U NIVERSIDADE E STADUAL DE C AMPINAS

I NSTITUTO DE F ÍSICA Gleb Wataghin

R ELATÓRIO PIBIC

Estudo de espelhos de Bragg baseados em

filmes intercalados de ZnO/SiO2

Leonardo Rodrigues da Costa*

Orientador: Prof. Fernado Iikawa
*E-mail: l146895@unicamp.br

Grupo de Propriedades Ópticas da Matéria (GPO)

Departamento de Fisica da Matéria Condensada (DFMC)
Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW)
Universidade Estadual de Campinas (Unicamp)

Campinas-SP
2018

1
Resumo
Este projeto teve como objetivo a simulação computacional, confecção e caracterização de um
conjunto de espelhos de Bragg distribuídos (ou Distributed Bragg Reflector, DBR) composto por
ZnO/SiO2 , sobre um substrato de silício. Por problemas tecnicos não foi possivel depositar filmes
de ZnO e SiO2 e, investigamos um DBR de Al2 O3 /TiO2 . Outro assunto investigado teoricamente é
a cavidade fotônica planar do tipo Fabry-Perot inserida entre DBRs, que aprisiona fótons e pode ser
usada para amplificação de emissões luminosas de fóton único.
Um DBR é formado por camadas alternadas de dois materiais dielétricos transparentes que for-
mam um espelho de refletividade alta, porém, seletiva (apenas para determinadas faixas de frequên-
cias), pelo contraste entre seus índices de refração. Nos anos recentes, os DBR vem sendo usados
como cavidades acústicas, ressonadores de ondas guiadas, na fabricação de pontos quânticos e até
mesmo em mini-aceleradores de partículas a laser.
Nosso DBR foi confeccionado pelo sistema ALD (atomic layer deposition).Depositamos o pri-
meiro DBR contendo 5 bicamadas de Al2 O3 /TiO2 , utilizamos a espessura nominal da camada de
Al2 O3 50mm e do TiO2 92.3mm . Essa configuração deveria produzir uma refletividade de até 80%
da luz incidente, centrada em λ = 600nm. As medições de refletividade desse dispositivo indica-
ram que a curva do DBR fabricado se encaixava melhor com a simulação da refletividade centrada
em λ = 530nm. Isso pode ter acontecido por uma estimativa errada da espessura das camadas, que
seriam mais finas que o esperado. Apresentamos também as simulações de cavidade óptica planar
formada por dois DBR do mesmo material em função do tipo de substrato utilizado e também do
número de pares desses materiais e, além disso, estudamos teoricamente as cavidades ópticas.

1 Teoria
1.1 Introdução
Espelhos de Bragg são superfícies planares formadas por camadas intercaladas de materiais trans-
parentes com diferentes índices de refração. Tal estrutura permite a reflexão de quase toda energia
luminosa incidente, pelo fenômeno da interferência construtiva. Essa altíssima reflexão varia com
o comprimento de onda e o ângulo de incidência da energia refletida, sendo este preferencialmente
normal à superfície.
Um típico DBR consiste de finas camadas alternadas de dois materiais. A refletividade máxima
de um dado DBR ocorre no chamado comprimento de onda de Bragg (Bragg Wavelengh, ou λ0 ). O
λ0 depende estritamente da espessura das camadas do DBR: tipicamente, λ0 /4ni , onde ni é o índice
de refração de cada material. Um alto contraste dos ni pode produzir um espelho capaz de refletir
99.9% ou mais da energia luminosa com poucos pares de camadas. Nenhum outro tipo de espelho
conhecido se compara em termos de refletividade, já que as perdas energéticas em espelhos dielétricos
são menores que em espelhos metálicos - o detalhe importante é que esta alta refletividade é seletiva,
ou seja, apenas para λ0 e sua vizinhança. Deste modo cada DBR é desenhado para um λ0 específico.
Uma cavidade fotônica é por composta por dois DBR conjugados, com uma camada de espessura
λ0 /2ni entre eles. Esse arranjo faz a refletividade de λ0 ser nula. O comportamento dos fótons em
uma cavidade fotônica se assemelha àquele num cristal fotônico ou ao comportamento dos elétrons
nos semicondutores, com energias de propagação permitida e proibida.
A heteroestrutura do DBR ganhou várias aplicações recentes como cavidades acústicas [4], resso-
nadores de ondas guiadas [3][5], na fabricação de pontos quânticos e até mesmo em mini-aceleradores
de partículas a laser[6].
1
 Munidos desta breve descrição, podemos detalhar exatamente os processos físicos que regem
nossos objetos de estudo. O desenvolvimento desta seção acompanha principalmente os capítulos 4 e
6 do livro "Introduction to Modern Optics"[1]. Na sequência, apresentamos simulações para o DBR
e cavidade de Al2 O3 /TiO2 . Depois descrevemos processo de confecção (pelo método de deposição
atômica) do nosso DBR de Al2O3/TiO2, de cinco bicamadas (a espessura prevista da camada de
Al2 O3 era 50mm e a do TiO2 92.3mm). Por fim, a caracterização deste DBR com a medida de
refletividade.

1.2 Modelo clássico do oscilador hârmonico para a polarização

Quando um campo elétrico atua sobre um átomo ou molécula, ele promove um deslocamento dos
elétrons com relação a suas posições de equilíbrio assim configurando dipolos elétricos (figura 1).
Para um único elétron o momento de dipolo p é:

p = qd = −err (1)

Sendo assim, a propriedade macroscópica P em um dado volume é dada por:

Ne2
P = −Nerr = E (2)
K
Onde N é o número de elétrons por unidade de volume.

Figura 1: Um dipolo atômico/molecular como um oscilador harmônico clássico. O círculo escuro representa
o núcleo atómico (ou o centro da mólecula) com carga resultante positiva, que forma um dipolo elétrico com o
elétron

Sendo o deslocamento r um resultado da aplicação de um campo elétrico estático E , tal que o

elétron continue ligado a sua posição de equilíbrio por uma força restauradora. Podemos dizer que
esta força restauradora tem o caráter de uma força elástica. Aproximando esta interação àquela de um
oscilador harmônico amortecido temos:

∂2 r ∂rr
m 2
+ mγ + Krr = −eE
E (3)
∂t ∂t
E assim:

Ne2
P (rr ,t) = E (rr ,t) (4)
−mω2 − iωmγ + K
Ne2 /m
= 2 E (rr ,t)
ω0 − ω2 − iωγ
2
 Ao aplicarmos isto às equações de Maxwell no meio material:

∂H H
∇ × E = −µ0 (5)
∂t
∂EE ∂P P
∇ × H = ε0 + +J
∂t ∂t
1
∇ ·E = − ∇ ·P
ε0
∇·H = 0

Obtemos uma solução para o campo elétrico do tipo (consideramos H = 0 e J = 0):

E(z,t) = E0 ei(K z−ωt) (6)

Onde:
ω2  Ne2 1 
K2= 1 + (7)
c2 mε0 ω20 − ω2 − iωγ
Desta forma K tem parte real e imaginária

K = k + iα (8)

Portanto a solução (6) é escrita como:

E(z,t) = E0 e−αz ei(kz−ωt) (9)

Aqui vemos que α causa um decaimento exponencial sobre o módulo da onda eletromagnética à
medida que esta percorre o meio. Ou seja, a energia da onda é absorvida durante a propagação. Como
a energia de uma onda eletromagnética é proporcional a |EE |2 , a variação de energia ocorre com e−2αz .
Logo, 2α é o coeficiente de absorção do meio.
K se relaciona com o chamado indíce de refração complexo N , que definimos como:
ω
K= N (10)
c
Separando as parte parte real e imaginaria de N temos duas grandezas de interesse:

N = n + iκ (11)
A parte real n é o índice de refração como o conhecemos e determina a velocidade de propagração
da luz no meio. A parte imaginaria κ é o coeficiente de extinção.
Portanto:

Ne2  1 
N 2 = (n + iκ)2 = 1 + (12)
mε0 ω20 − ω2 − iωγ
Agora trazemos de volta do eletromagnetismo as permissividades elétricas, tais que:

ε = N 2 = ε1 + iε2 (13)

√ a aproximação quando ε1 >> ε2 cai na relação da optica clássica com o

E podemos notar que
eletromagnetismo n = ε. Abrindo N 2 , ganhamos:
3
 Ne2  ω20 − ω2 
ε1 = Re(N 2 ) = n2 − κ2 = 1 + (14)
mε0 (ω20 − ω2 )2 + ω2 γ2
Ne2  γω 
ε2 = Im(N 2 ) = 2nκ =
mε0 (ω20 − ω2 )2 + ω2 γ2

Isolando n e κ, temos que:

1
q
n = √ (ε1 + ε21 + ε22 )1/2 (15)
2
1
q
κ = √ ( ε21 + ε22 − ε1 )1/2
2

Podemos usar as equações em (15) para montar o gráfico n e κ em função de ω.

Figura 2: Graficos do índice de refração n e do coeficiente de extição κ versus frequência ω. Simulação feita
2
no MathematicaTM com o parâmetro γ = 0.3, o fator Ne mε0 = 1 e ω0 = 5 numa unidade arbitrária de frequência
angular.
4
1.3 Amplitude das ondas transmitidas e refletidas por duas interfaces

Figura 3: Propagração de uma onda elétromagnetica através de um meio com duas interfaces. A inversão do
H para H 0 ) é uma condição para a invervsão do sentido de propagação da onda (kk para k 0 ).
campo magnético (H

A figura 3 mostra as interações da luz com duas interfarces. Devemos impor condições de conti-
nuidade sobre esta propagação. Como Hi é proporcional a ki × Ei e k = 2πni /λ0 , a continuidade do
campo magnético depende do produto ni Ei . Assim montamos a tabela:

Primeira Interface segunda interface

Campo elétrico: E0 + E00 = E1 + E10 E1 eikl + E10 e−ikl = ET

Campo magnético: H0 − H00 = H1 − H10 H1 eikl − H10 e−ikl = HT

ou n0 E0 − n0 E00 = n1 E1 − n1 E10 n1 E1 eikl − n1 E10 e−ikl = nT ET

Os fatores de fase eikl e e−ikl surgem porque as ondas percorrem uma distancia l no meio 1 de
uma entre as interfaces. Se eliminamos E1 e E10 do sistema de equações, temos:

E00 nT ET
1+ =(cos kl − i sin kl) (16)
E0 n1 E0
E 0
ET
n0 − n0 0 =(−in1 sin kl + nT cos kl)
E0 E0
Ou na forma matricial:

1 E00 − ni1 sin kl 1 ET

      
1 cos kl
+ = (17)
n0 −n0 E0 − in1 sin kl cos kl nT E0

Que se abreviarmos se transforma em:

     
1 1 1
+ r=M t (18)
n0 −n0 nT
5
 Onde:

E00
r= (19)
E0
ET
t=
E0
Aqui r é definido como o coeficiente de refletividade e t o coeficiente de transmissividade.
Por fim a matriz que representa as interfaces é:

− ni1 sin kl
 
cos kl
M= (20)
−in1 sin kl cos kl

1.4 Teoria de filmes multicamada

Se tivermos multiplas camadas consecutivas M1 , M2 , M3 . . . MN , cada uma com seu respectivo
índice de refração ni , a equação resultante é equivalente a (18):

Figura 4: Um DBR. O comprimento de cada camada é λ0 /4ni , onde λ0 é o comprimento de onda com maior
refletividade e ni o índice de refração da camada.

       
1 1 1 1
+ r = M1 M2 M3 . . . MN t =M t (21)
n0 −n0 nT nT

Podemos compactá-las em uma única matriz M que representa todas interfaces. Essa matriz tem
elementos genéricos A, B,C e D.

 
A B
M1 M2 M3 . . . MN = M = (22)
C D

O cálculo do coeficiente de refletividade é facilitado ao usarmos esses elementos genéricos de

matriz para resolver o sistema (18):
An0 + BnT n0 −C − DnT
r= (23)
An0 + BnT n0 +C + DnT
6
 E o coeficiente de transmissividade:

2n0
t= (24)
An0 + BnT n0 +C + DnT
Lembrando que n0 e nT são os índices de refração do meio da luz incidente e do meio da luz
transmitida, respectivamente.
Finalmente, podemos falar dos DBR e da cavidade óptica formada por dois deles. Para espessu-
ras l apropriadas para cada camada do dielétrico, tal que para determinado comprimento de onda o
produto kl sempre seja π/2 a matriz Mi de uma camada assume os valores:

−i 
− nii sin kl − nii sin π/2
    
cos kl cos π/2 0 ni
Mi = = = (25)
−ini sin kl cos kl −ini sin π/2 cos π/2 −ini 0

Se emparelharmos uma camada de índice de refração baixo nL (L do inglês "low") com uma de
índice de refração alto nH ("high"), temos que a matriz MB da bicamada, é:

 −i   −i   −nH 
0 nL 0 nH = nL 0
ML · MH = −nL = MB (26)
−inL 0 −inH 0 0 nH

Assim, para um filme formado por N bicamadas a matriz M é expressa como

 −nH N  −nH N 
N nL 0 ( nL ) 0
M = (ML · MH ) = −nL = (27)
0 nH 0 ( −nL N
nH )

Isso permite o cálculo da refletividade usando r obtido através da equação ( 23). No caso em que,
n0 = nT = 1:
" #2 " #2
(−nH /nL )N − (−nL /nH )N (nL /nH )2N − 1
R = |r|2 = = (28)
(−nH /nL )N + (−nL /nH )N (nL /nH )2N + 1
Isso é a chave para a altíssima refletividade dos espelhos de Bragg. Pois, como podemos constatar
se a razão nL /nH << 1, R se aproxima rapidamente de 1 ao aumentarmos o número de bicamadas N.
Portanto dois fatores definem a qualidade de um DBR: os contrastes dos índices de refração dos
dois materiais e o número de camadas. Esses fatores são otimizados de acordo com a disponibilidade
dos materiais e do tempo de deposição.
Outro objeto de interesse é a cavidade fotônica feita com a combinação de dois DBR (figura 5).
Se colocamos uma camada do material de nH com com comprimento λ0 /2nh (ou outro que gere uma
quebra de fases de π no DBR). Essa quebra de fase introduz um fator −1 entre os dois DBR na
equação 1.34. Com isso, a refletividade de λ0 especificamente vai a 0 (transmitância 6= 0). Podemos
tratar este fenômeno como um confinamento da luz, que sofre múltiplas reflexões na cavidade gerando
um atraso no seu tempo de transmissão.
Aqui encerramos a teoria sobre espelhos de Bragg e cavidades ópticas. Análises destes objetos
são feitas na seção seguinte usando simulações computacionais.
7
Figura 5: Uma cavidade óptica.

8
1.5 Simulações computacionais

As simulações apresentadas a seguir foram feitas no software Mathematicatm . As simulações

se baseiam na teoria de multicamadas desenvolvida acima com incidência normal sobre o DBR e
cavidade fotônica. Para os cálculos, foram usadas fórmulas da dispersão do índice de refração do
TiO2 , do Al2 O3 e do silício (Si) [7] utilizado como substrato. Os coeficientes de extinção κ foram
desprezados para o TiO2 e Al2 O3, uma vez que estes materiais são transparentes para os λ do visível.
Abaixo temos as dispersões dos diversos n e do κ dos três materiais.

n
6.0

κ
5.5

5.0

3
4.5

2
4.0

3.5 1

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 0 λ µm
0 ,3 0 ,4 0 ,5 0 ,6 0 ,7 0 ,8

Figura 6: Dispersão do índice de refração do Si-

licio (Si) em função do comprimento de onda. O
Figura 7: Dispersão do coeficiente de extinção
Si foi utiltizado como substrato dos DBR nas si-
(κ) do Si em função do comprimento de onda.
mulções e na confecção.
n n
3.0 1.79

2.9 1.78

2.8 1.77

2.7 1.76

2.6 1.75

2.5 1.74

λ μm λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 8: Dispersão do índice de refração do Figura 9: Dispersão do índice de refração do

TiO2 em função do comprimento de onda. Al2 O3 em função do comprimento de onda.

As simulações dos DBR e das cavidades fotônicas, serão apresentadas em ordem crescente de
sofisticação, afim de analisarmos as contribuições de cada componente do DBR. A primeira simulação
(Figura 10), descreve um DBR sem a dispersão dos índices de refração, onde nTiO2 = 2.6 e nAlO3 =
1.77 considerando, também, que o índice de refração do substrato é nT = 1. Essa simulação é uma
aproximação da refletividade como na visto equação (25).
9
 R
1.0

N = 10

N=5
0.8

N=4

N=3
0.6
N=2

N=1

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 10: Simulações de múltiplos DBR com nTiO2 = 2.6 , nAlO3 = 1.7 e nT = 1. As cores da legenda
"N"indicam o número de pares de camadas Al2 O3 /TiO2 de cada simulação.

Podemos ver como cada incremento no número de pares de camadas N aumenta a refletividade (e
ao mesmo tempo diminui o comprimento do pico de refletividade máxima). Na curva roxa temos a
saturação da refletividade, ou seja R = 1 para uma banda de comprimentos de onda entre 518-720nm,
aproximadamente. Para N = 1 e 2, temos a contribuição do efeito de interferência destrutiva em torno
do λ0 . Para N maiores o que domina é a interferência construtiva.
Na Figura 11 introduzimos a dispersão dos índices de refração nTiO2 (ω) e nAl2 O3 (ω), mantendo
nT = 1.

R
1.0

N = 10

0.8 N=5

N=4

N=3

0.6
N=2

N=1

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 11: Simulações de múltiplos DBR com as dispersões nTiO2 (ω) , nAl2 O3 (ω) e nT = 1. As cores da legenda
"N"indicam o número de pares de camadas Al2 O3 /TiO2 de cada simulação.

Comparando estes dois gráficos, podemos observar uma pequena assimetria no segundo caso
quando comparamos a altura dos picos (os picos verde e amarelo, por exemplo). Por fim, na figura 12
introduzimos a dispersão do índice de refração do substrato nT = nSi (ω)
10
 R
1.0

N = 10

0.8 N=5

N=4

N=3

0.6
N=2

N=1

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 12: Simulações de múltiplos DBR com as dispersões nTiO2 (ω) , nAl2 O3 (ω) e nT (ω) = nSi (ω). As cores
da legenda "N"indicam o número de pares de camadas Al2 O3 /TiO2 de cada simulação.

Comparando as figuras 10, 11 e 12 notamos que a figura 12 é claramente diferenciada, já que tem
vales de refletividade bastante acentuados(curvas amarela e laranja, por exemplo). Assim, concluímos
que esta é a contribuição do índice de refração do subtrato (Si), isto é, a refletividade depende muito
do substrato quando N é pequeno. Uma análise similar pode ser feita para as cavidades fotônicas.
Quando consideramos nT = 1 (figura 13), obtemos cavidades cuja refletividade cai para 0 ao se apro-
ximar de λ0 , diferentemente do que acontece quando a colocamos a dispersão do substrato (silício)
(figura 14). Nas figuras 13 e 14, N corresponde ao número de pares de camadas de Al2 O3 /TiO2 com
uma camada ativa de TiO2 inserida exatamente no meio (o "+1"se refere a esta camada ativa). No
caso N = 1 + 1 temos duas camadas de Al2 O3 com a camada ativa de TiO2 entre elas.

R
1.0

N = 10+1

0.8 N = 8+1

N = 6+1

N = 4+1

0.6
N = 2+1

N = 1+1

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 13: Simulações de múltiplas cavidades com as dispersões nTiO2 (ω) , nAl2 O3 (ω) e nT = 1. As cores da
legenda "N"indicam o número de pares de camadas Al2 O3 /TiO2 de cada simulação. O "+1"se refere a camada
ativa de TiO2 .
11
 Como no caso dos DBR, o incremento no número de camadas causa a saturação e o estreita-
mento da curva de refletividade. No caso das cavidades, temos também o estreitamento da região de
refletividade 0.
R
1.0

N = 10+1

0.8 N = 8+1

N = 6+1

N = 4+1

0.6
N = 2+1

N = 1+1

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 14: Simulações de múltiplas cavidades com as dispersões nTiO2 (ω) , nAl2 O3 (ω) e nT (ω) = nSi (ω). As
cores da legenda "N"indicam o número de pares de camadas Al2 O3 /TiO2 de cada simulação. O "+1"se refere
a camada ativa de TiO2 .

Na figura 14 observamos que a dispersão do índice de refração do substrato causa uma limitação
na transmitância da cavidade (refletividade em λ0 é diferente de zero). Lembrando que estamos
desconsiderando os efeitos de absorção do Al2 O3 e o TiO2 , já que estes materiais são transparentes
na região do espectro analisada (0.4 - 1 µm). A absorção do silício (κ, figura 7) será incluída em
simulações futuras.

2 Experimental
2.1 Método ALD (Atomic Layer Deposition)
O método de deposição por camada atômica utiliza vapores moleculares para o crescimento de fil-
mes finos. Para fazer a deposição de um filme fino sobre um substrato, devemos primeiro estabelecer
um vácuo na câmara do ALD a uma devida temperatura (entre 100 e 300 o C). Na sequência o vapor
de um precursor A é injetado na câmara ao longo de um determinado período, o tempo de pulso.
Durante o tempo de pulso o vapor do precusor A adere uniformemente sobre substrato. Depois, uma
rajada de N2 gasoso é aplicada, eliminando o excesso do precursor A. O tempo de aplicação do N2 é o
chamado tempo de purga. Em seguida outro precursor, B, é injetado na câmara, durante outro tempo
de pulso, de modo que o precursores A e B reagem. O produto mais pesado desta reação se adere ao
subtrato, formando uma fina monocamada. A sobra indesejada da reação é eliminada durante outra
purga do N2 .
N destas monocamadas são sobrepostas até que se atinja a espessura desejada.
2.2 Preparo do substrato para deposição
Para a deposição, primeiro clivamos um substrato de silício de duas polegadas de diametro. Dois
pequenos pedaços de aproximadamente 2cm2 foram pegos para a deposição, limpados em um banho
12
de água fervente com detergente; em seguida na acetona, no álcool e num tanque de água com ul-
trassom. A secagem foi feita com um jato de nitrogênio gasoso. Após a limpeza as amostras foram
colocadas por 30 minutos numa camara de raios UV para o tratamento com ozônio, que aumenta a
aderência dos precurssores ao substrato.

2.3 A deposição do TiO2 /Al2 O3

Para uma monocamada de dióxido de titânio (TiO2 ) utilizamos o tetracloreto de titânio (TCl4 ) e
o vapor d’água (H2 O) como precursores a reação deles é dada por:

TiCl4 + 2H2 O → TiO2 + 4HCl (29)

Já para a safira (Al2 O3 ) os precursores utilizados foram o trimetilalumínio (TMA, ou Al2 (CH3 )6 )
e o vapor d’água, cuja reação é:

Al2 (CH3 )6 + 3H2 O → Al2 O3 + 6CH4 (30)

A amostra possui 5 pares de camadas de TiO2 /Al2 O3 crescidas a 200 o C . Cada camada de TiO2
foi crescida por 769 ciclos com espessura esperada de 50 nm; cada camada de Al2 O3 foi crescida
por 710 ciclos com espessura esperada de 92.3 nm. Essas espessuras correspondem à λ0 /4ni para
λ0 = 600nm e ni o índice de refração para 600nm de cada material. Para a deposição do Al2 O3 e do
TiO2 utilizamos os seguintes valores de pulso e de purga dos precursores:

Tabela 1: Tempos de pulso e purga dos precursores.

TiO2 Pulso Purga Al2 O3 Pulso Purga

TiCl4 150 ms 1,5 s TMA 150 ms 500 ms
H2 O 150 ms 3s H2 O 150 ms 700 ms

O tempo total de crescimento foi 6 horas e 40 minutos. A deposição foi feita, como mencionado,
no sistema ALD pertence ao labóratório do professor Francisco Chagas Marques. O crescimento
do DBR foi feito pelo aluno de doutorado Rafael Merlo; assistido pelo aluno de doutorado Diego
Scolfaro da Silva, do GPO, e acompanhado pelo autor.
13
2.4 Montagem experimental da refletividade

Figura 15: Diagrama da montagem experimental da refletividade.

A luz branca é emitida por uma lâmpada halôgena, percorre a fibra óptica e sai pelo acopladores
de fibra; daí incide sobre uma lente convergente (distância focal > 40cm) aumentando o paralelismo
dos feixes. Esses feixes são refletidos por um espelho ajustável de precisão e passam pela íris, que
bloqueia uma fração deles. Em seguida a luz passa por um beam splitter que divide os feixes em dois:
metade vai para a amostra(DBR). A luz que sai da lente objetiva é focalizada no DBR, que faz uma
reflexão seletiva do seu espectro. Essa luz (em verde na figura) faz o caminho inverso até o beam
splitter, onde segue sem ser defletida. Após um espelho, a luz incide sobre uma fibra óptica que a
leva para o espetrômetro iHR550 da HORIBATM . Finalmente, o sinal do espectrômetro é processado
por um computador.
14
3 Resultados Preliminares

1 2 0 0 0
2 0 0 0 0
1 0 0 0 0

1 5 0 0 0 8 0 0 0
C o n ta g e n s

C o n ta g e n s
6 0 0 0
1 0 0 0 0
4 0 0 0

5 0 0 0
2 0 0 0

0
0 3 0 0 4 0 0 5 0 0 6 0 0 7 0 0 8 0 0 9 0 0 1 0 0 0
3 0 0 4 0 0 5 0 0 6 0 0 7 0 0 8 0 0 9 0 0 1 0 0 0 λ (n m )
λ (n m )

Figura 17: Contagens pelo comprimento de onda

Figura 16: Contagens pelo comprimento de onda
da luz refletida pelo DBR, Ramostra (λ).
da luz refletida pelo espelho de prata, Respelho (λ).

2 0 0 0

1 9 8 0

1 9 6 0
C o n ta g e n s

1 9 4 0

1 9 2 0

1 9 0 0

1 8 8 0

1 8 6 0

3 0 0 4 0 0 5 0 0 6 0 0 7 0 0 8 0 0 9 0 0 1 0 0 0
λ (n m )

Figura 18: Contagens pelo comprimento de onda

da luz background, B(λ).

As figuras 16-18 são as medidas do espectrômetro. O pontos à esquerda dos 400 nm podem ser
descartados, já que a luz da lâmpada é fraca e nossos componentes ópticos não refletem abaixo disso.
A refletividade pelo comprimento de onda é dada pela equação:

Ramostra (λ) − B(λ)

RDBR (λ) = (31)
Respelho (λ) − B(λ)

Onde Ramostra (λ) é o sinal da luz refletida pelo DBR, Respelho (λ) é o sinal da referência (a luz
refletida com espelho convencional no lugar do DBR) e B(λ) é o sinal do background, referente a luz
da sala. Para determinar a refletividade do DBR temos que corrigir a resposta da lâmpada, que não é
constante, em todo o comprimento de onda estudado e temos de descontar o sinal de fundo do detetor
CCD.
15
 R
1.0

0.8

0.6

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 19: Medição da refletividade versus comprimento de onda para o DBR de Tio2 /Al2 O3 .

É importante resssaltar que esta medida da curva de refletividade é um dado preliminar, já que a
amostra é o primeiro DBR que confecionamos pelo sistema ALD e o primeiro de Al2 O3 /TiO2 . Além
disso nossa medida não fez uma análise "topológica"do perfil de refletividade, afim de averiguar
gradientes de variação da espessura dos filmes.

Na figura 19, apresentamos o espectro de refletividade do DBR de 5 períodos.

Comparando esta medida com o as simulações temos a seguinte figura:

16
 R
1.0

0.8

Refletividade medida

Simulação com λ0 = 0.53 μm

Simulação com λ0 = 0.6 μm

0.6

0.4

0.2

λ μm
0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0

Figura 20: Sobreposição dos espectros da refletividade medida (cinza), com a simulação de um DBR cujo λ0
está em 600nm (vermelho) e com λ0 no 530nm (verde).

Na figura 20, vemos que os picos da refletividade tem a mesma altura aproximada (0.8) para as
duas simulações e para o DBR de TiO2 /Al2 O3 confeccionado com 5 pares de camada. Na curva cinza
podemos notar um "vale", mais acentuado do que esperado, entre os máximos de refletividade.

O DBR de TiO2 /Al2 o3 que confeccionamos foi desenhado para um pico de refletividade em torno
dos 600nm, ou seja, próximo ao vermelho-alaranjado do visível. Entretanto, como podemos notar
pela figura 20, nosso DBR real não tem uma curva de refletividade análoga a da simulação para λ0 em
600 nm, se assemelhando mais a um DBR para 530 nm. A forma da linha também não é reprodutivel
na simulação, mas a refletividade máxima mantém em torno de 80% esperado teoricamente, que é um
resultado bastante animador. Uma hipótese para justificar esse comportamento é que superestimamos
a taxa de crescimento do TiO2 /Al2 O3 , obtendo camadas mais finas do que o esperado, e um DBR para
um comprimento de onda menor. Outra possível justificativa pode ser algum erro instrumental durante
a medição da refletividade, já que a lâmpada halógena que utilizamos para as medidas tem um sinal
muito fraco abaixo de 550 nm, como mostra a figura 16, e isso aumenta o ruido na medição. Além
disso, o divisor de feixe (beam splitter) tem um filme anti-refletor otimizado para o comprimento
de onda 650 a 1000 nm. Portanto, abaixo de 650 tem menor refletividade. Na combinação disso,
a reflexão interna do divisor de feixe pode ter mascarado quando o sinal da luz refletida no DBR é
fraco, da ordem do sinal proveniente diretamente do divisor de feixe. Em vista desta discrepância,
estamos confeccionando novas amostras com o centro de reflexão na região compatível com a faixa
de trabalho do divisor de feixe e levando em consideração a espessura estimada na amostra preliminar.
Com isso, caracterizar a qualidade dos filmes depositados.
17
4 Conclusão

Figura 21: Foto dos DBR confecionados.

Apesar das medições serem ainda preliminares, os resultados foram promissores. A deposição
pelo método ALD foi eficaz em produzir um DBR de 5 pares de camadas com a curva de refletivi-
dade característica. O máximo de refletividade deste DBR teve a amplitude esperada (80%). Como
observamos na figura 20 a curva que melhor se encaixa às medições é a simulação do DBR com
λ0 = 530nm, o que nos leva a acreditar que as espessuras das camadas de Al2 O3 /TiO2 são menores
do que esperávamos.
Um fator que corrobora para mantermos a hipótese de que o λ0 do DBR confeccionado está em
torno dos 530nm é sua própria cor: um roxo-esverdeado. A olho nu nota-se uma coloração roxo-
esverdeada uniforme(que muda levemente com a angulação) e uma reflexão bem nítida, sem falhas
aparentes.
Esses resultados são animadores e motivam a continuação do projeto. Estamos utilizando estas
práticas para a confecção de um DBR de Al2O3/ZnO que ainda não foi concluído, porque o cresci-
mento de ZnO não foi otimizado. Isso porque no caso de ZnO é necessário que o eixo cristalino fique
alinhado ao longo da direção de crescimento para maximizar suas propriedades piezoeléctricas. As
medidas deste alinhamento de ZnO vêm sendo feitas por difração de raios-x.

5 Agradecimentos
Ao CNPq, pelo apoio financeiro para este projeto, através do programa PIBIC.

Referências
[1] G.R. Fowles, "Introduction to Modern Optics", 2o Ed. (1992)

[2] M. Fox, "Optical properties of solids", 5o Ed. (2007)

[3] I. Kone, et al. , "Resonator using Guided waves in a piezoelectric layer above a Bragg mirror",
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (2008)

[4] A. Soukiassian, et al., "Acoustic Bragg mirrors and cavities made using piezoelectric oxides",
Appl. Phys. Lett. 90, 042909 (2007)

[5] E. Lebrasseur, et al. "Design and fabrication of an acoustic bragg mirror for miniaturized quartz
resonators."m Société Francaise d’Acoustique (2012)
18
[6] P. Yousefi, et al., "Silicon dual pillar structure with a distributed Bragg reflector for dielectric
laser accelerators: Design and fabrication", University of Erlangen-Nuremberg & Max Planck
Institute for the Science of Light (2018)

[7] https://refractiveindex.info/

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