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Prof. C. Brunetti
E a???
Imperfeies Cristalinas
Por qu estudar?
Afetam o comportmento dos materiais: Condutividade eltrica Deformao plstica A Aumento d resistncia mecnica t da i t i i Difuso Defeitos pontuais Defeitos de linha (discordncias) Defeitos de interface (gro e maclas)
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O que um defeito
uma imperfeio ou um "erro" no arranjo peridico regular dos tomos em um cristal cristal. Podem envolver uma irregularidade P d l i l id d na posio dos tomos no tipo de tomos O tipo e o nmero de defeitos dependem do material, do meio ambiente, e das , , circunstncias sob as quais o cristal processado.
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Imperfeies estruturais
Menos de 1 em 1 milho
M Menos sendo poucos eles influenciam muito d l i fl i it nas propriedades dos materiais e nem sempre de f d forma negativa ti
Imperfeies estruturais
Exemplos
o
O processo de dopagem em semicondutores visa criar imperfeies para mudar o tipo de condutividade em determinadas regies do material A deformao mecnica dos materiais promove a formao de imperfeies que geram um aumento na resistncia mecnica (processo conhecido como encruamento) apresentam resistncia maior que 70GPa, enquanto o ferro comum rompe-se a aproximadamente 270MP i d t 270MPa.
Imperfeies estruturais
So classificados de acordo com sua geometria ou dimenses d menses Defeitos Pontuais associados c/ 1 ou 2 posies atmicas uma dimenso (fronteiras) duas dimenses trs dimenses
Defeitos volumtricos
Defeitos Pontuais
Vacncias ou lacunas tomos Intersticiais Schottky
Ocorrem em slidos inicos
Frenkel
Vacncias ou lacunas
E Envolve a falta de um tomo l f l d So f formados d d durante a solidificao do cristal ou como resultado das vibraes atmicas (os tomos deslocam-se de suas p posies normais) )
Vacncias ou lacunas
O nmero de vacncias aumenta exponencialmente com a temperatura Nv= N exp (-Qv/KT)
Nv= nmero de vacncias N= nmero total de stios atmicos Qv= energia requerida para formao de vacncias K= constante de Boltzman = 1,38x1023J/at K ou 1 38x10 J/at.K 8,62x10-5 eV/ at.K
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Intersticiais
Envolve um tomo extra no interstcio (do prprio cristal) Produz uma distoro no reticulado, j que o tomo geralmente maior que o t l t i espao do interstcio A formao de um defeito (auto)intersticial implica grandes deformaes na rede, sendo menos provavel que uma lacuna
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Intersticiais
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Defeito de Frenkel
Ocorre em slidos inicos Ocorre quando um on sai de sua si d s posio normal e l vai para um interstcio
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Defeito de Schottky
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Impurezas nos slidos Ligas metlicas Elemento de liga ou Impureza soluto (< quantidade)
Solues slidas
Nas solues slidas as impurezas podem ser: - Intersticial - Substitucional
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tomos de impurezas ou os elementos de liga ocupam os espaos dos interstcios d quando a impureza apresenta raio atmico bem menor que o hospedeiro
Ocorre
Como os materiais metlicos tem geralmente fator de empacotamento alto as posies intersticiais so relativamente pequenas Geralmente, no mximo 10% de impurezas so incorporadas nos i i d interstcios i
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1,9
Valncia
+2
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A presena deste defeito a responsvel pela deformao, f lh e ruptura dos materiais d f falha t d t i i Podem ser: - Aresta (cunha) - Hlice - Mi t Mista
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Discordncias em aresta
Envolve um SEMI-plano SEMI plano extra de tomos O vetor de Burger perpendicular direo da linha da discordncia Envolve zonas de trao e compresso
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Discordncias em aresta
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Discordncias em hlice
O vetor de Burger paralelo direo da linha da discordncia
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Discordncias mistas
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Discordncias em hlice
DISCORDNCIA EM HLICE NA SUPERFCIE DE UM MONOCRISTAL DE SiC. AS LINHAS ESCURAS SO DEGRAUS DE ESCORREGAMENT SUPERFICIAIS. (Fig. 5.3-2 in Schaffer et al.).
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Discordncias em hlice
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Discordncias no TEM
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Discordncias no HRTEM
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Discordncias no HRTEM
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Consideraes gerais
A quantidade e o movimento das discordncias podem ser controlados tid d i t d di d i d t l d pelo grau de deformao (conformao mecnica) e/ou por tratamentos trmicos Com o aumento da temperatura h um aumento na velocidade de deslocamento das discordncias favorecendo o aniquilamento mtuo das mesmas e formao de discordncias nicas Impurezas tendem a difundir se e concentrar-se em torno das difundir-se concentrar se discordncias formando uma atmosfera de impurezas
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Consideraes gerais
O cisalhamento se d mais facilmente nos planos de maior densidade p atmica, por isso a densidade das mesmas depende da orientao cristalogrfica As discordncias geram vacncias As discordncias influem nos processos de difuso As discordncias contribuem para a deformao plstica
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Superfcies externas
o mais bvio Na superfcie os tomos no esto completamente g ligados Ento o estado energia dos tomos na superfcie maior que no interior do cristal Os materiais tendem a minimizar esta energia A energia superficial expressa em erg/cm2 ou J/m2)
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Contorno de gro
Corresponde regio que separa dois ou mais cristais d orientao dif i t i de i t diferente t um cristal = um gro
N interior d cada gro todos os No i i de d d tomos esto arranjados segundo um nico modelo e nica orientao, orientao caracterizada pela clula unitria
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Monocristal e policristal
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