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1. Introduo
Mais do que um simples corpo cermico de uso dirio, a
porcelana, neste caso a porcelana de mesa, tem hoje caractersticas
que a elegem como um produto tcnico de elevado padro com relao
a suas propriedades fsicas e qumicas como: resistncia mecnica
ao impacto nas bordas, resistncia ao risco por talheres (marca de
metal), resistncia a detergentes alcalinos (aos lcalis), choque
trmico, etc. Tambm as tcnicas de decorao e o design destes
produtos sofreram uma enorme evoluo, sendo confrontadas com
requisitos e especificaes de qualidade de elevada exigncia.
A obteno de decoraes em relevo no pode ser dissociada das
condies de queima a que as peas estaro sujeitas. Estas composies
so normalmente aplicadas sobre o vidrado, temperatura mxima de
850 C. No seu aspecto destaca-se o relevo proeminente e brilhante
sobre o vidrado da pea, mas de fraca resistncia detergncia,
abraso e marcas de metais, especialmente talheres. A utilizao de
tintas cermicas de alta temperatura (1250 C) para formar estruturas
de relevo, designadas por tintas in-glaze, obriga formulao de
composies com caractersticas de queima menos comuns. As tintas
in-glaze tendem a migrar para o interior do vidrado da porcelana,
ficando protegidas por este de agentes exteriores agressivos de
natureza fsica ou qumica. Aumenta, dessa forma, a sua durabilidade
qumica e a resistncia ao desgaste mecnico de abraso, sem alterar
as suas caractersticas tcnicas e artsticas. Em um padro para relevo
in-glaze pretende-se manter todas estas propriedades qumicas e
mecnicas e, alm da criao de um efeito estereoscpico, obter uma
estrutura tridimensional sobre o vidrado.
1.1. Processo de impresso serigrfica
O uso de tcnicas serigrficas no processo de criao e
desenvolvimento de decoraes para porcelana um processo de
impresso que permite quantificar o volume de material impresso.
Cermica Industrial, 14 (2) Maro/Abril, 2009
2. Procedimento Experimental
2.1. Caracterizao dos materiais
Foram preparados quadros serigrficos com diferentes telas e
utilizados dois tipos de emulso, cujas caractersticas e parmetros
controlados esto representados respectivamente nas Tabelas 1 e 2.
A aplicao de emulso foi feita em mquina automtica com
secagem incorporada; a emulso foi aplicada na face exterior da
tela, de acordo com o seguinte ciclo: uma camada emulso; quatro
ciclos de secagem; duas camadas de emulso; seis ciclos de secagem
(Tabela3).
Aps a aplicao da primeira camada de emulso, a tela foi
sujeita a um processo completo de secagem, permitindo se obter o
efeito de parede, ou seja, a criao de uma superfcie consistente do
ponto de vista fsico e mecnico, facilitando as aplicaes seguintes
e permitindo incrementar a taxa de espessamento da camada de
emulso, fundamental para realar o relevo. O ciclo de aplicao
foi repetido vrias vezes at se alcanar a espessura de emulso
pretendida e garantir uma definio adequada, assegurada pelo recorte
da emulso na tela.
O clculo do tempo de exposio fonte de luz foi obtido
experimentalmente a partir da visualizao da qualidade do recorte da
estrutura da emulso e a respectiva definio da imagem pretendida,
por comparao do resultado obtido em diferentes tempos. A fonte de
luz utilizada, de halognio e com 5 kW de potncia, estava colocada
a 1,2 m de distncia da tela; a revelao da tela foi processada
automaticamente com jatos de gua de 10 bar de presso.
A imagem que se pretendia reproduzir foi obtida por tratamento
computadorizado e transformada em fotolito. Este tipo de imagens
deve ser composta unicamente por manchas slidas e deve possuir
contornos bem definidos. Para dar volume ao relevo, sem perder
definio da imagem original, utilizou-se a tcnica de impresso
em multicamada diferenciada, como se exemplifica na Figura 1.
Partindo do original, processou-se uma primeira imagem com a
mesma dimenso ou equivalente; fez-se uma nova imagem, a partir
de uma ligeira reduo relativamente primeira, de modo a que a
segunda fica-se completamente detida pela mancha da primeira e
assim sucessivamente.
Tela
43-90-PW
55-80-PW
77-55-PW
Tenso aplicada
(N.cm1)
30
28
24
Espessura de malha
aps tenso (m)
136
103
75
Espessura terica
da malha (m)
162
124
90
Volume terico
(cm.m2)
57
41
25
3. Resultados
3.1. Preparao e tratamento de imagem
Designao
da emulso
Teor de
slidos (%)
Viscosidade
(MPa.s)
Cor
E1
E2
34
67
4000
7000
Azul
Violeta
Emulso
E1
E2
36
Nmero de
camadas
12
6
Presso de
aplicao (Pa)
Nmero de ciclos
de aplicao
Velocidade de
aplicao (m.s1)
Temperatura de
secagem (C)
262,5
262,5
4
2
0,08
0,04
250
250
Designao
Descrio
Temperatura de
queima (C)
Coeficiente de dilatao
107 (C1)
A
B
A+B
Pigmento cermico
Pigmento cermico
Mistura (50% A + 50% B)
Branca
Incolor
Branca
1180-1250
1180-1300
1180-1250
71
40
50,7
Classificao
Grau 0
Grau de ataque
Nenhum
Grau 1
Ligeiro
Grau 2
Grau 3
Moderado
Severo
Descrio
Sem alteraes na superfcie da pea ou ligeiro risco eliminado por ao da lavagem com gua e
passagem de um pano
Risco com ligeira colorao e remoo possvel com a aplicao de um limpador de metais e lavagem
com gua
Risco com colorao de difcil remoo
Risco acentuado com colorao permanente
Designao
A
B
SiO2
B2O3
25-30
45-55
15-20
30-35
K2O
Al2O3
20-25
-
0-5
7-12
CaO
BaO
10-15
5-10
4-7
SnO2
20-25
-
Emulso/tela
Nmero de ciclos
Espessura da tela
E1: 43-90-PW
E2: 43-90-PW
E1: 55-80-PW
E2: 55-80-PW
E1: 77-55-PW
4
2
4
2
4
136
136
103
103
75
Espessura da
tela + emulso
204
270
156
203
145
Espessura da emulso
68
137
53
100
70
Tabela8. Espessura (m) da camada impressa aps secagem, em funo da tela e da emulso usadas e aps sucessivas aplicaes (AM1, AM2 e AM3).
Emulso
E1
E2
Tela 43-90-PW
70
135 (AM1)
Tela 55-80-PW
55
101 (AM2)
Tela 77-55-PW
50
-
Total
148
212 (AM3)
37
Detergncia
Amostra
AM1
AM2
AM3
2 horas
0
0
0
4 horas
0
0
0
6 horas
0
0
0
6x
0
0
0
Padro
12 x
1
0
0
6x
2
2
2
6 horas
12 x
2
2
3
Tabela 10. Composio qumica aproximada das fritas usadas no recobrimento da superfcie dos relevos, segundo indicaes dos fornecedores (Ferro
Enamel).
Frita
TS1
TS2
TS3
38
SiO2
56-59
56-59
70-74
Al2O3
12-16
7-10
10-13
B2O3
5-6
8-10
-
K2O/Na2O
5-6
8-10
2,6-3,8
CaO/MgO
ZnO
10-13
5-8
11-14
2-3
4-5
-
ZrO2
4-7
-
Fe2O3
0,2
TiO2
0,15
Figura5. Microestrutura (MEV) da frita TS2 dopada com 10% de mulita, aps impresso sobre o relevo e queima a 1180-1250 C durante 2 horas. direita
mostra-se o espectro de EDS.
Figura6. Microestrutura (MEV) da frita TS1 dopada com 10% de Al203, aps impresso sobre o relevo e queima a 1180-1250 C durante 2 horas. direita
mostra-se o espectro de EDS.
Figura7. Microestrutura (MEV) da frita TS3 dopada com 10% de SiZrO4, aps impresso sobre o relevo e quima a 1180-1250 C durante 2 horas. direita
mostra-se o espectro de EDS.
Cermica Industrial, 14 (2) Maro/Abril, 2009
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Figura8. Representao 3D de AFM da topografia das camadas de relevo com aplicao de FS1, FS2 e FS3, aps queima a 1180-1250 C durante 2 horas,
com valores de rugosidade RMS de 32,5, 31,7 e 331,9 nm, respectivamente.
4. Concluses
As alteraes feitas forma tradicional de produo de decalques,
nomeadamente no fabrico de telas, permitiu obter decoraes em
padro de relevo com espessuras superiores a 200 m, com elevada
definio e qualidade e recorrendo a um nmero mximo de trs
impresses.
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Referncias
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Cermica Industrial, 14 (2) Maro/Abril, 2009