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4 ADI TI VOS 4 ADI TI VOS

4.1 I nt erao ent re component es


I nt eraes ent re component es
de um sist ema cermico
]
Adit ivo
9
9
5
:
1
4
8
]
R
e
e
d
,

1
9
[
R
P Lquido Molhament o
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 2
Tenses int erfaciais: Young
9
9
5
:
2
3
]
SL SV
cos


u

=
d
R
e
e
d
,

1
LV

onde
u: ngulo de cont at o lquido-slido (> 0)
[

SV
: t enso int erfacial slido-vapor

SL
: t enso int erfacial slido-lquido

LV
: t enso int erfacial lquido-vapor
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 3
Molhament o e espalhament o
Vapor
Lquido

gua
9
9
5
:
2
3
]
Lquido
gua
Cera
Slido
xido
xido
R
e
e
d
,

1
Slido
xido
xido
[
Molhament o se u < 90; espalhament o se u ~ 0
Adit ivo no lquido: +
LV
+ u
+ | Filme sobre xido: +
SV
| u
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 4
Superfcies e lquidos polares
]

O
M
9
9
5
:
1
4
1
]
Superfcie seca
M: Met al (Si, Al, Ti...);
R
e
e
d
,

1
9
H H H H H H
O: Oxignio
Adsoro fsica
[
R

MO + H
2
O MO-H
2
O, ou
> O + H
2
O > O-H
2
O
H
H
H
2 2
Adsoro qumica
M + MO + H O 2MOH
H H H
H
M + MO + H
2
O 2MOH,
ou
> O + H
2
O > OH
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 5
> O + H
2
O > OH
Surfact ant es
]
Surfact ant es: molculas com uma
t id d l t l
9
9
5
:
1
4
2
]
ext remidade apolar e out ra polar
R
e
e
d
,

1
9
Apolar ou
liofbica
Polar ou
lioflica
[
R
liofbica
(hidrofbica):
-C
x
H
y
lioflica
(hidroflica):
-OH, -COOH
y
-SO
3
-
, -OSO
3
-
-NH
4
+
, NH
2
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 6
Exemplos de surfact ant es
]
Ti po Nome Composi o
Uso em
cer mi ca
9
9
5
:
1
4
3
]
No-
inico
Et oxinonilfenol C
9
H
19
(C
6
H
4
)O(CH
2
CH
2
O)
10
H Rest rit o
R
e
e
d
,

1
9
co
Aninico
Est earat o de
sdio
C
17
H
35
COO

Na
+
Amplo
[
R
sdio
Cat inico
Cloret o de
dodecilt rimet il- [ C
12
H
25
N(CH
3
)
3
]
+
Cl

Rest rit o
amnio
[
12 25
(
3
)
3
]
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 7
Surfact ant es e int erfaces
]
gua
l
9
9
5
:
1
4
3
]
leo
gua
gua
ar
xido
leo
R
e
e
d
,

1
9
gua
gua
g
leo
[
R
leo-
gua
gua-
ar
xido-
leo
Micela
gua
ar leo
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 8
Tipos de adit ivos
Lquidos
Defloculant es (dispersant e)
Ligant es (aglomerant e) Ligant es (aglomerant e)
Plast ificant es
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 9
4 ADI TI VOS 4 ADI TI VOS
4.2 Lquidos
Funes dos lquidos
]
9
9
5
:
1
3
7
]
Lquidos:
R
e
e
d
,

1
9
Molham as part culas cermicas e provm
meio viscoso (agent es suspensores)
[
R
Dissolvem adit ivos (solvent es)
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 11
Propriedades de lquidos
]
T
f l
(C)
T
b
(C)
q
(mPa s)

LV
(mN/ m
2
)
c Fr mul a Lqui do
9
9
5
:
1
3
9
]
8 79 1 2 23 24 CH OH Et anol
- 100 1,0 73 80 H
2
O gua
R
e
e
d
,

1
9
- 290 20,0 48 43 C
3
H
8
O
2
Glicerol
8 79 1,2 23 24 CH
3
OH Et anol
[
R
2 80 0,4 25 18 C
4
H
8
O
Met ilet il-
cet ona
: const ant e dielt rica; : t enso superficial lquido vapor; : viscosidade; c: const ant e dielt rica;
LV
: t enso superficial lquido-vapor; q : viscosidade;
T
b
: pont o de ebulio; T
fl
: pont o de fulgor
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 12
Sist emas aquosos x orgnicos
]
Si st ema Pol ar i dade Mol habi l i dade
Aspect os
Ambi ent ai s
9
9
5
:
1
3
9
]
Ambi ent ai s
Aquosos Alt a (| c) Baixa (|
LV
)
No-inflamvel,
no t ico R
e
e
d
,

1
9
q ( ) (
LV
)
no-t xico
Orgnicos Baixa (+ c) Alt a (+
LV
)
I nflamvel,
t i
[
R
g ( ) (
LV
)
t xico
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 13
4 ADI TI VOS 4 ADI TI VOS
4.3 Defloculant es
Defloculao e defloculant es
]
9
9
5
:
1
5
0
]
Defloculao: est abilizao de uma
suspenso at ravs de um adit ivo
R
e
e
d
,

1
9
suspenso at ravs de um adit ivo
adsorvido sobre as part culas que
aument am as foras de repulso por
[
R
aument am as foras de repulso por
carga elt rica e/ ou
impediment o est rico
Defloculant es: adit ivos usados para Defloculant es: adit ivos usados para
promover a defloculao
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 15
Formao de cargas
]
9
9
5
:
1
5
0
]
Dessoro e dissoluo
R
e
e
d
,

1
9
Reao qumica em meio aquoso
Adsoro de ons especficos
[
R
Adsoro de ons especficos
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 16
Dessoro e dissoluo
]
Part cula de
9
9
5
:
1
5
1
]
Part cula de
argilomineral
Est rut ura lamelar
de argilominerais
K
+
-
K
K
K
K
K
R
e
e
d
,

1
9
on t rocvel
K
+
K
+
K
K
+
- -
-
-
K K
K
[
R
K
+
K
+
K
+
-
-
-
K
Subst it uio isomorfa:
Al
3+
+ K
+
= Si
4+
Al
3+
ret iculado
+ K
+
superfcie
= Si
4+
ret iculado
Mg
2+
ret iculado
+ K
+
superfcie
= Al
3+
ret iculado
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 17
Troca inica em argilas
5
/
2
:
1
6
9
]
Argila com ct ions adsorvidos A
+
t rat ada com
um sal solvel, cido ou base B
+
:
r
o
,

1
9
8
5
um sal solvel, cido ou base B :
Argila A
+
+ B
+

Argila B
+
+ A
+
[
N
a
v
a
r
r
Exemplos:
Argila Na
+
+ HCl

Argila H
+
+ NaCl g

g
Argila H
+
+ NaOH

Argila Na
+
+ H
2
O
Argila Na
+
+ NH
4
Cl

Argila NH
4
+
+ NaCl Argila Na NH
4
Cl

Argila NH
4
NaCl
Argila Ca
2+
+ Na
2
CO
3

Argila Na
2
+
+ CaCO
3
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 18
Capacidade de t roca cat inica
9
7
3
:
7
2
]
V
l
a
c
k
,

1
9
[
V
a
n

V
Capacidade de t roca cat inica (CTC):
d i nmero de meq necessrios para
neut ralizar os ons t rocveis adsorvidos em
100 d i l
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 19
100 g de um mat erial
Srie de Hofmeist er
9
5
:
1
6
5
]
Fora decrescent e de adsoro:
R
e
e
d
,

1
9
H
+
> Al
3+
> Ba
2+
> Ca
2+
> Mg
2+
> NH
4
+
> K
+
> Na
+
> Li
+
2
:
1
6
9
;

R
OH

> CNS

> I

> Br

> Cl

> NO
2

> F

> SO
4

,

1
9
8
5
/
2
Regra de Schulze Hardy: ons de maior
l i t i f it l t
N
a
v
a
r
r
o
,
valncia t m maior efeit o coagulant e
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 20
[
N
Reao qumica em meio aquoso
]
9
9
5
:
1
5
1
]
xidos com superfcie hidrat ada:
MOH
2
+
superfcie
MOH
superfcie
+ H
+
soluo
R
e
e
d
,

1
9
MOH
2 superfcie
MOH
superfcie
+ H
soluo
MOH
superfcie
MO

superfcie
+ H
+
soluo
[
R
onde
M = Ba
2+
, Al
3+
, Si
4+
, Ti
4+
, Zr
4+
...
Pont o de Carga Zero (PZC) ou Pont o
I lt i (I EP) i di t id b i I soelt rico (I EP): indica o cart er cido-bsico
mdio da superfcie
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 21
Pont os isoelt ricos de xidos
]
9
9
5
:
1
5
2
]
Mat er i al Composi o PI E
Quart zo SiO
2
2
R
e
e
d
,

1
9
Q
2
Albit a Na
2
O.Al
2
O
3
.6SiO
2
2
Ort oclsio K
2
O. Al
2
O
3
.6SiO
2
3-5
[
R
Caulinit a Al
2
O
3
.SiO
2
.2H
2
O 6-7
Alumina alfa oAl
2
O
3
9-9,5
Exemplo:
MOH
2
+
MOH MO
-
pH< PCZ pH= PCZ pH> PCZ
AlOH
2
+
AlOH AlO
-
pH< 9 pH= 9 pH> 9
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 22
pH< 9 pH= 9 pH> 9
Adsoro de ons especficos
]
9
9
5
:
1
5
3
]
Adsoro de um on mult ivalent e pode
revert er a carga superficial:
R
e
e
d
,

1
9
revert er a carga superficial:
MO

+ M
n+
MOM
(n-1)+
[
R MO
superfcie
+ M
n+
soluo
MOM
(n 1)+
superfcie
MOH
+
+ A
n-
MOH A
(n-1)
MOH
2
+
superfcie
+ A
n
soluo
MOH
2
A
(n 1)
superfcie
onde M: ct ion em soluo e A: nion em soluo
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 23
Elet rlit os mult ivalent es
]
9
9
5
:
1
5
5
]
Orgnico: I norgnico:
R
e
e
d
,

1
9
Poli(acrilat o de sdio) Pirofosfat o de sdio
[
R
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 24
Defloculant es aquosos comuns
]
9
9
5
:
1
5
6
]
I nor gni cos Or gni cos
R
e
e
d
,

1
9
Carbonat o de sdio Poli(acrilat o de sdio)
Silicat o de sdio
*
Poli(acrilat o de amnio)
[
R
Silicat o de sdio Poli(acrilat o de amnio)
Borat o de sdio Poli(sulfonat o de sdio)
*
Disponvel com razo SiO
2
/ Na
2
O de 1,63,3; o compriment o de cadeia
Pirofosfat o de sdio
p
2
/
2
, , ; p
aument a medida que a razo aument a
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 25
Dupla camada: definio
]
Contraons
9
9
5
:
1
5
8
]
ons e molculas
polares em soluo
Lquido polar
R
e
e
d
,

1
9
ao redor de uma
part cula respondem
a uma superfcie
Partcula
Camada adsorvida (Stern)
Camada difusa [
R
a uma superfcie
carregada
Dupla camada
elt rica:

o
: Potencial na superfcie
Distncia x
elt rica:
Camada de St ern
Camada difusa
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 26
Dupla Camada Seio da soluo Partcula
Espessura da dupla camada
]

9
9
5
:
1
5
8
]
Modelo:
-kx
e
0
=
0 368
o
R
e
e
d
,

1
9
quando
e
0

1
k
0,368
o
[
R
onde
1 -
k x =
x k
-1
k
-1
: espessura da
dupla camada
: pot encial elt rico
e /
0
=
0
368 , 0 =
: pot encial elt rico

0
: pot encial na superfcie
x: dist ncia da superfcie
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 27
0
368 , 0
x: dist ncia da superfcie
Propriedades elet rocint icas
]
9
9
5
:
1
5
9
]
Elet roforese: Part culas carregadas em uma
suspenso respondem a uma diferena de
R
e
e
d
,

1
9
p p
pot encial, adquirindo uma velocidade
elet rofort ica.
[
R
Elet roosmose: Uma soluo inica adj acent e Elet roosmose: Uma soluo inica adj acent e
a uma membrana porosa induzida a escoar
se uma DDP impost a se uma DDP impost a.
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 28
Pot encial zet a: definio
]
Plano de
deslizament o
9
9
5
:
1
6
0
]
Pot encial zet a (,):
pot encial elt rico no
l d d li t
R
e
e
d
,

1
9
plano de deslizament o
(x
s
), que pode ser
calculado a part ir de

[
R
p
uma propriedade
elet rocint ica
,
x x
s
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 29

]
Pot encial zet a: clculo
9
9
5
:
1
6
0
]
E
v f
e H
q
, =
onde
R
e
e
d
,

1
9
E
0 r
c c
,: pot encial zet a
f
H
: const ant e de Henry
q: viscosidade do elet rlit o
[
R
q: viscosidade do elet rlit o
v
e
: velocidade elet rofort ica
c
r
: const ant e dielt rica
c
o
: permit ividade
E: campo elt rico
v /E: mobilidade elet rofort ica
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 30
v
e
/E: mobilidade elet rofort ica
]
Pot encial zet a e dupla camada
5
/
2
:
1
6
7
]
1
4t
,

=
ek
d
r
o
,

1
9
8
5
r
c
,
onde
,: pot encial zet a
[
N
a
v
a
r
e: carga elt rica
c
r
: const ant e dielt rica
k
-1
: espessura da dupla camada
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 31
Zet a em funo do pH: exemplo
6
0
,

1
6
4
]
40
60
m
V
)
Goethita em NaCl
10
-4
M
10
-3
M
1
9
9
5
:
1
6
0
20
4 ,5 5 ,5 6 ,5 7 ,5 8 ,5 9 ,5 1 0 ,5
IEP
l

z
e
t
a

(
m
10
-2
M
[
R
e
e
d
,

-40
-20
P
o
t
e
n
c
i
a
-60
P
2 4 6 8 10
H pH
Quando ,< 25 mV (prximo do I EP) ocorre coagulao
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 32

]
2 / 1
| |
Dupla camada: clculo
9
9
5
:
1
5
8
]
2
2
B A 0 r
1 -
|
|
.
|

\
|
=

Z N F
T k N
k
c c
onde
k
-1
: espessura da dupla camada
R
e
e
d
,

1
9
i i
|
.

\

Z N F
k : espessura da dupla camada
c
r
: const ant e dielt rica
c
o
: permit ividade
d d
[
R
N
A
: nmero de Avogadro
k
B
: const ant e de Bolt zman
T: t emperat ura T: t emperat ura
F: const ant e de Faraday
N
i
: concent rao molar
Z l i
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 33
Z
i
: valncia
]
Dupla camada: exemplo
9
9
5
:
1
7
0
]
Est imar k
-1
para uma suspenso aquosa com 0,01 M
KCl a 20

C. Comparar com o t amanho de uma


molcula de gua que aproximadament e 0 2 nm
R
e
e
d
,

1
9
molcula de gua que aproximadament e 0,2 nm.
Dados: Respost a:
[
R
c
r
= 80
c
o
= 8,85 10
-12
C
2
/ J m
N = 6 02 10
23
mol
-1
k
-1
= 3,04 10
-9
m
k
-1
= 3,04 nm
N
A
= 6,02 10
23
mol
1
k
B
= 1,38 10
-23
J/ K
T = 293 K
F = 9,65 10
4
C/ mol
N
1
= N
2
= 0,01 mol/ l
Z
1
= Z
2
= 1
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 34
Z
1
= Z
2
= 1
Dupla camada em funo de
concent rao e valncia
Z : Z
k
-1
(nm)
M (mol/ l)
Z
1
: Z
2
M (mol/ l)
10
-7
10
-6
10
-5
10
-4
10
-3
10
-2
10
-1
1: 1 962 304 96,2 30,4 9,62 3,04 0,962
1: 2; 2: 1 555 176 55 5 17 6 5 55 1 76 0 555 1: 2; 2: 1 555 176 55,5 17,6 5,55 1,76 0,555
Aument ando a concent rao ou valncia dos cont ra-
( l l ) ons (elet rlit o):
comprime a camada difusa ( +k
-1
)
diminui o pot encial zet a (+,)
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 35
diminui o pot encial zet a (+,)
Dupla camada, zet a e coagulao
]
9
9
5
:
1
6
6
]
R
e
e
d
,

1
9
Plano de cisalhamento
,
1
,
[
R
2k
-1
k
-1
,
2
k
-1
x x
s
Reduo de k
-1
reduz , e pode causar coagulao
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 36
Coagulao e floculao
]
9
9
5
:
1
6
4
]
Coagulao: aglomerao de part culas
em suspenso produzida por
R
e
e
d
,

1
9
em suspenso produzida por
ons adsorvidos
l l
[
R
molculas pequenas
Floculao: aglomerao de part culas g p
em suspenso produzida por um ligant e
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 37
Coagulao
]
9
9
5
:
1
6
5
]
R
e
e
d
,

1
9
[
R
At rao
hidrofbica
At rao
het eropolar
Sobreposio de
dupla camada
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 38
Floculao
]
9
9
5
:
1
6
5
]
R
e
e
d
,

1
9
[
R
Pont eament o de
colide het eropolar
Pont eament o de
polmero colide het eropolar polmero
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 39
Razo valncia/ raio inico
]
on Val nci a Rai o i ni co ( ) Val nci a/ r ai o
9
9
5
:
1
7
1
]
NH
4
+
1 1,43 0,7
Na
+
1 0,98 1,0
R
e
e
d
,

1
9
Ca
2+
2 1,06 1,9
Mg
2+
2 1,78 2,6
[
R
Fora de ligao relat iva valncia/ raio:
C
2+
M
2+
fl l t ( l t ) Ca
2+
e Mg
2+
so floculant es (coagulant es)
NH
4
+
e Na
+
so defloculant es
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 40
4 ADI TI VOS 4 ADI TI VOS
4.4 Ligant es
Ligant es: definio e funes
]
9
9
5
:
1
7
3
]
Ligant es: adit ivos usados para melhorar
a resist ncia mecnica do produt o
R
e
e
d
,

1
9
a resist ncia mecnica do produt o
conformado (resist ncia a verde) para
permit ir o manuseio ant es da
[
R
permit ir o manuseio ant es da
densificao pela queima
Out ros nomes/ funes: umidificant e,
espessant e, plast ificant e, agent e espessant e, plast ificant e, agent e
suspensor, reolgico, de ret eno de
lquido de consist ncia
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 42
lquido, de consist ncia
Tipos de ligant es
]
Ti po Col oi dal
Or gni co I nor gni co
9
9
5
:
1
7
4
]
Or gni co I nor gni co
Celulose microcrist alina Argilas (caulim, ball clay, bent onit a)
Ti po Mol ecul ar R
e
e
d
,

1
9
Ti po Mol ecul ar
Or gni co I nor gni co
Vi li (PVA PMMA) Sili t l i (N )
[
R
Vinlico (PVA, PMMA) Silicat os solveis (Na)
Celulsico (MC, HEC, CMC) Fosfat os solveis (Na, K)
l ( ) l l ( ) Glicis (PEG) Aluminat os solveis (Na)
Ceras (parafinas)
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 43
Ligant es: nomenclat ura
CMC: carboximet ilcelulose
HEC: hidroxiet ilcelulose HEC: hidroxiet ilcelulose
MC: met ilcelulose
G li( il li l) PEG: poli(et ilenoglicol)
PMMA: poli(met ilmet aacrilat o)
PVA: lcool polivinlico
PVAc: acet at o de polivinila PVAc: acet at o de polivinila
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 44
Conceit os de polimerizao
]
Grau de polimerizao (n): nmero de meros
na molcula; a massa molecular aument a em
9
9
5
:
1
7
8
]
na molcula; a massa molecular aument a em
funo de n
Grau de Subst it uio (DS): nmero mdio de
R
e
e
d
,

1
9
Grau de Subst it uio (DS): nmero mdio de
posies que reagiram em uma unidade de
um mero
[
R
um mero
Subst it uio Molar (MS): nmero mdio de
um det erminado radical que reagiu em uma um det erminado radical que reagiu em uma
unidade de um mero
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 45
Ligant es celulsicos
]
9
9
5
:
1
7
9
]
Mero de celulose
(duas unidades de
R
e
e
d
,

1
9
anidroglucose)
[
R
Posies subst it uveis
R
1
, R
2
, R
3
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 46
DS e MS: exemplo
]
9
9
5
:
1
8
0
]
R
e
e
d
,

1
9
[
R
HEC:
DS 1 5 DS = 1,5
MS = 2 (n
o
de CH
2
CH
2
O- que reagiram)
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 47
Ligant es vinlicos
]
9
9
5
:
1
7
6
]
PVA complet ament e
hidrolizado
R
e
e
d
,

1
9
[
R
PVAc parcialment e
hidrolizado (com
grupos acet at o) grupos acet at o)
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 48
4 ADI TI VOS 4 ADI TI VOS
4.5 Plast ificant es
Plast ificant es: definio
]
9
9
5
:
2
0
1
]
Plast ificant es: adit ivos usados para
modificar as propriedades viscoelst icas
R
e
e
d
,

1
9
modificar as propriedades viscoelst icas
do sist ema ligant e-part cula, os quais
t m molc las meno es q e as de ligant es [
R
t m molculas menores que as de ligant es
reduzem as foras de Van der Waals
aument am a flexibilidade ( amaciam )
reduzem a resist ncia mecnica reduzem a resist ncia mecnica
diminuem a t emperat ura de t ransio vt rea
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 50
Transio vt rea
]
9
9
5
:
2
0
1
]
Moldabilidade do ligant e em funo da
t emperat ura. P. ex. para PVA:
R
e
e
d
,

1
9
t emperat ura. P. ex. para PVA:
20

C: elst ico e frgil (est ado vt reo )


90

C l l li h [
R
90

C: molculas escoam e se realinham


quando comprimidas (est ado borracha )
Temperat ura de t ransio vt rea (T
g
): Temperat ura de t ransio vt rea (T
g
):
t emperat ura de t ransformao ent re
est ado vt reo e est ado borracha
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 51
est ado vt reo e est ado borracha
Plast ificant es comuns
]
Pl ast i f i cant e Fr mul a
M
(g/ mol)
T
m
(C)
T
b
(C)
9
9
5
:
2
0
4
]
gua H
2
O 18
0 100
Glicerol C H O 92
18 290 R
e
e
d
,

1
9
Glicerol C
3
H
8
O
2
92
18 290
PEG HO-[ CH
2
-CH
2
-O]
n
-H 300
-10 > 330
[
R
M : massa molecular; T
m
: pont o de fuso; T
b
: pont o de ebulio
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 52
Variao da T
g
]
9
9
5
:
2
0
5
]
a

(

C
)
PVA com:
0% glicerol
6 4% li l
R
e
e
d
,

1
9

o

v

t
r
e
a
6,4% glicerol
17,7% glicerol
[
R
e

t
r
a
n
s
i

e
r
a
t
u
r
a

d
T
e
m
p
e
01/ 05/ 01 4 ADI TI VOS 53
Teor de umidade (m%)