ENGENHARIA DE SUPERFCIES

COM FINALIDADES
TRIBOLGICAS

Prof. Dr. Wisley Falco Sales

adaptado do trabalho desenvolvido pelo
Prof. Dr. Sandro Cardoso Santos
1. INTRODUO

TRATAMENTOS SUPERFCIAIS E REVESTIMENTOS

Objetivos:

aumentar a resistncia ao desgaste, eroso e identao da superfcie do

material;
Modificar seu comportamento ao atrito;
Melhorar a lubrificao;
Melhorar a resistncia corroso e oxidao;
Melhorar a resistncia a fadiga;
Reconstruo de peas (estampos e ferramentas);
Melhoria de rugosidade;
 TRATAMENTOS SUPERFCIAIS E REVESTIMENTOS

ALTERNATIVAS:
COMPOSIO QUMICA
NO ALTERADA
a) MODIFICAO DA SUPERFCIE

COMPOSIO QUMICA
ALTERADA

PROCESSOS ELETROQUMICOS

b) REVESTIMENTO SOBRE A SUPERFCIE PROCESSOS DE FUSO

PROCESSOS DE DEPOSIO
DE VAPOR
2. MTODOS COM MODIFICAO DA SUPERFCIE

2.1 COMPOSIO QUMICA INALTERADA

TMPERA SUPERFICIAL

FUSO DA SUPERFCIE

2.2 COMPOSIO QUMICA ALTERADA

TRATAMENTOS TERMOQUMICOS
IMPLANTAO INICA
2.1 MODIFICAO DAS SUPERFCIES COMPOSIO QUIMICA INALTERADA

TMPERA SUPERFICIAL

Consiste numa tmpera limitada a um estrato superficial mais ou

menos profundo de uma pea.

O objetivo bsico de obter uma superfcie dura e resistente ao

desgaste e abraso. As peas temperadas por induo
apresentam tambm melhoria da resistncia a fadiga por
dobramento e toro.

Pode ser realizada por chama, onde o aquecimento do estrato

superficial realizado por meio de uma chama oxiacetilnica, ou,
por induo, no qual o aquecimento obtido por efeito joule de
uma corrente superficial, gerada por um indutor eltrico de alta
freqncia.
2.1 MODIFICAO DAS SUPERFCIES COMPOSIO QUIMICA INALTERADA

TMPERA SUPERFICIAL

PROCESSO SIMPLES
RESTRITO A MATERIAIS TEMPERVEIS

CHAMA
INDUO ELTRICA DE ALTA FREQNCIA
FONTE DE CALOR LASER

FEIXE DE ELTRONS

PROFUNDIDADE

PROPRIEDADES
2.1 MODIFICAO DAS SUPERFCIES COMPOSIO QUIMICA INALTERADA

FUSO LOCALIZADA E SOLIDIFICAO DA SUPERFCIE

(Aquecimento obtido por laser, feixe de eltrons e tambm processo TIG)

HOMOGENIZAO E REFINO
SOLIDIFICAO RPIDA
DA MICROESTRUTURA

APLICADOS EM METAIS FERROSOS, NO FERROSOS E EM

MATERIAIS NO METLICOS (EVENTUALMENTE)
2.2 MODIFICAO DAS SUPERFCIES COMPOSIO QUIMICA ALTERADA

TRATAMENTOS TERMOQUMICOS

So tratamentos que visam o endurecimento

superficial dos aos, pela modificao parcial da
sua composio qumica nas sees que se
deseja endurecer.
O objetivo principal aumentar a resistncia ao
desgaste, ao mesmo tempo em que se mantm o
ncleo ductil e tenaz.
 DOIS TIPOS DE TRATAMENTOS TERMOQUMICOS NO ESTADO SLIDO
LEVAM A MODIFICAO DA SUPERFCIE.

TIPO 1 - DIFUSO DE PEQUENOS TOMOS NA SUPERFCIE LEVAM A FORMAO

DE UMA SOLUO SLIDA INTERSTICIAL NO SUBSTRATO DO MATERIAL,
E ALGUMAS VEZES A FORMAO DE COMPOSTOS DE FINOS PRECIPITADOS;
A REGIO MODIFICADA, CONTUDO, PERMANECE QUIMICAMENTE SIMILAR AO
SUBSTRATO. EXEMPLOS:

CEMENTAO
CARBONITRETAO

TIPO 2- OCORRE REAO QUMICA ENTRE OS TOMOS DE DIFUSO E

OS CONSTITUINTES DO SUBSTRATO, CAUSANDO A FORMAO DE
UM NOVO COMPOSTO NA SUPERFCIE. EXEMPLOS:

NITRETAO
BORETAO
CROMEAO
Cementao:

Consiste na introduo de carbono na superfcie do ao, de

modo que aps tmpera, este apresente uma superfcie
muito mais dura.
O enriquecimento superficial feito portando-se o ao a uma
temperatura suficientemente elevada (acima da zona crtica
727C) , em um meio slido, lquido ou gasoso rico em
carbono, mantendo-se a um tempo suficiente para a
absoro deste elemento pela superfcie do ao.
Carbonitretao:

Consiste de um processo de cementao modificado, no

qual o ao, geralmente de baixo carbono, submetido a
uma temperatura superior a A1 (727C) em uma
atmosfera gasosa que fornea simultaneamente,
carbono e nitrognio. A carbonitretao seguida de
tmpera.
Tem como objetivo obter um estrato superficial duro e
muito resistente ao desgaste, com ncleo relativamente
tenaz.
Nitretao:

Tratamento de endurecimento superficial, no qual se introduz na

superfcie do ao o nitrognio.

realizado a temperatura de cerca de 500C em um ambiente contendo

amnia (NH4). Este processo conhecido como nitretao a gs.

Outro processo de nitretao aquele em que o ao colocado num

banho de sal, a temperatura de cerca de 570C, para a absoro do
nitrognio. conhecida como nitretao lquida.

A nitretao gasosa tem como objetivo obter um estrato superficial muito

duro e muito resistente ao desgaste.

A nitretao lquida objetiva requisitos anti-desgaste, anti-engripamento,

aumenta a resistncia fadiga e no d a superfcie um aprecivel
aumento de dureza.

A nitretao no seguida de nenhum tratamento trmico.

Propriedades dos aos Nitretados
Boretao:

Tratamento trmoqumico em que se promove enriquecimento superficial

com boro. Utiliza-se para peas que necessitam de alta resistncia
abraso.

Cromeao:

Endurecimento superficial de aos carbono e ferramentas, no qual o

cromo reage com o carbono do ao para formar na superfcie uma
camada de carboneto de cromo.
 3. REVESTIMENTOS

3.1 DEPOSIO ELETROQUMICA

O conceito eletrodeposio usado para definir o recobrimento de peas com um metal
condutor ou outra substncia sendo resultado de uma emigrao de partculas carregadas
eletricamente a uma soluo aquosa inica com o auxlio de corrente eltrica a fim de
impedir a deteriorizao de peas devido oxidao, corroso ou ataque de bactrias.
As partculas podem ser ons, molculas grandes (protenas), colides ou macromolculas
(goma ou ltex).

Na eletrodeposio de metais, utiliza-se uma clula eletroltica contendo uma soluo

eletroltica. Esta soluo contm sais inicos do metal a ser depositado. Usualmente
denomina-se esta soluo como banho. O banho dividido em dois grupos:

-Banhos orgnicos, que incluem as pinturas, esmaltes, vernizes e lacas (gomas);

- Banhos inorgnicos, que so os mais utilizados em eletrodeposio. Os banhos mais

comuns so os banhos de cromo, cobre, estanho, nquel, zinco. Outros banhos ganham
destaque como os banhos de metais nobres, como ouro, prata, rdio, platina, etc..., e
banhos do tipo zinco-liga: Zinco/Ferro, Zinco/Nquel, Zinco/Cobalto.
3. REVESTIMENTOS

3.1 DEPOSIO ELETROQUMICA

3.2 PROCESSOS DE DEPOSIO POR FUSO

3.2.1 SOLDAGEM

3.2.2 SPRAY TRMICO

 3.2 PROCESSOS DE DEPOSIO POR FUSO
3.2.2 SPRAY TRMICO
De uma forma geral, o spray trmico utilizado para materiais metlicos e no metlicos.
No caso particular da recuperao de peas para deposio, o material a depositar, arame
ou p, fundido com a chama de acetileno e oxignio, sendo projetado em seguida com ar
comprimido, ou outro gs qualquer, contra a superfcie pr-tratada.

Este tipo de spray trmico conhecido por metalizao chama.

A elevada temperatura da chama de acetileno e oxignio permite que se apliquem tambm
materiais com elevada temperatura de fuso, como por exemplo revestimentos base de
molibdnio.

Camadas revestidas por este mtodo tm tido um excelente comportamento em todos os

campos da tcnica, como por exemplo, no revestimento de superfcies desgastadas, na
reparao de elementos de mquinas ou na aplicao de camadas de proteo anti-
corrosiva em zinco, alumnio, cobre ou ao CrNi.

No revestimento por spray trmico, utiliza-se tambm o arrefecimento com dixido de

carbono para materiais sensveis temperatura.
SPRAY TRMICO
SPRAY TRMICO
Artigo
 3.3 DEPOSIO DE VAPORES

3.3.1 PROCESSO PVD

PHISICAL VAPOUR DEPOSITION
Processo PVD (Physical Vapor Deposition)

O processo PVD (Deposio fsica de vapor) uma tcnica de deposio de filmes

finos (metlicos ou cermicos) atravs da vaporizao destes materiais em cmaras
especiais.

De forma geral este processo envolve:

-Vaporizao do material slido;
-Aquecimento ou Sputtering
-Condensao de vapor sobre a superfcie para formar o filme fino slido.

O processamento PVD feito sob alto vcuo e temperaturas que variam entre 150
e 500 C.

O material de revestimento slido de alta pureza (metais como titnio, cromo e

alumnio) evaporado por calor ou bombardeado com ons (deposio catdica). Ao
mesmo tempo, introduzido um gs reativo (por exemplo, nitrognio ou um gs que
contenha carbono) formando um composto com o vapor metlico que se deposita
nas ferramentas ou nos componentes na forma de um revestimento fino e altamente
aderente.
Processo PVD (Physical Vapor Deposition)

Para se obter uma espessura de revestimento uniforme, as peas devem girar a

uma velocidade constante durante o processo.

necessrio realizar alguns testes para acompanhar o comportamento do filme

depositado.

Para o processo PVD as anlises da espessura, medida de aderncia (Scracth test)

e endentao HRC dos filmes mostram de forma qualitativa o comportamento do
processo.
Mtodos de PVD

Evaporao
sputtering
Processo de Deposio PVD:

a) O material a ser depositado (fonte

slida) convertido a fase vapor por
processo fsico.
b) O vapor transportado da fonte at o
substrato atravs de uma regio de
baixa presso.
c) O vapor condensa sobre o substrato
para formar o filme fino.
 PVD

Fase Gasosa Fase Gasosa

Transporte

Evaporao Condensao

Fase Condensada Fase Condensada

(slido) (filme slido)
 Converso para Fase Gasosa

A converso para a fase gasosa pode ser feita

por:

a) Adio de Calor EVAPORAO.

b) Pelo desalojamento dos tomos da
superfcie do alvo atravs de
transferncia de momentum por
bombardeio inico SPUTTERING.
3.3.2 DEPOSIO FSICA PVD PHISICAL VAPOUR DEPOSITION

BOMBA DE
VCUO

EVAPORAO SPUTTERING
 "Sputtering" PVD-process / Coating
Hot filament cathode

Argon gas Reactive gas

150 - 250C

Substrates Planar Magnetron-

Sputtering source
(coating material)

Vacuum pump

2.9 (9508) e
 3.3 DEPOSIO DE VAPORES

3.3.2 PROCESSO CVD

CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
Processo CVD (Chemical Vapor Deposition)

O processo CVD (Deposio Qumica de Vapor) consiste em depositar

material slido a partir de uma fase gasosa. O processo similar ao PDV, mas
naquele caso o material de revestimento (precursor) originalmente slido.
Neste processo o substrato colocado num reator que recebe alimentao de
gases.

O princpio do processo uma reao qumica entre os gases. O produto

desta reao um material slido que condensa sobre todas as
superfcies dentro do reator, formando a pelcula de revestimento
desejada sobre o substrato.

Processo de deposio qumica a vapor - CVD (Chemical Vapour

Deposition): a deposio dos revestimentos ocorre por meio de reaes
qumicas em uma faixa de temperatura entre 900 e 1100C;
Processo CVD (Chemical Vapor Deposition)

Deposio Qumica a partir de Fase Vapor (Chemical Vapor Deposition

CVD)

CVD: reaes qumicas que transformam molculas gasosas

chamada precursor, em material slido na forma de filmes, sobre o
substrato .
Processo CVD (Chemical Vapor Deposition)

Mtodo mais comum de deposio de filmes finos,

utilizados atualmente na fabricao de CIs.

Deposio de filmes finos isolantes (dieltricos),

condutores e semicondutores.
 Filmes que podem ser depositados por
CVD:

silcio policristalino (Si-poli)

xido de silcio (SiO2)
nitreto de silcio (Si3N4, SiN)
metais (Al, W, Ti, etc.)
silicetos (WSi2, TiSi2, MoSi2, TaSi2)
CVD
 Artigo

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