ALLOY

ELECTRODEPOSITION
PELAPISAN LISTRIK
PADUAN
ARS
 PENDAHULUAN
PROSES PELAPISAN PADUAN LEBIH KOMPLEK
DIBANDING PELAPISAN LOGAM MURNI.
NILAI POTENSIAL ELEKTRODA STANDAR DAPAT
DIJADIKAN ACUAN, APAKAH PADUAN TERTENTU
BISA DI BUAT DENGAN TEKNIK PELAPISAN
LISTRIK.
UMUMNYA, LOGAM2 YG MEMILIKI PERBEDAAN
POTENSIAL STANDAR SEBESAR 0.2 VOLT DAPAT
DI LAPISKAN DARI LARUTAN ELEKTROLIT GARAM
SEDERHANA DENGAN MENDEKATKAN NILAI
POTENSIALNYA MELALUI POLARISASI.
M LOGAM YG BISA DI DEPOSISIKAN DARI LARUTAN AQU
E
 PADA TITIK E, POTENSIAL LOGAM M1
DAN M2 SAMA, SEHINGGA
MEMUNGKINKAN UTK TERJADINYA
PELAPISAN SECARA BERSAMAAN
MEMBENTUK PADUAN.
SELAIN ITU, PELAPISAN SECARA
BERSAMAAN BISA DICAPAI DGN
MENGGUNAKAN AGEN KOMPLEKS,
MERUBAH KONSENTRASI LARUTAN
DAN TEMPERATUR PELAPISAN.
5 JENIS SISTEM PELAPISAN MENURUT BRENNER :
1. REGULAR SOLUTIONS UNDER DIFFUSION CONTROL.
UNCOMPLEXED METAL IONS AND TWO METALS OF WIDELY
DIFFERING NOBILITY,
2. IRREGULAR SOLUTIONS UNDER CATHODE POTENTIAL
CONTROL. STATIC POTENTIAL AFFECTED BY COMPLEXING
ALONE; E.G. CYANIDE BATH FOR COPPER-ZINC ALLOYS,
3. EQUILIBRIUM SOLUTIONS WHERE AT LOW CURRENT
DENSITIES THE BATH METAL CONCENTRATIONS GIVE THE
DEPOSIT METAL RATIO DIRECTLY; E.G. LEAD-TIN ALLOYS
FROM ACID BATHS,
4. ANOMALOUS SOLUTIONS IN WHICH THE LESS NOBLE METAL
DEPOSITS PREFERENTIALLY; E.G. IRON, COBALT OR NICKEL,
5. INDUCED SOLUTIONS IN WHICH A METAL CAN BE CO-
DEPOSITED AS AN ALLOY ALTHOUGH IT WILL NOT DEPOSIT
SINGLY; E.G. MOLYBDENUM OR TUNGSTEN WITH IRON
GROUP METALS.
 KONDISI 1, GAMBAR. 1.1a: NILAI OVERPOTENSIAL
LOGAM A (LEBIH MULIA) LEBIH TINGGI DARI LOGAM B
(KURANG MULIA). DARI NILAI POTENSIAL Er(Ap+/A) KE
Er(Bq+/B) MAKA HANYA LOGAM A YG AKAN
TERDEPOSISI, SEDANGKAN DEPOSISI PADUAN HANYA
AKAN TERJADI PADA POTENSIAL E1.
PADA RANGE POTENSIAL Er(Bq+/B) KE E1, LOGAM A
AKAN TERDEPOSISI PADA RAPAT ARUS LEBIH TINGGI
DIBANDING DEPOSISI LOGAM B (ARTINYA PADUAN
AKAN MEMILIKI JUMLAH LOGAM A LEBIH BANYAK
DIBANDING LOGAM B).
PADA POTENSIAL E1, LOGAM A DAN B AKAN
TERDEPOSISI BERSAMAAN, PADUAN AKAN MEMILIKI
JUMLAH LOGAM A DAN B YG SAMA.
PADA POTENSIAL KURANG DARI E1, LOGAM B AKAN
TERDEPOSISI PADA RAPAT ARUS YG LEBIH TINGGI
DIBANDING LOGAM A, AKIBATNYA PADUAN AKAN
MEMILIKI LEBIH BANYAK LOGAM B DARIPADA A.
 KONDISI 2, GAMBAR. 1.1b: NILAI
OVERPOTENSIAL LOGAM A LEBIH RENDAH
DIBANDING LOGAM B, KURVA POLARISASI TERLIHAT
PARALEL. DEPOSISI PADUAN AKAN TERJADI PADA
POTENSIAL Er(Bq+/B), DIMANA PADUAN AKAN
MEMILIKI LOGAM A LEBIH BANYAK DIBANDING B.
KALAU PERBEDAAN ANTARA POTENSIAL Er(Ap+/A)
DAN Er(Bq+/B) TINGGI, DAN NILAI OVERPOTENSIAL
LOGAM A JAUH LEBIH RENDAH DI BANDING LOGAM
B, MAKA AKAN TERJADI KONDISI 3, GAMBAR
1.1c. PADA KONDISI INI, DEPOSISI PADUAN TIDAK
MUNGKIN TERJADI.
PERBEDAAN NILAI POTENSIAL REVERSIBLE DARI 2
LOGAM TSB BISA DI KURANGI DENGAN MERUBAH
KONSENTRASI ION LOGAM DILARUTAN, ATAU
MENAMBAHKAN ION KOMPLEKS.
 If the two metals have similar polarization
curves (Fig.2.11a) the deposit weight ratio is
i1Z1/i2Z2 where i1 and i2 are the individual
current densities and z1 and z2 are the
respective electro-chemical equivalents.
If the degrees of polarization are different
(Fig.2.lib) the deposit composition depends
upon the potential. At the point of
intersection i1 = i2 and the weight ratio in
the deposit must be z1/z2, but below this
potential (more positive) the ratio is less
while at more negative potential the ratio is
greater. The overall deposition rate (i1z1 +
i2z2) also varies with potential.