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DEFEITOS EM CERÂMICA
Samuel Toffoli
DEFEITOS EM CERÂMICA
Importante característica de diversos grupos de Materiais Cerâmicos
Explica diversas propriedades de cerâmicas técnicas
Explorados na obtenção de dispositivos eletrônicos, como p.ex.:
Sensor de TiO2 para detecção de O2
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DEFEITOS EM CERÂMICA
Sensor de TiO2 (dopado com Nb) para detecção de O2
Funcionamento –
comportamento resistivo:
a influência da pressão
parcial de O2 sobre sua
condutividade é alterada
pela concentração de
defeitos (introduzidos pelo
dopante nióbio, de carga
superior à do titânio)
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DEFEITOS EM CERÂMICA
• Diversas propriedades dos cristais são
determinadas por IMPERFEIÇÕES
Condutividade elétrica
Transporte por difusão; taxas de:
Nº e tipo de defeito puntiforme
Precipitação
Densificação
Crescimento de grão
Fluência (creep)
Cor
Absorção e re-emissão por íons de
Laser impurezas
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TIPOS DE DEFEITOS
Defeitos eletrônicos: formação
de par elétron-buraco
Defeitos bidimensionais:
contorno de grão, etc.
© Douglas Gouvêa
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TIPOS DE DEFEITOS
• Por que ocorrem os defeitos puntuais?
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TIPOS DE DEFEITOS
• Por que ocorrem os defeitos puntuais?
• Variação de entalpia e entropia de um cristal em
função do número crescente de defeitos:
• Observações:
• A criação de um defeito:
– Normalmente custa energia
– Aumenta a entropia do cristal
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TIPOS DE DEFEITOS
• Por que ocorrem os defeitos puntuais?
Os defeitos puntuais podem ser
Intrínsicos: presentes mesmo num cristal puro
Extrínsicos: devido à presença de átomos “estrangeiros”
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TIPOS DE DEFEITOS
– Frenkel
– Shottky
– vacância (ou lacuna) de oxigênio
geram
– vacâncias de metal desvios
– metal intersticial de
estequiometria
– oxigênio intersticial
© Douglas Gouvêa
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Defeito tipo Schottky
Superfície do cristal
© Douglas Gouvêa
© Douglas Gouvêa
OBS: defeito tipo anti-Frenkel = ânion deixa sua posição normal na rede
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Notação de Kröger-Vink (1)
© Douglas Gouvêa
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Notação de Kröger-Vink (3)
© Douglas Gouvêa
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Fe2+ O2- Fe2+ O2- Fe2+ O2- Fe2+ O2-
O2- Fe2+ O2- Fe2+ O2- Fe2+ O2- Fe2+ carga efetiva
cátion FeFex nula
Fe2+ O2- Fe+ VO.. Fe+ O2- Fe2+ O2-
ânion vacância de
oxigênio oxigênio
VO..
carga efetiva
OOx nula
carga efetiva 2+
© Douglas Gouvêa
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Reações químicas de formação de defeitos
Ex: redução de um óxido. Pode ser expressa como a
remoção de oxigênio da rede para a fase vapor, deixando para trás
uma lacuna:
Defeitos predominantes
Defeitos predominantes
© Douglas Gouvêa
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Oxigênio Intersticial
O2-
M2+ O2- M2+
M2+ O2- M2+ O2-
© Douglas Gouvêa
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FORMAÇÃO
– Ativação térmica a alta temperatura
– Adição de solutos e impurezas
– Processos de oxidação e redução
• ABORDAGEM
INTERAÇÕES QUÍMICAS INTERAÇÕES DOS DEFEITOS
dos íons e elétrons numa solução em estado sólido
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• TEMPERATURA HOMÓLOGA:
T
Th
Tm
– Para comparar materiais diferentes em termos de propriedades de
difusão e de defeitos (Tm = temperatura de fusão)
• Exemplo:
– MgO (Tm= 2825ºC) X NaCl (Tm= 801ºC), KCl, LiF, ... (haletos de álcalis)
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Ou seja: n 1
Dg
N
e
2 kT
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ENERGIA DE FORMAÇÃO DE DEFEITOS:
NaCl DHF Schottky 2.4 eV Tm = 801ºC Ligações mais fortes
MgO DHF Schottky 7.7 eV Tm = 2825ºC Tm
EF compatível
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ALGUMAS ENERGIAS
DE FORMAÇÃO DE
DEFEITOS
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• CONDUTIVIDADE ELETRÔNICA
Função de [defeitos eletrônicos móveis]
Cristal muito isolante: concentração desprezível de e- livres e buracos
Semicondutores: concentração de e- livres e buracos são fartos e são os
defeitos de interesse
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• CONDUTIVIDADE ELETRÔNICA
– Por outro lado, do ponto de vista intrínseco apenas, ou seja, não se
considerando ação de agentes externos (p.ex. alta temperatura), a
LIGAÇÃO QUÍMICA é que determina a condutividade: quanto maior o
compartilhamento entre átomos adjacentes, mais fácil excitar
elétrons:
– Exemplo:
NaCl puro: altamente iônico, mas Egap = 7.3 eV + resistivo
(funde a 801ºC)
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• DIFUSÃO
A taxa de difusão de átomos também é fortemente
dependente da concentração de defeitos
Processos controlados por difusão:
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Associação de Defeitos:
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Associação de Defeitos:
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