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CONTINUA
QUIMICA ANALITICA
CURSO:
(DCP)
INSTRUMENTAL
DOCENTE :
ING. LIDA ANAYA
INTEGRANTES:
Fadia Barraza
Yauri Jhosselin
Erick Sanchez
BELLAVISTA CALLAO
Qu es el plasma ?
El plasma es un gas ionizado. Esto quiere decir que
tomos neutrales de un gas se parten en iones y
electrones. Para lograr esta rotura celular es
necesario inducir energa al gas. Esta energa se
alimenta con la ayuda de campos elctricos.
Para la excitacin
del plasma se
pueden usar fuentes
de corriente continua
o de corriente
alterna. Plasmas con
presiones menores
de 10 mbar se
denominan plasmas
de baja presin.
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PLASMA
INDUCIDO
POR
MICROONDAS
(MIP)
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PLASMA DE
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PLASMA DE
CORRIENTE
CONTINUA
(DCP)
COPLAMIENTO
INDUCTIVO
(ICP)
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(DCP)
El plasma de corriente
continua se describi por
primera vez en los aos 20 y
fue investigado
sistemticamente como
fuente para la espectroscopia
de
emisin
durante avarias
Pero
no se empez
utilizar
dcadas.
hasta los 60
PLASMA DE CORRIENTE
CONTINUA
(DCP)
Esta fuente de chorro de plasma consiste en tres
electrodos dispuestos en una configuracin de Y invertida.
Un nodo de grafito se localiza en cada brazo de la Y, y un
ctodo de wolframio en la base invertida. El argn fluye
desde los dos brazos anionicos hasta el ctodo. El chorro
de plasma se forma al contactar momentneamente al
ctodo con los nodos. Se ioniza el argn y se produce una
corriente que genera iones adicionales que mantienen la
corriente indefinidamente. La muestra se aspira dentro del
rea entre los 2 brazos de la Y donde se atomiza, excita y
examina.
El DCP el plasma se produce sometiendo el gas
plasmgeno a altas diferencias de potencial. En la
formacin del plasma: 1.- ionizacin del gas: paso de una
corriente electrica a travs del gas (chispa), 2.conservacin de la ionizacin: las partculas del plasma
han de estar en continuo movimiento ya que el calor es
consecuencia de los choques. El movimiento en funcin de
que sea un campo electrico, magntico, o ambos dar
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S
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El plasma se
forma al
contactar
momentneame
nte el ctodo
con los
nodos,
ionizndose el
argn y
desarrollndose
una corriente
con iones
adicionales que
mantienen la
corriente de
forma indefinida
CDP Vs ICP
Espectros con menos lneas que los de un ICP.
Sensibilidades con un orden de magnitud menor
que un ICP.
Reproducibilidad semejante a un ICP.
Se requiere menos argn y la fuente de
alimentacin es ms sencilla y barata.
Sin embargo, los electrodos de grafito tienen
que ser sustituidos cada pocas horas.
ELEMENTOS
SUCEPTIBLES DE
DETERMINACION
En principio, se pueden
determinar todos los elementos metlicos.
Para la determinacin del boro, fosforo, nitrgeno, azufre y carbn
se necesita un espectrmetro al vacio.
Su utilidad para el anlisis de metales
alcalinos se encuentra restringida por 2
razones, la primera es que las
condiciones de trabajo no pueden
adaptarse para estos metales y la
segunda es que las lneas ms intensas
del Li, K, Rb y Cs se encuentran en
longitudes de onda de infrarrojo cercano
lo que conduce a muchos problemas de
deteccin ya que los espectrmetros de
plasma estn diseados para la
radiacin ultravioleta.
INTERFERENCIAS
En las fuentes de plasma las interferencias
qumicas y de matriz son insignificativamente
menores que con los atomizadores. Sin
embargo a concentraciones bajas del analito
la emisin de fondo debido a las
recombinaciones de iones de argn con
electrones es suficientemente intensa como
para requerir correcciones cuidadosas.
Pero cabe destacar que para niveles
de 10 partes por billn o menos se
pueden detectar mas elementos
mediante excitacin con plasma que
con otros mtodos de emisin o
absorcin.
APLICACIONES