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PG Ingenieros Asociados (Grupo 25)

Consultores: Jaime Enrique Tenorio Quiñones Código 1611981748


Jaime Enrique Jiménez Ortega Código 1621980977
Yimmi Esneider Martínez Reina Código 1421020484
Didier Esneider Castillo Perilla Código 1421024341
Daniel Esteban Matiz López Código 1411026242

Modelo Conceptual de la Situación Planteada

Advanced Micro Devices, Inc. conocida mundialmente como “AMD” es una compañía
estadounidense con sede principal en Sunnyvale, California, que desde 1969 y hasta la fecha se
mantiene en el mercado de productos tecnológicos como pionera y líder de la industria,
desarrollando circuitos integrados, microprocesadores, procesadores, computadores y aplicaciones
entre otros.
Se ha identificado que la compañía AMD posee un modelo de producción con los siguientes
parámetros:
 Sistema: Línea de producción de CI, compuesta por 6 estaciones, 12 soportes AK y waffers
 Entidad: Circuitos Integrados (CI)
 Atributos: Microchips de materiales semiconductores
 Eventos: Fallas de producción en cada una de las estaciones
 Recursos: Integrar o interconectar sus componentes
En este sentido la compañía probará una nueva tecnología para la elaboración de Circuitos
Integrados (CI) que realizará el proceso automáticamente. Es un sistema compuesto por 6 estaciones
de trabajo: Cleaning, Oxidation, Lithography, Etching, Ion Implantation y Photoresist Strip.

Representación Gráfica

Gráfico 1. Representación gráfica del proceso productivo de la compañía de AMD

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Análisis de datos de entrada

Para el análisis de datos se usarán las siguientes herramientas en cada una de las estaciones:

 Histograma
 Estadística descriptiva
 Prueba de bondad de ajuste

Tiempo Estación 1 (Cleaning)

Histograma:

Gráfico 2. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Cleaning

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Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 10.00610356
Error típico 0.014881052
Mediana 10.00164723
Moda #N/A
Desviación estándar 1.488105205
Varianza de la muestra 2.214457101
Curtosis 0.078737757
Coeficiente de asimetría 0.039681123
Rango 12.31549842
Mínimo 4.293338356
Máximo 16.60883677
Suma 100061.0356
Cuenta 10000
Tabla 1. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Cleaning

Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 4.293338356
Máximo 16.6088367719203
Promedio 10.0061035555605
Desviación Estándar 1.48810520509438
Hipótesis Nula Normal
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 26
P-value 0.394
Parámetros de la distribución (10, 1.49)
Conclusión Pudimos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos una media de 10.0061035555605 minutos por pieza para
la estación Cleaning.

Tabla 2. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Cleaning

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Tiempo Estación 2 (Oxidation)

Histograma:

Gráfico 3. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Oxidation

Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 8.494043035
Error típico 0.01998633
Mediana 8.513249737
Moda #N/A
Desviación estándar 1.998633045
Varianza de la muestra 3.99453405
Curtosis -1.184153673
Coeficiente de asimetría -0.008502322
Rango 6.999735794
Mínimo 5.000137144
Máximo 11.99987294
Suma 84940.43035
Cuenta 10000
Tabla 3. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Oxidation

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Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 5.00013714423403
Máximo 11.9998729380313
Promedio 8.49404303474317
Desviación Estándar 1.99863304541794
Hipótesis Nula Uniform
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 39
P-value 0.413
Parámetros de la distribución (5, 12)
Conclusión Podemos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos un mínimo de 5.00013714423403 minutos y un máximo
de 11.9998729380313 minutos para la estación Oxidation.

Tabla 4. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Oxidation

Tiempo Estación 3 (Lithography)

Histograma:

Gráfico 4. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Lithography

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Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 12.005277
Error típico 0.084736522
Mediana 10.05885682
Moda #N/A
Desviación estándar 8.473652152
Varianza de la muestra 71.80278079
Curtosis 3.248834986
Coeficiente de asimetría 1.439210455
Rango 78.67820483
Mínimo 0.098436652
Máximo 78.77664148
Suma 120052.77
Cuenta 10000
Tabla 5. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Lithography

Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 0.098436651751399
Máximo 78.7766414810903
Promedio 12.0052770022955
Desviación Estándar 8.47365215178352
Hipótesis Nula Erlang
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 23
P-value 0.307
Parámetros de la distribución (6, 2)
Conclusión Podemos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos una hipótesis nula Erlang con parámetros de (6,2) para
la estación Lithography.

Tabla 6. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Lithography

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Tiempo Estación 4 (Etching)

Histograma:

Gráfico 5. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Etching

Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 13.83366017
Error típico 0.031429233
Mediana 14.03808099
Moda #N/A
Desviación estándar 3.142923291
Varianza de la muestra 9.877966813
Curtosis -0.123283996
Coeficiente de asimetría -0.305308886
Rango 21.94275147
Mínimo 2.2739976
Máximo 24.21674907
Suma 138336.6017
Cuenta 10000
Tabla 7. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Etching

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Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 2.27399760042317
Máximo 24.2167490744031
Promedio 13.8336601742443
Desviación Estándar 3.14292329103082
Hipótesis Nula Weibull
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 29
P-value 0.005
Parámetros de la distribución (13.2, 4.48)
Conclusión Podemos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos una media de 13.8336601742443 minutos por pieza para
la estación Etching.

Tabla 8. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Etching

Tiempo Estación 5 (Ion Implantation)

Histograma:

Gráfico 6. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Ion Implantation

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Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 5.00390697
Error típico 0.010046087
Mediana 5.005836886
Moda 4.42678122
Desviación estándar 1.00460867
Varianza de la muestra 1.009238579
Curtosis -0.035709842
Coeficiente de asimetría 0.007780649
Rango 7.242150754
Mínimo 1.618737029
Máximo 8.860887783
Suma 50039.0697
Cuenta 10000
Tabla 9. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Ion Implantation

Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 1.6187370289117
Máximo 8.8608877826482
Promedio 5.00390697033482
Desviación Estándar 1.00460866971046
Hipótesis Nula Normal
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 29
P-value 0.533
Parámetros de la distribución (5, 1)
Conclusión Podemos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos un mínimo de 1.6187370289117 minutos y un máximo de
8.8608877826482 minutos para la estación Ion Implantation.

Tabla 10. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Ion Implantation

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Tiempo Estación 6 (Photoresist Strip)

Histograma:

Gráfico 7. Histograma del tiempo de servicio en la estación de Photoresist Strip

Estadística descriptiva:

Tiempo
Media 4.512997154
Error típico 0.014436323
Mediana 4.491255379
Moda #N/A
Desviación estándar 1.443632261
Varianza de la muestra 2.084074106
Curtosis -1.201473532
Coeficiente de asimetría -0.008660009
Rango 4.999714445
Mínimo 2.000275834
Máximo 6.999990279
Suma 45129.97154
Cuenta 10000
Tabla 11. Sinopsis de estadística descriptiva para tiempo de servicio en la estación de Ion Photoresist Strip

Página 10
PG Ingenieros Asociados (Grupo 25)

Pruebas de Bondad de Ajuste

Tiempo entre Llegadas


Número de datos analizados 10000
Mínimo 2.00027583399787
Máximo 6.99999027885496
Promedio 4.51299715374503
Desviación Estándar 1.44363226147946
Hipótesis Nula Uniform
Nivel de significancia (a) 5%
Grados de libertad (g.l) 39
P-value 0.75
Parámetros de la distribución (2, 7)
Conclusión Pudimos concluir que con un nivel de significancia del 5%
obtenemos una hipótesis nula Uniform con parámetros de (2,7) para
la estación Photoresist Strip.

Tabla 12. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en la estación de Photoresist Strip

Referencias

Politécnico Grancolombiano. (2017). Introducción a la simulación, lectura de apoyo semana 1. [en


línea] https://poli.instructure.com/courses/6502/files/1099996?module_item_id=394921

Politécnico Grancolombiano. (2017). Modelos estadísticos, lectura de apoyo semana 2. [en línea]
https://poli.instructure.com/courses/6502/files/1100007?module_item_id=394929

Politécnico Grancolombiano. (2017). Modelos de líneas de espera, lectura de apoyo semana 3. [en
línea] https://poli.instructure.com/courses/6502/files/1100009?module_item_id=394936

Politécnico Grancolombiano. (2018). Aula virtual Elluminate, sesiones 195 y 198. [en línea]
https://casas.bbcollab.com/site/external/recording/playback/link/table/meeting?suid=M.4A1390D1
9E0473ED24A521E8DDFAEF&sid=2010324

Colaboradores Wikipedia. (2018, agosto). Advanced Micro Devices. [en línea]


https://es.wikipedia.org/wiki/Advanced_Micro_Devices

Collaborators AMD Inc. (2018, mayo). Nuestra historia. [en línea] https://www.amd.com/es-xl/who-
we-are/corporate-information/history

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