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Processo Duplex
Aps anos de pesquisa, verificou-se que para certas aplicaes, a utilizao de apenas uma tcnica no bastava para obter resultados satisfatrios. Foi ento considerada a hiptese da realizao de sucessivos tratamentos, como nitretao a plasma e deposio e filmes finos, a fim de alcanar um resultado aceitvel. Esta tcnica foi denominada processo Duplex.
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substrato
nitretao - alta dureza; - camada de difuso; - suporte ao revestimento; - tenses residuais compreensivas;
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Material compsito com combinao funcional de superfcie dura, camada de difuso endurecida e ncleo tenaz.
Processo Duplex
Filme fino Camada negra (opcional)
Zona de difuso
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Casos em que o uso somente de um filme fino no suficiente e o sistema duplex utilizado: - A carga exercida sobre o material excede o limite da deformao plstica do ao que est sendo utilizado na aplicao; - Abraso com partculas onde o tamanho de gro excede algumas micras; - Fadiga onde a dureza do ncleo no suficiente para suportar o esforo; - Corroso em meios agressivos.
carga
carga
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Esquema mostrando o efeito da aplicao da carga de uma esfera sobre um filme fino duro depositado em um substrato macio (efeito casca de ovo).
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Super-redes
B A B A B A B A
multicamada
Camada de adeso
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Substrato
Esquema de um revestimento otimizado que incorpora: camada de adeso, camada intermediria e camada de trabalho.
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Super-redes
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Micrografia transversal realizada por TEM de uma multicamada TiN/(TiAl)N sobre ao inoxidvel.
Super-redes
60 56,6
50
Dureza (GPa)
40
36,6
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10 4,3 0
Substrato TiN AlN A E A/E3
Amostra
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Lubrificantes slidos
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TiN coating
Substate
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