Nanociencia y Nanotecnología

La nanoescala se refiere a longitudes entre 1nm y 100nm, 1m=1x109 nanómetros.

Nanociencia: Análisis y manipulación de materiales al nivel atómico o moléculas, donde las características o propiedades
de los mismos se diferencian significativamente de las presentadas a una escala mayor.

Nanotecnología: Diseño, caracterización, producción y uso de estructuras de dispositivos y de sistemas cuya forma y
tamaño se controla a escala manométrica (nanoescala). Al manipular la materia a escala de átomos y moléculas
aparecen propiedades totalmente nuevas.

Áreas clave de aplicación de nanotecnología

Nanobiotecnología Nanomateriales Nanoelectrónica Sensores & Instrumentación y
Actuadores metrología
Entrega de Energía/Aeroespacial Almacenamiento de Carros Dimensión crítica
medicamentos datos
Descubrimiento de Automóviles/Defensa Displays Monitoreo de la Análisis químico
medicamento contaminación
Dispositivos Construcción Celdas solares Dispositivos médicos Medida de espesor
implantables
Diagnósticos Cosméticos Computadoras Electrónica de Control de calidad
Cuánticas consumo

Técnicas de manufactura
Bottom-up Top-down
Manipulación directa de átomos Litografía
CVD Dispositivos electrónicos chips
Auto-ensamblaje Quantum laser Chips de ordenador MEMS
Reactores de plasma Espejos ópticos de alta calidad
PVD Tallado, grabado, molido
Sol-gel Superficies de precisión

Manipulación directa de los átomos (por AFM-microscopio de fuerza atómica): La punta es controlada por una
computadora, escanea y la deflexión mecánica se transfiere como una señal eléctrica. La manipulación se transfiere
como una señal eléctrica. La manipulación de átomos puede lograrse mediante:

 La selección apropiada de carga (polaridad)

 La magnitud y la duración del voltaje aplicado entre el tip y la superficie de la muestra
 La separación entre tip(punta) y la muestra

La remoción de átomos puede seré selectiva. Los átomos pueden depositarse una vez removidos.

Autoensamblaje: En esta técnica, capas monomoleculas se forman sobre un substrato a partir de la inmersión de este
en una solución del material orgánico. En este caso se aprovecha la reactividad y la afinidad que posee los grupos
uncionales por la composición química del sustrato.
Reactores de plasma: En los reactores de plasma, el plasma (gas ionizado) proporciona energía para la vaporización. Las
partículas se forman a partir de la fase gaseosa.

CVD (chemical vapor deposition): Es la formación de una película solida no volátil sobre un sustrato por la reacción de
químicos en fase de vapor (reactivos) que contienen los componentes requeridos. Es particularmente útil cuando las
nanosites se han diseñado por primera vez en una superficie y el material se coloca posteriormente en los sitios.

Sol-gel: El sol está hecho de partículas sólidas de un diámetro de unos cuantos nm suspendidas en una fase liquida,
luego las partículas se condensan en una nueva fase (gel), en la que una macromolécula solida se sumerge en una fase
liquida (solvente). Al secar el gel mediante tratamientos a baja temperatura (25-100°C), es posible obtener matrices
solidas porosas (XEROGELS).

Fabricación de nanomateriales: de la investigación a la industria

Nanomateriales como: CNT-nanotubos de carbono, CNF-nanofibras de carbono.

2.- Métodos para la síntesis a gran escala de nanomateriales

2.1.- Enfoques Bottom-up

2.1.1.- Técnicas de fase vapor

2.1.1.1.- Procesos basados en aerosol

Un aerosol puede definirse como un sistema de partículas sólidas o liquidas suspendidas en el aire y otro ambiente
gaseoso. Las partículas pueden variar desde moléculas hasta 100µm de tamaño, spraying se utiliza para secar materiales
húmedos o para aplicar recubrimientos.

2.1.1.2.- Condensación atómica o molecular (condensación de gas).

Las partes principales del sistema de condensación de gas son una cámara de vacío que consiste en un elemento de
calentamiento, el metal a vaporar, el equipo de recolección de polvo y un sistema de bombeo. Un material a granel se
calienta (muy por encima del punto de fusión, pero menos que el punto de ebullición) dentro de una cámara de vacío, se
dirige a una cámara llena de una atmosfera de gas reactivo o inerte. El rápido enfriamiento de los átomos metálicos,
debido a su colisión con las moléculas de gas, conduce a la nucleación y, posteriormente, a la formación de
nanoparticulas.
2.1.1.3.- Generación de descarga de arco

Esta técnica se basa en cargar dos electrodos hechos de metal para evaporizar en presencia de un gas inerte. Se aplica
una gran corriente hasta que se alcanza el voltaje de ruptura. El arco creado atreves de los electrodos conduce a la
vaporización de una pequeña cantidad de metal de un electrodo a otro. Este método produce cantidades muy pequeñas
de nanoparticulas metálicas, pero se caracterizan por una reproducibilidad relativa. Se manejan temperaturas
extremadamente altas, que deriva a altas tasas de evaporación del proceso, además de altas concentraciones de metal
vaporizado que pueden producir partículas grandes.

2.1.1.4.- Proceso de ablación con laser

La técnica de ablación con láser consta de dos elementos importantes: el rayo láser de alta potencia con el sistema de
enfoque óptico y el dispositivo de alimentación del objetivo del metal. El rayo láser se enfoca en la superficie del
objetivo y un chorro supersónico de material evaporado (conocido como pluma) se expulsa perpendicular a la superficie
del objetivo, expandiéndose hacia el espacio de gases sobre el objetivo. Producción de materiales altamente cristalinos.
No es para producción a gran escala, por su bajo rendimiento y alto costo de operación.

2.1.1.5.- Procesos de plasma

Los procesos de plasma se pueden dividir en dos categorías, el proceso de plasma de microondas y la síntesis de rociado
de plasma. En el proceso de plasma de microondas, las partículas se originan en la zona de plasma y transportan cargas
eléctricas, se puede hacer a temperaturas más bajas que el CVD, pero las cargas eléctricas de las partículas permanecen.
La síntesis por pulverización de plasma es un método que puede usarse incluso en la atmósfera abierta para la
producción de nanopartículas. Las ventajas del método son su simplicidad, el bajo costo y la producción en masa que se
puede lograr. Los requisitos para la recolección segura y eficiente de partículas restringen la aplicación del método.

2.1.1.6.- Deposición química de vapor (CVD)

La deposición química de vapor, se refiere a la actuación de reacciones químicas entre una superficie de sustrato y un
precursor gaseoso para depositar una película solida delgada sobre el sustrato. La activación se puede lograr con
temperaturas elevadas (CVD Térmicas) o con plasma (PECVD: Deposición química de vapor mejorada por plasma). Un
sistema de CDV industrial típico incluye un sistema de suministro de gas, cámara de reacción o reactor, sistema de carga,
descarga (transporte de sustratos), sistema de energía, sistema de vacío, sistema de control automático del proceso y
sistema de tratamiento de gases de escape. Se han depositado 70% de los elementos de la tabla periódica.

2.1.2 Técnicas en fase liquida

2.1.2.1.- sol-gel

El proceso de sol-gel es un método químico que se basa en reacciones hidrólisis o condensación. Para generar
nanoparticulas coloidales a partir de la fase liquida. Las ventajas como las bajas temperaturas durante el procesamiento,
la versatilidad y la fácil configuración e incrustación. Este método provoca el riesgo de liberación de nanopartículas
después del secado de la solución.
2.1.2.2.- Método solvotermico

El método solvotermico es apropiado para la preparación de materiales de óxido cristalino y no oxido. La principal
ventaja del método es que problemas como toxicidad de los solventes, la incapacidad de disolver sales y el gasto,
pueden superare. Muchas veces el método incluye procesos adicionales como hidrolisis, oxidación y termólisis. La
síntesis hidrotermica es adecuada para la producción de polvos finos y óxidos. Las temperaturas de operación
generalmente están por debajo de 100°C y la presión excede la presión ambiente.

2.1.2.2.- Método sonoquimico

La sonoquimica es el área de investigación den la que las moléculas sufren una reacción química debido a la aplicación
de una potente radiación de ultrasonido. Este método se ha utilizado ampliamente para producir materiales
manométricos con propiedades inusuales, ya que las condiciones únicas (temperaturas muy altas (5000K), presiones
(>20MPa) y velocidades de enfriamiento (>109Ks-1 )). Facilitan la formación de partículas más pequeñas y diferentes
formas de productos en comparación con otros métodos. La principal ventaja en la realización de experimentos
sonoquimicos es que es muy barato.

2.2 Enfoques Top-dawn

2.2.1.- Técnicas en fase solida

2.2.1.1.- Desgaste mecánico (molienda, procesamiento mecanicoquimico)

El desgaste mecánico (MA-Mechanical attrition) es un método que se ha desarrollado desde 1970, como un proceso
industrial para producir nuevas aleaciones y mezclas de fases a partir de partículas de polvo.

Este método puede superar las limitaciones de cantidad para la preparación nanocristalina, por lo que los polvos
nanocristalinos se pueden producir a gran escala. Una ventaja importante es que proceso mecánico de molienda puede
funcionar a bajas temperaturas, por los que los granos recién formados pueden crecer muy lentamente. Se han
desarrollado dos técnicas diferentes para la producción de nanopolvos utilizando molienda mecánica. El primero es
moler un polvo monofásico controlando el punto de equilibrio entre la fracturación y la soldadura en frio. Mientras que
la molienda mecánica es muy sensible a la contaminación, el control atmosférico puede usarse para reacciones químicas
entre el medio ambiente y los polvos molidos. El procesamiento mecanicoquimico (MCP), que consiste en el segundo
método de desgaste mecánico.

Nanomanufactura - perspectiva y aplicaciones

La nanomanufactura implica la fabricación a gran escala, confiable y rentable de materiales, estructuras, dispositivos y
sistemas a nanoescala. Los métodos de nanomanufactura se pueden clasificar en enfoques top-dawn y bottom-up,
incluidos los procesos de conservación masiva, aditivos, sustractivos y de replicación. Estos incluyen un conjunto de
diversas técnicas, tales como nanomáquinas, nanofabricacion, y nanometrologia para producir componentes de
nanotecnología.

Scaled-up - ampliado
↓
Cost effective← Nanomanufactura implica →De confianza – reliable

La manufactura nanométrica incluye la fabricación con precisión nanométrica y escala nanométrica en general.

Los componentes fabricados por nanofabricación se pueden clasificar en dos categorías de la siguiente manera:
• Piezas con nano y microestructuras con tamaños de características a escala nanométrica. Las piezas son microscópicas
o macroscópicas.
• Piezas con precisión geométrica a nivel nanométrico. Los dispositivos están en la escala macroscópica.
Las tecnologías de nanofabricación apuntan a fabricar nanoestructuras y piezas con nanoexactitud.
3.1 Mecanizado nanomecánico

El mecanizado mecánico incluye principalmente el corte convencional, el rectificado y el pulido. El nanocorte y la

molienda se utilizan ampliamente para la fabricación de superficies funcionales de alto rendimiento. La eficiencia de
estos métodos está determinada principalmente por la precisión del mecanizado en comparación con la técnica de
pulido. El proceso de pulido es tilizado en la fabricación de espejos aeroespaciales. La tarea principal del pulido es
eliminar las marcas de corte además de mejorar la precisión de la forma. Se ha propuesto el método de mecanizado de
emisión elástica (EEM) para eliminar las marcas en la superficie fabricada con el fin de obtener una superficie
extremadamente suave.
El pulido sin contacto es el enfoque principal para lograr superficies ultra suaves y sin daños. EEM, descrito
anteriormente, es un tipo de método de pulido sin contacto que puede lograr una superficie ultra suave con una
rugosidad de 0,1 nm. El mecanizado por vaporización química de plasma (PCVM) se ha utilizado para pulir las obleas de
cristal de cuarzo para lograr una superficie libre de daños y mejorar la uniformidad del espesor. El plasma activa las
partículas de gas y lo hace reaccionar con los átomos de la superficie, generando productos volátiles. El procesamiento
del material de superficie finalmente se logra por evaporación de gas. El PCVM controlado numéricamente se puede
usar para fabricar un espejo de área grande.

3.2. Nanolitografía

La nanolitografía es el estudio y la fabricación de nanoestructuras, es decir, patrones con al menos una dimensión lateral
entre 1 nm y 100 nm. La nanolitografía se ha desarrollado para permitir la producción industrial de circuitos integrados
(IC) y dispositivos de sistema microelectromecánico (MEMS). Estos nanoelectrodos pueden fabricarse de manera
confiable y reproducible y pueden caracterizarse por métodos electroquímicos convencionales con un área de superficie
geométrica de Au nanoelectrodos [81]. La nanolitografía permite la fabricación de nanoelectrodos de oro (Au) con un
área de superficie geométrica de 160 nm x 1 mm en una película aislante de SiN [115].

Litrografia enmascarada: La litografía enmascarada es adecuada para la producción en masa, generalmente con un
tamaño de característica mínimo de varios micrómetros, además de una alta precisión de alineación. Algunas
tecnologías novedosas, como la litografía suave y la litografía por nanoimpresión, permiten fabricar estructuras de varias
o pocas decenas de nanómetros; Esto se detalla en la sección de replicación.
Litografica sin mascara: La litografía sin máscara siempre funciona en el modo de escritura directa, creando patrones
arbitrarios a resolución ultra alta con un tamaño de característica mínimo de unos pocos nanómetros. En estos métodos,
un haz de energía, como un haz de electrones y un haz de iones enfocado, se utiliza principalmente en el modo de
exploración en una resistencia para la exposición. Pero estos métodos satisfacen principalmente los requisitos
académicos debido al menor rendimiento.
Tambien se tiene la nanolitrografia con AFM (microscopio de fuerza atómica).
La litografía de sputtering secundaria (SSL), que es un nuevo concepto de litografía 3D, puede modelar nanoestructuras
3D con una alta relación de aspecto en un área grande a través de un proceso de fabricación efectivo.

3.3. Mecanizado por haz de energía

El mecanizado por haz de energía es un conocido proceso de mecanizado sin contacto que se puede aplicar a casi todos
los materiales. Un haz de energía se enfoca para fundir o vaporizar y eliminar el material no deseado del material
principal. El haz de energía típico incluye haz de iones, rayo láser y haz de electrones.
El haz de iones enfocado (FIB) se usa particularmente en la industria de los semiconductores, en la ciencia de los
materiales y, cada vez más, en el campo biológico para el análisis, la deposición y la ablación de materiales específicos.
Las herramientas de corte diamantadas con radios de borde nanométrico utilizadas en el mecanizado de ultraprecisión
pueden fabricarse con FIB.

3.4. Deposición y grabado

La deposición química de vapor (CVD) y la deposición física de vapor (PVD) son los principales métodos de deposición.
CVD es un proceso químico utilizado para producir materiales sólidos de alta calidad y alto rendimiento. El CVD se usa a
menudo en la industria de los semiconductores para producir películas delgadas. Por otro lado, la PVD utiliza procesos
físicos (como calentamiento o pulverización) para vaporizar un material, que luego se deposita sobre el objeto que
requiere recubrimiento.

3.5. Nanoimpresión
El método de impresión es un proceso específico de nanofabricación aditiva, mientras que los métodos tradicionales con
precisión limitada incluyen la impresión térmica y piezoeléctrica, así como la impresión electrostática. Con la llegada de
la impresión a chorro electrohidrodinámico, las gotas que son más pequeñas que la boquilla en sí pueden imprimirse a
temperatura ambiente ya gran velocidad. Por ejemplo, la nanolitografía por inmersión / pluma (DPN) es un importante
método de impresión por napa que ha eliminado la necesidad de una boquilla de inyección. La impresión nano ha
encontrado muchas aplicaciones en electrónica, biotecnología y síntesis / diseño de materiales. En particular, es
ampliamente utilizado en nanobiotecnología para construir nanobiomateriales o nanoestructuras.

3.6. Nanoensamblaje
El montaje es un enfoque de abajo hacia arriba. Es adecuado para la fabricación de nanosistemas y nanoestructuras con
geometría 3D compleja. Además, el proceso de autoensamblaje, que progresa espontáneamente, está impulsado por
interacciones químicas o físicas, como las fuerzas de Coulomb, las fuerzas de Van der Waals y los enlaces de hidrógeno,
entre los átomos y las moléculas, y es sensible a la configuración molecular, química y física. ambientes [160]. El tamaño
del elemento fundamental podría variar de atómico a microescala según las aplicaciones.
Una de las principales aplicaciones del nanoensamblaje es la nanoelectrónica, donde el circuito comprende
nanodispositivos, nanocables o incluso moléculas grandes. La resolución limitada en el proceso de litografía se puede
superar fácilmente con este método. Como resultado, se pudo lograr computación de alto rendimiento,
almacenamiento masivo y miniaturización. El nanoensamblaje también se usa comúnmente para fabricar superficies
ópticas funcionales, como la dispersión Raman mejorada en la superficie (SERS).

3.7. Nanoreplicación
La fabricación de características a nanoescala por replicación es una forma eficiente de crear nanofeaturas en superficies
con propiedades funcionales, por ejemplo, hidrodinámicas, mecánicas, biológicas, químicas u ópticas. Aquí, la
replicación se define como la transferencia de una geometría maestra a un sustrato copiando la geometría maestra. La
replicación a nanoescala se originó en la década de 1980 por el llamado proceso LIGA que consiste en litografía de rayos
X, electroformación y moldeo [6,151]. La geometría maestra se crea en una resistencia y se replica en Ni mediante
galvanoplastia. Esta geometría se utiliza para la replicación posterior del polímero. La replicación se implementa
principalmente mediante litografía, como la fotolitografía de impresión de proyección [73], la litografía suave [36] y la
litografía por nanoimpresión (NIL) [33], logrando un tamaño de característica mínimo de varios o decenas de
nanómetros. Las tecnologías de replicación satisfacen tanto los requisitos académicos (investigación biológica y de
nuevos materiales) como los requisitos industriales (alto rendimiento).

Articulo Grafeno
2. Grafeno para aplicaciones fotónicas flexibles.
Debido a la excelente transparencia con una conductividad adecuada, el grafeno ha sido ampliamente investigado como una fuente
de transistores / diodos generadores de luz, dispositivos fotovoltaicos, sensores de luz y controladores de dispersión de fotones.

2.1. Producción de grafeno de alta calidad.

Durante una década, se han realizado muchos estudios sobre la producción de grafeno con rendimiento y productividad que
cumplen los requisitos para aplicaciones prácticas de dispositivos. Hasta ahora, los métodos de exfoliación química o mecánica y
deposición de vapores (CVD) se consideran efectivos para producir grafeno que se puede usar para aplicaciones a gran escala,
flexibles y portátiles [15,16]. El primer enfoque basado en la reacción de oxidación-reducción en soluciones químicas o un proceso
de molienda mecánica permite la producción de grandes volúmenes de escamas de grafeno a partir de grafito natural de una
manera simple y económica. Además de alta conductividad con propiedades eléctricas y ópticas adecuadas para su uso en
electrodos transparente.
2.2. Grafeno como “filamento” para la bombilla.
Al equipar la bombilla incandescente a base de grafito con gas nitrógeno inerte, su vida útil se extendió a ~ 2400 h. Recientemente,
se fabricó un filamento de grafeno suspendido para aumentar la emisión de luz en 1000 veces el nivel de radiación térmica esperado
a una temperatura de electrones excitados de ~ 2800 K.

2.3. Aplicaciones flexibles de LED

Tabla 1

2.4. Aplicaciones de células solares fotovoltaicas flexibles

CDV se

2.5. Aplicaciones flexibles de fotodetectores.

Entre los diversos protocolos de suministro de señales, como PV, y los efectos foto-termoeléctricos y bolométricos para
fotodetectores, los sistemas fotovoltaicos se han desarrollado principalmente para aplicaciones basadas en grafeno flexible hasta el
momento. La capacidad de absorción de longitud de onda teóricamente ilimitada debido a la falta de banda prohibida provocó una
rápida aplicación de grafeno como un receptor de luz. Sin embargo, ha habido un éxito limitado en la capacidad de respuesta (~ 6.1
mA / W a 1.55 mm) debido a la débil absorbancia (~ 2%) a pesar del aumento significativo en la velocidad de respuesta a 16 GHz.

2.6. Aplicaciones de mejora de dispersión Raman flexibles

La dispersión Raman es un proceso de cambio de color no lineal que se produce durante la interacción luz-materia tanto como la
extensión de la vibración molecular. Diapositiva mas info.

2.7. Hacia aplicaciones fotónicas portátiles de grafeno.

Hasta la fecha, las aplicaciones fotónicas portátiles más notables se demuestran en los OLED estirables, cuyos prototipos se han
realizado activamente en la industria textil.

3. Grafeno para aplicaciones de dispositivos electrónicos portátiles.

3.1. Aplicaciones de sensores físicos portátiles.
Los sensores físicos se utilizan para controlar el movimiento de partes del cuerpo humano o un estímulo externo a través de la
medición de datos físicos, incluida la presión, la torsión, el estiramiento y el tacto. El grafeno, con buena piezorresistencia y
propiedades mecánicas, se ha estudiado ampliamente para dos tipos de aplicaciones. Las películas de grafeno de una o varias capas
sintetizadas por CVD se han aplicado a aplicaciones como sensores táctiles y dispositivos interactivos para personas que requieren
una buena transmisión óptica y alta sensibilidad en un rango de tensión bajo de ~ 6% debido a su buena conductividad eléctrica y
transmisión óptica.
El sensor físico se puede montar perfectamente en la piel humana con arrugas ásperas, realizando nuevas aplicaciones portátiles con
funciones adicionales mejoradas. Estos materiales logran una excelente capacidad de estiramiento de más del 50% para una
detección eficiente del movimiento humano.

3.2. Usos sanitarios y aplicaciones bio-electrónicas.

Los sensores realizan funciones específicas, como la monitorización de la temperatura corporal; bio-señales tales como latido del
corazón, ECG y EMG; y la cantidad de glucosa o bacterias presentes en el cuerpo. Estos dispositivos pueden combinar las funciones
de los dispositivos médicos convencionales, incluidos podómetros, monitores de ritmo cardíaco, seguimiento de actividad, medición
de biopotenciales, medición de bio-impedancia y medición de oxígeno en la sangre.

3.3. Dispositivos portátiles de almacenamiento y recolección de energía.