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Eletrnica Industrial
A. Princpio de funcionamento
A estrutura bsica do MOSFET lateral de baixa potncia mostrada na Figura 36
e utilizada para ilustrar o mecanismo de funcionamento do MOSFET. As regies n+ da
fonte (source - S) e do dreno (drain - D) encontram-se difusas ou implantadas num
substrato de silcio tipo P relativamente pouco dopado, e uma fina camada de Dixido
de Silcio isola a porta (gate - G), normalmente construda de Alumnio, da superfcie
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de silcio. Nenhuma corrente flui entre as regies do dreno e da fonte sem que um canal
n seja formado entre eles, uma vez que ambos tm em seu caminho duas junes pn
opostas e conectadas em srie.
Quando uma tenso positiva com relao fonte aplicada porta, cargas
positivas so criadas no metal (Alumnio). Em resposta a estas cargas, cargas negativas
so induzidas na regio de silcio prxima a porta. Isto resulta na formao de uma
regio de depleo contendo uma fina camada de eltrons mveis. Pode-se dizer que a
aplicao de uma tenso positiva na porta inverte uma poro do silcio tipo P,
formando um canal n com baixa resistncia aos eltrons. Este canal n permite que a
corrente flua livremente entre os terminais do dreno (D) e da fonte (S).
Observa-se que, de acordo com o que foi descrito acima, um importante
parmetro nos MOSFETs a tenso limiar definida como VGS(Th). Este parmetro
corresponde a menor tenso positiva aplicada porta do MOSFET que capaz de
induzir um canal n. Com uma tenso inferior a VGS(Th) aplicada a porta o MOSFET
permanece bloqueado.
Esta estrutura mostrada na Figura 36 uma estrutura horizontal, ou lateral, que
possui graves limitaes associadas com o aumento da rea de substrato, o que a torna
economicamente invivel para utilizao em grandes correntes. Para aplicaes onde
nveis de correntes maiores so necessrios a estrutura vertical, conhecida como
VDMOS preferida, Figura 37.
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Na primeira observao da Figura 37, parece no existir modo algum para que a
corrente circule entre os terminais do dreno e da fonte. No existe meio para que haja
uma injeo de portadores minoritrios na regio onde encontra-se o silcio tipo P
atravs do terminal da porta, pois este isolado da regio tipo P. Entretanto, tal como no
MOSFET lateral, a aplicao de uma tenso positiva na porta converter uma poro do
silcio abaixo da porta em um canal tipo n, o qual conecta o terminal da fonte com o
terminal do dreno.
Muitos aspectos da estrutura do MOSFET podem ser observados. Primeiramente,
a fonte construda por milhes de pequenas reas com formato de polgonos que esto
conectadas em paralelo e circundadas pela regio da porta. A forma geomtrica da
regio da porta tem influncia na resistncia de conduo do MOSFET. Em segundo
lugar, existe um transistor bipolar npn parasita entre os terminais da fonte e do dreno,
como mostrado na Figura 37. A regio tipo P serve como base deste transistor parasita.
Para reduzir a probabilidade deste transistor permanecer em conduo, a regio P
curto-circuitada com a regio da fonte atravs da sobreposio destas regies durante a
fabricao do MOSFET. Como resultado disto, forma-se um diodo parasita conectado
entre os terminais fonte e dreno, conforme mostrado na Figura 37. Este diodo pode ser
muito til em algumas aplicaes como, por exemplo, em fontes de telecomunicao,
onde conversores CC-CC isolados do tipo full-bridge so largamente utilizados. Em
terceiro lugar, existe uma sobreposio entre a metalizao da porta e a regio n-. Esta
sobreposio tem dois propsitos: o primeiro melhorar a condutividade da regio n-
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(a)
(b)
Figura 38 Fenmenos da estrutura do MOSFET. (a) Camada de acumulao; (b) Camada de
depleo.
B. Curva caracterstica.
A curva caracterstica do MOSFET mostrada na Figura 39. Para assegurar uma
queda de tenso dreno-fonte pequena em seu estado de conduo, minimizando as
perdas, a tenso aplicada porta deve possuir um valor elevado, normalmente 15 V.
Este valor de tenso suficiente para garantir que o transistor opere na regio de
resistncia constante, onde a corrente de dreno seja limitada acima da corrente de carga
definida pelo circuito. Todavia, a mxima tenso permitida no terminal porta fica em
torno de 20 V. Tenses acima deste valor podem causar danos irreparveis ao transistor.
O dixido de silcio que isola a porta do corpo do transistor um isolante com
corrente de fuga praticamente desprezvel. Uma vez que a carga da porta estabelecida,
no existe mais corrente de porta. Portanto, pode-se dizer que o MOSFET apresenta um
ganho muito grande entre a potncia do circuito de controle e os terminais do transistor.
A ausncia de carga armazenada no interior do dispositivo fornece a possibilidade
de um chaveamento mais rpido do que dos demais transistores. A resistncia de
conduo do MOSFET uma funo do valor da tenso de ruptura direta destes
dispositivos. Assim, os MOSFETs so largamente utilizados para tenses abaixo de
500V,
apresentando
caractersticas
incomparavelmente
superiores
que
outros
dispositivos nesta faixa de tenso. Todavia, para tenses mais elevadas, as perdas em
Prof. Mrio Lcio da Silva Martins
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(a)
(b)
Figura 39 Caracterstica iD versus vDS do MOSFET de potncia. (a) Terico; (b) MOSFET
IRFP460 (20A/600V).
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observar que alm da fonte de tenso utilizada pelo circuito de acionamento (drive)
cargas estticas podem provocar surtos de tenso que podem superar o valor de VGS(Max)
vindo a danificar o dispositivo semicondutor. Por outro lado, a mxima tenso drenofonte (BVDSS) a maior tenso que o MOSFET pode suportar sem que ocorra a sua
ruptura por avalanche da juno pn formada entre a regio do dreno e a regio P do
MOSFET.
A rea de Operao Segura (SOA) de um MOSFET mostrada na Figura 40.
Trs fatores determinam a SOA do MOSFET: a sua mxima corrente de dreno, ID(Max); a
temperatura de juno, Tj, a qual governada pela dissipao de potncia do
dispositivo; e a tenso mxima suportada pelo dispositivo, BVDSS. Deve-se observar que
o MOSFET no apresenta segunda ruptura como os transistores bipolares de potncia.
D. Caractersticas estticas.
Exceto em altas freqncias, quase toda a potncia dissipada em um MOSFET
ocorre quando o dispositivo encontra-se em conduo. A potncia instantnea dissipada
dada por,
PMOSFET ( on ) = I 0 2 rDS ( on )
(5.34)
(5.35)
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E. Caractersticas dinmicas.
Os MOSFETs so intrinsecamente mais rpidos do que os transistores bipolares
porque no h excesso de portadores minoritrios para ser movidos para dentro e para
fora do dispositivo quando este entra em conduo ou em bloqueio. As nicas cargas
que devem ser movidas so as cargas das capacitncias intrnsecas e da camada de
depleo, as quais so vistas na seco transversal do MOSFET mostrado na Figura 42.
Estas capacitncias podem ser modeladas pelo circuito equivalente do MOSFET, Figura
43, o qual vlido quando o MOSFET encontra-se em bloqueio ou na regio ativa.
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(a)
(b)
(c)
(5.36)
Este mtodo para considerar a corrente de dreno na regio ativa sugerido pelo
fato de que a curva de caracterstica de transferncia pode ser aproximadamente linear,
Figura 44.
(a)
(b)
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(5.37)
Em fontes chaveadas onde vGS >> vGS (Th ) , quando o dispositivo esta em conduo,
o critrio para entrada na regio hmica pode ser simplificado como,
vDS vGS
(5.38)
0, para t < 0
vGG (t ) =
VGG , para t 0
(539)
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(a)
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(b)
1 = RG ( Cgs + C gd 1 )
(5.40)
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iD=I0. Neste momento toda a corrente da porta flui atravs de Cgd, isto faz com que a
taxa de decaimento de vDS seja dada por,
i
d
d
vDS = vdg = G
dt
dt
C gd
(5.41)
Onde,
iG =
VGG VGS , Io
(5.42)
RG
E, portanto,
V V
d
vDS = GG GS , Io
dt
RG C gd
(5.43)
2 = RG ( C gs + C gd 2 )
(5.44)
(a)
(b)
(c)
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(d)
(e)
(f)
(g)
(h)
(i)
(j)
(k)
(l)
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(m)
(n)
(o)
(p)
(q)
(r)
(s)
(t)
(u)
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