 θ b + ε y ⋅ sen 2 θ b + ⋅ sen 2θ b (14)
2
γ xy
ε c = ε x ⋅ cos 2 θ c + ε y ⋅ sen 2 θ c + ⋅ sen 2θ c
2

Conhecidos os ângulos θ a ,θ b e θc (função da montagem da roseta) e medidas as


deformações εa , ε b e εc , através da equação (14) calculamos: ε x , ε y e γ xy . Com estes
valores determinamos as deformações principais e respectivas direções:

2 2
εx +εy εx −εy γ xy
ε 1, 2 = ± +
2 2 2

ε x − ε1
θ 1 = arctg
γ xy
2 (15)

εx −ε2
θ 2 = arctg ou
γ xy
2
γ xy
tg 2θ =
(ε x −εy )
Com os valores de ε1 e ε 2 , calculamos as tensões σ 1 e σ 2 , através da lei de Hooke
generalizada:

13
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

E
σ1 = ⋅ (ε 1 + ν ⋅ ε 2 )
1 −ν 2 (16)
E
σ2 = ⋅ (ε 2 + ν ⋅ ε 1 )
1 −ν 2

2.3.2.2. Roseta retangular:

[3]
Fig. 10 – Roseta retangular ou 45º.

2.3.2.2.1. Solução analítica:

Substituindo θ a = 0 , θ b = 45º e θ c = 90º na expressão (14), resulta:

ε x = εa ; ε y = εb ; γ xy = 2 ⋅ ε b − ε a − ε c

que substituídos na expressão (15), resulta:

εa + εc
ε 1, 2 = ± (ε a − ε c )2 + (2 ⋅ ε b − ε a − ε c )2 (17)
2

2 ⋅ εb − εa − εc
tg 2θ = (18)
εa − εc

se 2 ⋅ ε b − ε a − ε c > 0 então 0º < θ 1 < 90º


tal que
se 2 ⋅ ε b − ε a − ε c < 0 então − 90º < θ 1 < 0º

2 ⋅ (ε 1 − ε a )
ou θ1 = arctg
2 ⋅ εb − εa − εc (18-a)
2 ⋅ (ε 2 − ε a )
e θ 2 = arctg
2 ⋅ εb − εa − εc

não necessitando interpretar os sinais.

14
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Substituindo a expressão (17) na (16), resulta:

E εa + εc 1
σ 1, 2 = ⋅ ± ⋅ (ε a − ε c ) 2 + (2 ⋅ ε b − ε a − ε c ) 2 (19)
2 2 1+ γ

2.3.2.2.2. Solução Gráfica (Círculo de Mohr):

As expressões (17) e (18) pode ser escritas da seguinte forma:

ε 1, 2 = A ± B onde

εx + εy
A= e
2
(20)
1
B = ⋅ (ε a − ε c ) 2 + (2 ⋅ ε b − ε a − ε c ) 2 = (ε a − A) 2
+ (ε b − A)
2

2
ε −A
tg 2θ = b
εa − A

Fig. 11 – Círculo de Mohr das deformações

A: posiciona o centro do círculo C.


B: é o raio do círculo.

15
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Procedimento para se traçar o círculo de Mohr:
- traçar 3 retas paralelas verticais, distantes ε a , ε b e εc de uma origem ‘O’ arbitraria num eixo
horizontal x;
- marcar um ponto sobre a vertical deε a , a um distância arbitrária, acima do eixo x;
- marcar a mesma distância sobre a vertical de ε c abaixo do eixo x obtendo um ponto;
- unir, através de uma reta, os dois pontos, que cortará o eixo x no ponto C, centro do círculo
de Mohr. A distância A está estabelecida;
- obter da própria figura os valores de εa − A e εb − A e desenhar o triângulo retângulo da
figura abaixo para obter o raio do círculo de Mohr B (de acordo com as expressões (20));

B
εb − A

εa − A

- dados, então, a origem do sistema, A e B construir o círculo de Mohr;


- como podemos ter 2 soluções para os valores de ε a , ε b e ε c , positivos ou negativos,

devemos pesquisar o sinal de


γ através do sinal de (ε b − A) :
2
Se (ε b − A) > 0 , o ponto ‘a’ está abaixo do eixo dos ε e o pólo fica determinado. Caso
contrário o ponto ‘a’ está acima do eixo dos ε.

Fig. 12 – Círculo de Mohr das deformações.

16
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
2.3.2.3. Roseta Delta:

[3]
Fig. 13 – Roseta delta ou 120º.

2.3.2.3.1. Solução Analítica:

Substituindo os valores de θ a = 0º , θ b = 120º e θ c = 240º nas expressões (14) resulta,


após a solução do sistema de equações as seguintes expressões:

εx = εa
1
ε y = ⋅ [2 ⋅ (ε b + ε c ) − ε a ]
3
2
γ xy = ⋅ (ε c − ε b )
3

que substituídas nas expressões (15) resulta:

εa + εb + εc 2
ε 1, 2 = ± ⋅ (ε a − ε b )2 + (ε b − ε c )2 + (ε c − ε a )2 (21)
3 3

3 ⋅ (ε c − ε b )
tg 2θ = (22)
2 ⋅ ε a − (ε b + ε c )
tal que:
- se ε c − ε b > 0 então 0º< θ 1 <90º
- se εc − εb < 0 então –90º< θ 1 <0º

ou

17
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

3 ⋅ (ε 1 − ε a )
θ 1 = arctg
εc − εb
3 ⋅ (ε 2 − ε a )
θ 2 = arctg
εc − εb

não necessitando interpretar os sinais.

Substituindo a expressão (21) nas expressões (16) resulta:

εa + εb + εc 2
σ 1, 2 = E ⋅ ± ⋅ (ε a − ε b )2 + (ε b − ε c )2 + (ε c − ε a )2 (23)
3 ⋅ (1 − ν ) 3 ⋅ (1 + ν )

2.3.2.3.2. Solução gráfica (Círculo de Mohr):

As expressões (21) e (22) pode ser escritas a seguinte forma:

ε 1, 2 = A ± B
1
A= ⋅ (ε a + ε b + ε c )
3
2 (24)
B= ⋅ (ε a − ε b )2 + (ε b − ε c )2 + (ε c − ε a )2
3
2 εc − εb
tg 2θ = ⋅
3 εa − A

A: posiciona o centro do círculo;


B: é o raio do círculo.

Procedimento para se traçar o Círculo de Mohr:


- traçar 3 retas paralelas e verticais distantes de εa , εb e εc de uma origem ‘O’ abritrária,
num eixo horizontal x;
- dispor a roseta de um modo que a direção do extensômetro b seja vertical;

c a
- marcar um ponto arbitrário sobre a vertical por εb . Este ponto será o Pólo do círculo de
Mohr;
- pelo Pólo traçar retas paralelas às direções dos extensômetros ‘a’ e ‘c’ que interceptam as
verticais por ε a e ε c nos pontos A e C;
- os três pontos A, Pólo e C determinam o círculo de Mohr.
NOTA: este procedimento é absolutamente geral e portanto aplicável a qualquer tipo de roseta,
desde que um dos gages esteja na vertical.

18
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
3. Tecnologia dos Extensômetros
[2]
3.1. Materiais Empregados:

Como verificamos anteriormente, o princípio de medidas com extensômetros elétricos, se


reduz à utilização da expressão:

dR
= K ⋅εx
R
onde K é o fator do gage que depende de inúmeros fatores, entre outros o material.
Poder-se-ia imaginar que vários materiais se prestariam à fabricação dos extensômetros,
mas uma série de considerações de compromisso devem ser atendidas restringindo, assim, a
escolha:

- o sinal deve ser, se possível, uma função linear da deformação;


- não deve ocorrer o fenômeno da histerese;
- a curva deve ser a mesma, tanto para cargas crescentes como para decrescentes;
- o material deve ter ainda:
• alta resistividade (ρ);
• alto limite de escoamento;
• baixa sensibilidade às variações com a temperatura;
• boa resistência à corrosão;
• boa soldabilidade.

A tabela I e a figura 14 e a tabela 01 ilustram alguma destas considerações:


[3]
Tabela I – Exemplos de materiais de extensômetros:

19
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 14 – Curvas de resposta à deformação de alguns materiais metálicos.

Poder-se-ia escolher, para aplicação em extensômetria, três tipos de materiais (fig.15) conforme
a resposta às deformações:

[]
Fig. 15 – Tipos recomendados para sinais de extensômetros.

20
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
onde:
- os tipos ‘a’ e ‘c’ são recomendados para pequenas deformações;
- o tipo ‘b’ é recomendado tanto para pequenas como para grandes deformações.

O Constantan (ADVANCE) tem uma curva do tipo ‘b’ e é uma das ligas mais usadas na
construção dos extensômetros.
Apresenta-se a seguir algumas características das ligas de maior uso:

a.) ligas Cu-Ni (55-45) – Constantan, Advance


- ensaios estáticos e dinânicos;
- temperatura até 200ºC;
- quando recozida é utilizada para grandes deformações ( ε ≅ 20% ).
b.) ligas Ni-Cr (80-20) – Nichrome V, Tophet A, Alby 200
- uso para ensaios a altas temperaturas;
- ensaios estáticos até 600ºC;
- ensaios dinâmicos até 980ºC;

c.) ligas Ni-Fe-Mo – Isoelastic, Elinvar, Dynaloy


- 36% Ni, 8% Cr, 0,5% Mo e 55,5% Fe;
- usado para ensaios dinâmicos;
- é influenciada pela temperatura;
- possui grande fator de sensibilidade (3,5);
- usado para ε de até 0,75%.

d.) ligas Ni-Cr-adições – Karma, Evanohm, Stabiloy


- 75% Ni, 20% Cr, Al, Fe, ...;
- é estável quanto a temperaturas;
- para ensaios dinâmicos até 800ºC;
- usado para ε de até 1%.

21
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
4. Características Construtivas[1,2]
4.1. Extensômetro elétrico de fio (wire):

Os gages de fio contém de 50 a 150mm de fio de diâmetro da ordem de 25µm, enrolados


em espiras chatas contidas em um plano ou em bobina em dois planos (fig. 16a/b). A sua
resistência interna é tomada como padrão nas medidas de 120Ω ou 350Ω.

[1,7]
Fig. 16 – Exemplos de extensômetros elétricos de fio.

22
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
4.2. Extensômetro elétrico de folha (foil):

Os extensômetros de folha são semelhantes ao de fio, residindo a diferença básica no


processo de fabricação onde se utiliza uma lâmina muito fina (3 a 10µm) obtida por corrosão em
ácido num processo de máscara fotosensitiva como nos circuitos impressos (fig. 17).

[3,5,7]
Fig. 17-a - Exemplos de extensômetros elétricos de folha.

23
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[7]
Fig.17-b – Exemplos de outros tipos extensômetros elétricos de folha.

24
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

Como comentou-se no capítulo I, os extensômetros de folha são os mais utilizados em


relação aos de fio devido a inúmeros fatores que reproduzimos a seguir:
- apresentam menor sensibilidade transversal;
- apresentam grande área de dissipação de calor;
- apresentam maior precisão nas dimensões, no fator do extensômetro (resistência nominal);
- apresentam uma grande área de colagem.

Como desvantagem principal temos o seu preço que é superior ao de fio.


[1,4]
4.3. Extensômetro de semicondutor:

Consiste num filamento de cristal de silício de pequenas dimensões montado em


suportes epóxicos ou fenólicos (fig.18).
Possuem como características importantes:
- grande capacidade de variação da resistência em função da deformação;
- elevados fatores de gage (aproximadamente ± 150).
A variação da resistência é dada por fenômeno piezo-resistivo, enquanto que nos
extensômetros metálicos, é dada pela variação de suas dimensões.
Um dos inconvenientes dos extensômetros semicondutores é que o fator do gage varia
com a deformação numa forma não linear, dificultando a interpretação das leituras, exigindo a
utilização de dispositivos ou circuitos linearizadores desses efeitos.

[7]
Fig. 18 – Tipos de extensômetro de semicondutor.

Apesar de que os extensômetros semicondutores sejam importantes devido a algumas


de suas características, inegavelmente os extensômetros metálicos são os mais utilizados.
Como os tamanhos e as aplicações são as mais variadas, recomenda-se que se
consulte manuais de fabricantes para uma boa escolha (Micro-Measurements, Kyowa, BLH,
etc...).
As figuras que se seguem mostram diferentes aplicações dentro da linha da MM (Micro-
Measurements).

25
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 19 - Gages Simples.

[3]
Fig. 20 - Roseta de 2 gages.

26
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig.21 - Roseta de 3 gages.

[3]
Fig. 22 - Rosetas de 4 gages.

27
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 23 - Rosetas Superpostas (2 e 3 gages) .

[3]
Fig. 24 - Gages longos.

28
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 25 - Gages sem suporte.

[3]
Fig. 26 - Gages para tensão residual.

[3]
Fig. 27 - Gages para gradiente de tensões.

29
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 28 - Gages para concentração de tensões.

4.4. Material de suporte:

Como sabemos os extensômetros elétricos são constituídos de um material condutor


fixado a um material de suporte isolante que se escolhe em função da temperatura de serviço:
- para T < 80ºC: papel impregnado com nitrocelulose; uso típico à temperatura ambiente;
papel fino ou grosso; baixa resistência à umidade;
- para T < 120ºC: suporte em epóxi; melhor resistência à umidade;
- para T < 175ºC estático e T < 205ºC curta duração: suporte em poliester ou poliimida;
- para T < 180ºC estático e T < 250ºC curta duração: suporte em baquelite;
- para T < 205ºC: suporte em epóxi com reforço em fibra de vidro;
- para temperaturas mais elevadas utilizam-se gages sem suportes aplicados com material
cerâmico, como o óxido de alumínio; T < 370ºC estático e T < 760ºC curta duração.

30
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
5. Efeito térmico secundário
Quando se aquece uma peça, sobre a qual um gage é colado (fig. 29), este registrará
uma variação de sua resistência R, devido ao aumento de sua temperatura e da diferença de
alongamento da peça e do seu alongamento próprio.

[]
Fig. 29 – Efeito Térmico sobre o gage.

Este efeito é expresso por:

∆R
= (α peça − α SG ) ⋅ K ⋅ ∆T + γ ⋅ ∆T (25)
R ∆T

onde:
α peça : coeficiente de dilatação linear do material da peça.
α SG : coeficiente de dilatação linear do material do SG.
K : fator do gage
γ : coeficiente térmico de variação da resistividade do material do gage.
Compreende-se que este efeito deve ser eleminado para que se possa medir somente o
efeito do carregamento sobre a estrutura.
Para que (∆R R )∆T
seja nulo, deve ocorrer a seguinte relação de dependência a partir
da expressão (25):

γ = −(α peça − α SG )⋅ K (26)

A tabela II abaixo dá os valores de ρ, K, α, γ em função dos diferentes materiais usados


para os gages.

Tabela II: Propriedades físicas dos materiais para extensômetros.


-6 -6
Material ρ20ºC (µΩcm) γ.10 a 20ºC K α.10 a 20ºC
ADVANCE 49 10 2,1 16
NICHROME 103 100 2,1 13
ISOELASTIC 80 500 3,6 7,2
KARMA 134 20 2,0 13,5
PLATINA 25 1300 5,1 8,7

31
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Um elemento que verifica a expressão (26) é chamado de autocompensado
relativamente a variação térmica.
Na realidade isto pode ocorrer em determinadas faixas de temperaturas para diferentes
materiais como se indica na figura 30 abaixo.

[3]
Fig. 30 – Strain Gages autocompensados.

6. A escolha de um extensômetro[5,6,7]
A multiplicidade de tipos, formas e materiais empregados para os extensômetros fazem
com que ocorram critérios de escolha, para determinadas aplicações, baseadas em alguns
fatores:

6.1. Alongamento:

O alongamento máximo suportado pelos extensômetros clássicos (material Constantan e


suporte epóxi) varia de 0,5% a 4% dependendo do tipo de colagem. Cada fabricante indica as
diferentes técnicas de colagem para os gages de sua fabricação e fornece igualmente os
produtos necessários para esta operação.
Alguns gages, conhecidos como “gages de grande alongamento” (liga de Constantan
especialmente tratada) em geral não sao autocompensados, e permitem medidas de
deformações de até 15%.
Outros gages, utilizados para medidas dinâmicas, fabricados em material Isoelastic
(Enlivar), oferecem uma grande resistência à fadiga com alguma possibilidade de
autocompensação. Os fatores K destes gages são em geral mais elevados que o dos gages
comuns (3,2 no lugar de 2,1).

6.2. Forma Geométrica:

É o caso dos gages simples, das rosetas e dos gages especiais, abordados no capítulo 3
e ilustrados através das figuras 19 a 28.

6.3. Tamanho do Gage:

A escolha da dimensão de um gage depende do gradiente de tensões no ponto onde ele


está colado, ou das freqüências de trabalho nas medidas dinâmicas.
O comprimento ativo dos gages comuns varia de 2 a 13 mm, sendo que fora os casos
especiais (células de carga, gages colados em materiais heterogêneos, etc...) podem chegar até
40mm. Em outros casos utilizam-se gages extremamente pequenos (0,2mm).

32
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
6.4. Temperatura de Funcionamento:

0 à 80ºC : material Constantan e suporte em epóxi


80 à 200ºC : material Constantan e suporte em epóxi reforçado com vidro
200 à 300ºC : material Ni-Cr e suporte em epóxi reforçado com vidro
T > 300ºC : material Ni-Cr e suporte cerâmico
0 à 80ºC : material Constantan e suporte epóxi
T < -80ºC : material Ni-Cr e suporte epóxi

6.5. Compensação de Temperaturas:

O gage escolhido deve ser autocompensado para o material da estrutura e para o


domínio de temperaturas de trabalho. Se a escolha não é possível, procura-se uma ligação mais
adequada (ver capítulo 8) ou uma correção das medidas obtidas (ver catálogos de fabricantes).

7. Técnica de Instalação dos Gages[1,2]


Para se obter resultados de deformação com os extensômetros elétricos, é indispensável
que se proceda uma boa colagem com técnicas e materiais desenvolvidos na área e difundidos
pelos diversos fabricantes.
A escolha do adesivo é de grande importância e deve ser norteada pelo bom
desempenho à temperatura, à fluência e que seja fácil de aplicação. Podemos citar 3 tipos de
adesivos:

7.1. Adesivos a base de cianocrilato: cura à temperatura ambiente; fáceis de usar; tempos de
colagem de alguns minutos; não necessitam de pressão de colagem.

7.2. Adesivos a base de nitro-celulose: uso à temperaturas próximas da ambiente; secagem


relativamente rápida; necessitam de alta pressão entre o gage e a peça devido a evaporação do
solvente.

7.3. Adesivos a base de poliester, acrílico e epóxi: usados normalmente com um catalizador;
aplicados com alta pressão entre o gage e a peça; tempos de cura variam com o tipo de produto,
podendo ser lentos (12horas) ou praticamente instantâneos (acrílicos).

A preparação da superfície para a posterior colagem do extensômetro deve seguir as


rotinas de uma perfeita limpeza com detergentes e solventes como o tricloroetileno, a benzina, a
acetona, o álcool, o acetato de amila e outros. Evidentemente que a remoção dos óxidos e da
tinta da superfície deve ser assegurada através de lixas.
Finalmente deve ser feita a impermeabilização do gage para que se garanta a vida da
instalação. Para tal utilizam-se ceras, graxas ou borrachas de silicone.

8. Instrumentação[1]
Como vimos no item 2.2., dois métodos de medidas extensométricas são usados:
-por montagem potenciométrica;
-por montagem em ponte de Wheatstone.
Apresentaremos a seguir as ligações em ponte de Wheatstone por tratarmos, por
enquanto, de medidas estáticas.

8.1. Ligações:

As ligações em ponte de Wheatstone são feitas substituindo seus braços pelos gages,
chamados ativos, através dos quais queremos efetuar as medidas. Conforme o número de
braços ocupados, teremos ligações ou montagem de ¼ de ponte, ½ ponte ou ponte completa.
Estando os 4 braços da ponte ocupados, a expressão que traduz a variação da tensão
com a variação da resistência dos gages é a expressão (13), reproduzida abaixo pelo (26). A

33
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
expressão (27) é a mesma, mas escrita em termos de deformações, e a figura 31 é o esquema
da ponte de Wheatstone.

E dR1 dR2 dR3 dR4


dU = ⋅ − + − (26)
4 R1 R2 R3 R4

E⋅K
dU = ⋅ [ε1 − ε 2 + ε 3 − ε 4 ] (27)
4

[3]
Fig. 31 – Ponte de Wheatstone.

8.1.1. Montagem ¼ de ponte (1gage):

Esta é a montagem mais simples, podendo ser efetuada em 2 ou 3 fios.

8.1.1.1. Montagem em 2 fios:

Nesta montagem, esquematizada na figura 32, pode-se reconhecer a diagonal de


alimentação CD, a diagonal de medidas AB e o gage ativo colocado no braço AC.
O inconveniente desta montagem é que o braço AC considera, além do gage R, os fios
de ligação EB1 e FB2. Mesmo que o gage seja autocompensado, efeitos térmicos parasitas agem
sobre os fios, além do que se os fios forem longos a resistência do braço AC pode se afastar
muito da resistência R do gage, mascarando em ambos os casos os resultados medidos.
Para este caso as expressões (26) e (27) reduzem-se em:

E dR1
dU = ⋅ e (28)
4 R1
E⋅K
dU = ⋅ε
4

34
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 32 – Ligação ¼ de ponte – 2 fios.

Para que se possa observar a sensibilidade desta montagem quanto a temperaturas,


tomemos o seguinte exemplo:
-RG = 120Ω
-K = 2,1
-30m de fio de cobre 26AWG ( 1 ⋅ R = 1Ω em cada braço)
2
-γ = 0,004 (coeficiente térmico de variação da resistividade do fio)
-para uma variação de temperatura ∆T = 1º C , teríamos:

∆R = R ⋅ γ ⋅ ∆T = 2 ⋅ 0,004 ⋅ 1 = 0,008Ω
1 ∆R 1 0,008
ε= ⋅ = ⋅ = 31,2 µε /º C
K R 2,1 (120 + 2)

8.1.1.2. Montagem em 3 fios:

Os inconvenientes destacados na montagem em 2 fios podem ser eliminados por esta


montagem, esquematizada na figura 33, que conserva um fio EB1 no braço ativo da ponte e
coloca o segundo fio FB2 ligado no braço adjacente da mesma, anulando-se, desta forma, a
influência das resistências dos fios. As expressões (28) e (29) permanecem válidas.

[3]
Fig. 33 – Ligação ¼ de ponte – 3 fios.

35
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Nota: não obstante, os efeitos térmicos secundários devido aos fios, com ligação em 3 fios,
serem eliminados, um erro deve ser considerado na leitura devido à introdução, em série, com a
resistência do gage, da resistência dos fios. Para medidas precisas deve-se considerar a
seguinte correção:

1 ∆R
ε real = ⋅
K RG
1 ∆R
ε medido = ⋅
K RG + r

r é a resistência dos fios.

ε real (R + r )
= G
ε medido RG
(30)
( RG + r )
ε real = ⋅ ε medido
RG

para o exemplo anterior onde RG = 120Ω e r = 2Ω teríamos:

120 + 2
ε real = ⋅ ε medido
120

que corresponde a um erro de 1,66%, perfeitamente desprezado nas medições usuais.

8.1.2. Montagem em ½ ponte:

Esta montagem, esquematizada pela figura 34, utiliza gages ativos instalados em braços
adjacentes ou opostos da ponte, conforme se queria a diferença, ou a adição dos sinais,
respectivamente. Das expressões (26) e (27) podemos ter:

E dR1 dRr
dU = ⋅ −
4 R1 R2
montagem em braços adjacentes ou (31)
E⋅K
dU = ⋅ (ε 1 − ε 2 )
4

E dR1 dR3
dU = ⋅ +
4 R1 R3
montagem em braços opostos ou (32)
E⋅K
dU = ⋅ (ε 1 + ε 3 )
4

36
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 34 – Ligação ½ de ponte com dummy.

Uma aplicação importante desta montagem é a compensação de temperaturas com um


gage compensador (DUMMY GAGE), quando não dispomos de gages autocompensadores de
temperaturas. A montagem é feita em braços adjacentes com o gage ativo colocado na estrutura
que se quer medir as deformações, e o DUMMY colado num pedaço do mesmo material da
estrutura em estudo, isento de cargas, mas sofrendo as mesmas variações de temperatura
daquela. A compensação é feita da seguinte forma:

E dR + dRT dRT E dR
dU = ⋅ − = ⋅
4 R R 4 R

Exemplos de aplicação:

1) Flexão Normal:

E⋅K
dU = 2 ⋅ ⋅ε (sinal dobrado)
4

E⋅K
dU = ⋅ ε ⋅ (1 + ν ) (sinal multiplicado por 1 + ν )
4

37
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
2) Tração:

E⋅K
dU = 2 ⋅ ⋅ε
4

E⋅K
dU = ⋅ ε ⋅ (1 + ν )
4

3) Flexão Oblíqua:

- gages montados em braços adjacentes para obtermos os efeitos da flexão;


- gages montados em braços opostos para obtermos os efeitos da tração.

8.1.3. Montagem em ponte completa (4gages):

Esta é a montagem mais utilizada na realização de captores que se constitui por 4 gages
ativos substituindo os 4 braços da ponte (fig. 35). As diagonais de alimentação e de medidas são
respectivamente FR e HI. As expressões (26) e (27) são diretamente aplicadas nesta montagem.

[3]
Fig. 35 – Ligação em ponte completa.

Como exemplos de aplicação podemos ter montagens que quadriplicam ou que


multiplicam por 2 ⋅ (1 + ν ) o sinal:

38
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

Flexão Normal
E⋅K
dU = 4 ⋅ ⋅ε
4

E⋅K
dU = 2 ⋅ (1 + ν ) ⋅ ⋅ε
4

39
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 36 – Esquema de todas as ligações.

40
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 37 – Influência do comprimento dos cabos de ligação na medida.

[3]
Tabela III: Aplicações para as células de carga.

41
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Tabela IV: Aplicações para as células de carga.

42
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

PARTE III: FOTOELASTICIDADE[3]

1. Definições
- fotoelasticidade: é a ciência que estuda os efeitos físicos, sobre a luz, devidos à ação de
tensões ou deformações em corpos elásticos transparentes.
- fotoelasticimetria: é a técnica experimental que serve para medir as tensões por
fotoelasticidade.

No estudo da fotoelasticidade e fotoelasticimetria estão envolvidos diversos conceitos de


Física, tomados como pré-requisitos. Estes conceitos são: luz natural, luz monocromática, luz
polarizada, filtro polarizante e birrefringência.

2. Princípio
- birrefringência acidental: certos corpos transparentes e opticamente isotrópicos (vidro, araldite,
resinas, epóxi,...) quando solicitados externamente tornam-se birrefringentes. Os eixos de
birrefringência são os eixos principais de tensões ou deformações.

[3]
Fig. 01 – Birrefrigência acidental.

Eixos (1) e (2) são os eixos de birrefringência.

1 1
ε1 = ⋅ (σ 1 − ν ⋅ σ 2 ) ; ε2 = ⋅ (σ 2 − ν ⋅ σ 1 ) (1)
E E
onde: E é o módulo de elasticidade do material;
ν é o coeficiente de Poisson do material.

43
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 02 – Birrefrigência acidental.

2.1. Retardos Ópticos:

Seja uma vibração luminosa polarizada, atravessando uma lâmina birrefringente de


espessura ‘e’.
Esta vibração é decomposta em duas outras, segundo os eixo de birrefingência do
material. Como as respectivas velocidades de propagação são diferentes, ao emergirem da
lâmina, as vibrações apresentarão um retardo óptico S.
Lei de NEUMANN: S = K ⋅ e ⋅ (ε 1 − ε 2 ) (2)

44
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

Lei de MAXWELL: S = C ⋅ e ⋅ (σ 1 − σ 2 ) (3)

onde K e C são constantes características do material.

A diferença das (1) nos dá:

E δ
(σ 1 − σ 2 ) = ⋅
1 +ν K ⋅ e

δ E δ C⋅E
e substituindo as relações (2) e (3) resulta: = ⋅ 
→ K=
C ⋅e 1 +ν K ⋅ e 1 +ν
2.2. Método de Medidas:

Os procedimentos fotoelasticimétricos consistem em colocar em evidência, por métodos


interferênciais, não o retardo óptico mas a diferença de fase ϕ entre as vibrações emergentes:

δ e ⋅C e⋅K
ϕ = 2 ⋅π ⋅ = 2 ⋅π ⋅ ⋅ (σ 1 − σ 2 ) = 2 ⋅ π ⋅ ⋅ (ε 1 − ε 2 )
λ λ λ
onde λ é o comprimento de onda.

2.2.1. Modelos: constrói-se, em um material transparente, e dotado de fenômeno da


birrefringência acidental, um modelo da estrutura à estudar, que é observado em luz polarizada,
seja por transmissão, ou seja, por reflexão (esquema segundo a figura 04).

2.2.2. Revestimentos Fotoelásticos: recobre-se a superfície da peça a estudar com uma camada
de material birrefringente, assegurando-se da perfeita colagem, de modo a poder se afirmar que
as deformações do revestimento são idênticas às deformações da estrutura. Observa-se, agora,
o material por reflexão. Neste caso θ = 2t .

• Transmissão:

[3]
Fig. 03 – Fotoelasticidade por trasmissão.

F: fonte
P: polarizador
A: arralisador
O: observador
M: modelo
R: revestimento fotoelástico

45
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

• Reflexão:

[3]
Fig. 04 – Fotoelasticidade por reflexão.

3. Polarímetro

[3]
Fig. 05 – Esquema de um polarímetro.

46
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
- seja V0 = a 0 ⋅ sen(ω ⋅ t ) a vibração polarizada, incidente no modelo;
- seja V1 e V2 as vibrações emergentes do modelo apresentando uma defasagem ϕ;

δ e ⋅C e⋅K
ϕ = 2 ⋅π ⋅ = 2 ⋅π ⋅ ⋅ (σ 1 − σ 2 ) = 2 ⋅ π ⋅ ⋅ (ε 1 − ε 2 )
λ λ λ
- seja V3 e V4 as componentes de V1 e V2 na saída do analisador.

Calculemos a intensidade luminosa transmitida pelo dispositivo:

ϕ
V1 = a 0 ⋅ cos α ⋅ sen ω ⋅ t +
2
ϕ
V2 = a 0 ⋅ sen α ⋅ sen ω ⋅ t −
2

ϕ ϕ
As defasagens ϕ1 = + e ϕ2 = − foram tomadas por conveniência, pois o resultado
2 2
da interferência das vibrações, à saída do analisador somente depende da defasagem relativa
e⋅K
ϕ = ϕ1 − ϕ 2 = 2 ⋅ π ⋅ ⋅ (ε 1 − ε 2 )
λ

ϕ
V3 = V1 ⋅ sen α = a 0 ⋅ sen α ⋅ cos α ⋅ sen ω ⋅ t +
2
ϕ
V4 = V2 ⋅ cos α = a 0 ⋅ sen α ⋅ cos α ⋅ sen ω ⋅ t −
2

a vibração resultante será:

V = V3 − V4
a0 ϕ ϕ
V= ⋅ sen 2α ⋅ sen ω ⋅ t + − sen ω ⋅ t −
2 2 2
a0 ϕ
V= ⋅ sen 2α ⋅ sen ⋅ cos ω ⋅ t
2 2

a intensidade luminosa à saída do analisador será:

2
a0 ϕ
I= ⋅ sen 2 2α ⋅ sen 2
2 2

47
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
Podemos ter dois casos de extinção da luz:

a.) → α = 0 ou α = π :
sen 2α = 0 
2
No ponto considerado, as direções do polarizador e do analisador coincidem com as
direções principais. O lugar dos pontos, cujas direções principais são paralelas e perpendiculares
a uma direção fixa, é uma linha ou frange negra, chamada ISÓCLINE.
b.) sen ϕ → ϕ = 2 ⋅ n ⋅ π n = 0, 1, 2,... :
= 0
2

δ
ϕ = 2 ⋅π ⋅ = 2 ⋅ n ⋅π δ = n⋅λ
λ
O retardo óptico entre as duas vibrações é múltiplo inteiro do comprimento de onda
utilizado e n = 0, 1, 2, 3... é chamado de ordem de interferência. Devido à relação (3) temos:

S = e ⋅ C ⋅ (σ 1 − σ 2 ) mas δ = n ⋅ λ = e ⋅ C ⋅ (σ 1 − σ 2 )

λ
(σ 1 − σ 2 ) = n ⋅ f com f =
e⋅C

Obteremos uma linha ou frange negra ou colorida (luz monocromática ou natural) que é
o lugar dos pontos cuja diferença de tensões principais é igual a um múltiplo inteiro de ‘f’. Tal
linha é chamada ISOCROMÀTICA.

[3] [3]
Fig. 06 – Ordem das franjes. Fig. 07 – Retardos óticos.

48
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
3.1. Luz Monocromática:

3.1.1. Isóclines: são sempre franges negras, pois elas dependem unicamente do ângulo α ;
3.1.2. Isocromáticas: são sempre franges negras, pois correspondem à extinção de um mesmo e
único comprimento de onda λ .

3.2. Luz Natural:

3.2.1. Isóclines: idem item 1.1;


3.2.2. Isocromáticas: as franges tem um aspecto colorido a menos da frange de ordem zero que
é negra. Em todos os pontos, onde o retardo óptico tem o mesmo valor ( σ 1 − σ 2 = cte ), iguais
cores serão transmitidas em idênticas proporções. Isto justifica o nome isocromática, linha de
mesma cor.

Obs.: quando se observar uma passagem rápida do vermelho para o azul, fenômeno este que se
dá pela extinção de uma das componentes da luz natural, o amarelo ( λ0 = 0,5650 µ ), a ordem

da frange é um. A experiência comprova que para → λ = 2 ⋅ λ0 e a passagem


n=2 
rápida, agora, é do vermelho para o verde. Este fenômeno vai se repetindo para n = 3, 4, ... ,
mas a passagem vai se tornando menos nítida, devido a interferência de diversas cores que vão
se compondo e aproximando-se de um branco, chamado de ordem superior.

[3]
Fig. 08 – Zonas de extinção da luz em função da birrefringência.

49
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
3.3. Eliminação das Isóclines:

Quando uma placa fotoelástica, solicitada externamente, é observada em um


polarímetro, dois grupos de franges estão presentes: as isóclines e as isocromáticas. As
primeiras nos permitem determinar as direções principais em todos os pontos da placa, pois
como só dependem do ângulo entre o eixo de polarização e uma das tensões principais, elas se
deslocam para uma rotação solidária do polarizador e do analisador. As isocromáticas,
permanecendo inalteradas, por essa rotação, nos indicam a diferença das tensões principais em
todos os pontos da placa.
Uma vez determinada as direções principais, é necessário eliminar as isóclines para que
não prejudiquem a observação das isocromáticas. Isto é possível para uma rotação rápida do
conjunto solidário polarizador-analisador, se bem que não seja a técnica utilizada em
fotoelasticidade.
Emprego de lâmina quarto de onda: é uma lâmina em material birrefringente e de
espessura tal que provoca um retardo óptico de λ entre as vibrações emergentes. Quando
4
colocada entre o polarizador e o modelo, com seus eixos a 45º em relação ao eixo do
polarizador, tem a propriedade de fazer girar o plano de polarização.

λ
δ π
Como ϕ = 2 ⋅π ⋅ → ϕ = 2 ⋅ π ⋅ 4 
 → ϕ =
λ λ 2

Nestas condições, se:


a.) polarizador e analisador cruzados:

2
a ϕ
I = 0 ⋅ sen 2 ∴ ϕ = 2 ⋅ n ⋅π (n = 0, 1, 2, 3, ...)
2 2

δ
ϕ = 2 ⋅π ⋅ = 2 ⋅ n ⋅π 
→ δ = n ⋅ λ
λ
b.) polarizador e analisador paralelos:

2
a0 ϕ
I= ⋅ cos 2
2 2

∴ ϕ = (2 ⋅ n + 1) ⋅ π (n = 0, 1, 2, 3, ...)

δ 2 ⋅ n +1
ϕ = 2 ⋅π ⋅ = (2 ⋅ n + 1) ⋅ π 
→ δ = ⋅λ
λ 2

Obs.: como a presença da lâmina quarto de onda modificou a birrefringência total, compensa-se
este efeito colocando entre o modelo e o analisador uma outra lâmina quarto de onda, orientada,
perpendicularmente à primeira. Resulta desta montagem os cálculos acima.

3.4. Compensadores:

Vimos que é possível se conhecer as isocromáticas de valores correspondentes a


1 3 5
n = 0, 1, 2, 3, ... assim como a n = , , , ... .
2 2 2
Uma questão se coloca: como medir a diferença das tensões principais (σ 1 − σ 2 ) em
um ponto situado entre as duas isocromáticas?

50
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

3.4.1. Compensador COKER:

[3]
Fig. 09 – Compensador Coker.

51
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

4.2.) Compensador BABINET:

[3]
Fig. 10 – Compensador Babinet.

52
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

4.3.) Compensador BRAVAIS:

[3]
Fig. 11 – Compensador Bravais.

3.5. Interpolação angular:

Partindo-se de uma posição fixa do conjunto polarizador e analisador cruzados, girarmos


somente o analizador, notaremos que as isocromáticas se deslocam de tal modo que, para uma
rotação de 180º do analisador, teremos o aspecto inicial das franges, de volta à nossa
observação.
Se o polarizador é colocado paralelamente a uma direção principal, no ponto observado
(isto se faz com o auxílio das isóclines) e assinalada esta posição como a inicial ( β = 0 ) e se
em seguida girarmos o analisador até que a frange de ordem inferior atinja o ponto observado, o
( )
valor do incremento ∆ σ 1 − σ 2 será proporcional à esta rotação do analisador.

Exemplo: o ponto observado está entre as franges 5 kgf mm 2 e 10 kgf mm 2 .

45
Se β = 45º então (σ 1 − σ 2 ) = 5 ⋅ 1+ = 6,25 kgf mm 2
180

53
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais
4. Figuras Diversas

[3]
Fig. 12 – Banco Fotoelástico por transmissão.

[3]
Fig. 13 – Polarímetro por reflexão.

54
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 14 – Exemplo de uma análise fotoelástica.

[3]
Fig. 15 – Exemplo de uma análise fotoelástica.

55
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 16 – Exemplo de uma análise fotoelástica.

56
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

[3]
Fig. 17 – Exemplo de uma análise fotoelástica.

[3]
Fig. 18 – Exemplo de uma análise fotoelástica.

57
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

REFERÊNCIAS BIBLIOGRÁFICAS

1. DALLY, JAMES W.; RILEY, WILLIAM F. Experimental Stress Analysis. McGraw-Hill Editora,
3ª edição, 1999, p.134-136, 136-140, 164-165, 165- 168, 214-233, 311-315, 169-173, 146-
173, 146-154, 173-179.

2. WINDOW, A. L. Strain Gauge Technology. Elsevier Applied Science Editora, 2ª edição,


1992, p.5-7, 10-17, 275-292, 39-62, 151-158.

3. AVRIL, JEAN Encyclpedie Vishay D´Analyse des Contraintes. Vishay-Micromesures, 1ª


edição, 1974, p169-256, 49-152.

4. HOLISTER, G. S. Experimental Stress Analysis – Principles and Method. Cambrige


Engineering Series, 1ª edição, 1967, p.86-88.

5. WIERINGA, H., Experimental Stress Analysis, Martinus Nijhoff Publishers, 1980

6. MILES, A. W.; TANNER, K.E., Strain Measurement Biomechanics, Capman & Hau, 1982

7. DURELLI, A. J., Applied Stress Analysis, Pretence-Hall, Inc, 1967

8. Strain, Strain British Society for Strain Measurements

9. Catálogo de extensômetro HBM.

10. Catálogo de extensômetro MM.

11. Catálogo de extensômetro KYOWA.

58
Apostila de Experiências – Laboratório de Resistência dos Materiais

59

Você também pode gostar