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_________________________________________________
Prof. PhD Csar Vitrio Franco Orientador
_________________________________________________
Prof. Dr. Alexandre Lago Coordenador do Programa
BANCA EXAMINADORA
_________________________________________________
Prof. Ana Maria Maliska, Dr. EMC/UFSC
_________________________________________________
Prof. Carlos Augusto Silva de Oliveira, Dr. EMC/UFSC
_________________________________________________
Prof. Ivan Gonsalves de Souza, Dr. QMC/UFSC
xi
Meg e Sanso
( in memoriam )
xii
AGRADECIMENTOS
Ao meu orientador Prof. Csar Vitrio Franco pela maravilhosa orientao e pela
brilhante capacidade de vislumbrar inovaes cientficas e tecnolgicas.
Prof. Ingeborg Khn pela carinhosa acolhida quando do meu ingresso no
PGMAT.
A todos os professores do PGMAT, em especial aos professores Pedro, Carlos
Augusto, Buschinelli e Ana Maria, pelos conhecimentos transmitidos.
Ao sempre prestativo e atencioso Adcio Gamb, Coordenador do Laboratrio
Qumico Txtil do SENAI, unidade de Brusque, pelas inmeras sugestes e solues
qumicas preparadas, imprescindveis ao longo de toda a etapa experimental.
Ao Prof. Pedro A. P. Nascente pela simpatia e agilidade com que prontamente
realizou as medidas de espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios-X na
Universidade Federal de So Carlos.
Misleine e Analice, do Laboratrio de Caracterizao de Materiais, do
Departamento de Engenharia Mecnica da UFSC, pela pacincia com que sempre me
atenderam.
Aos meus amigos e companheiros de batalhas do Laboratrio de Eletroqumica e
Corroso do Departamento de Qumica da UFSC: Rodrigo e Melissa, pelo incentivo
recebido.
Ao Luciano Pinotti, do SENAI, unidade de Brusque, que em muito me auxiliou
na elaborao dos corpos de prova para microscopia.
Ao SENAI, unidade de Brusque e Embreex Indstria e Comrcio Ltda, pela
compreenso e flexibilidade de horrio, sem a qual no seria possvel a execuo desse
mestrado.
A todas as empresas que de uma forma ou de outra apoiaram a execuo desse
trabalho: BSC Produtos Qumicos, Bond Carneiro, Icatiba-Henkel, Paninox Aos
Inoxidveis e Metalrgica Hargoinox.
Ao Valmir e Eduardo, colegas de trabalho na Embreex, pela confeco dos
corpos de prova usados ao longo de todo o trabalho experimental.
Aos meus pais Stefano e Eneida, e a minha namorada Graciele, pelo
fundamental apoio e incentivo recebido.
xiii
s minhas irms Ana Paola e Maria Fernanda, que l de Londres vibram com
minhas conquistas.
Um especial agradecimento a todos os pesquisadores, especialmente aos
apaixonados pelos aos inoxidveis como eu, que graas a suas incontveis pesquisas,
desenvolvimentos e sofrimentos, possibilitaram que a humanidade desfrutasse dos
benefcios proporcionados pelos aos inoxidveis.
E a todos os bichinhos l de casa: Dora, Bia, Princesa, Pel, Chat, Flor, Tigresa
e Igor (sete gatos e um cachorro), pelo tempo roubado do nosso convvio, indispensvel
para concluir este trabalho.
xiv
SUMRIO
xv
LISTA DE FIGURAS
xvi
LISTA DE TABELAS
Tabela 2.1 Composio qumica normalizada do ao inoxidvel austentico 316L [33]
5
Tabela 2.2 Espessura deformada no ao inoxidvel 304 por diferentes mtodos de
tratamento de superfcie [36]
7
Tabela 2.3 Modelos de microestrutura de Streicher para classificao da sensibilizao
[3]
16
Tabela 3.1 Descrio dos grupos de controle utilizados na investigao de
desensitizao
31
Tabela 4.1 Valores de rugosidade Ra para os corpos de prova eletropolidos (EP), no
eletropolidos (NEP) e lixados (LIX)
38
Tabela 4.2 - Valor das energias de ligao (em eV) dos componentes dos principais
picos fotoeltricos. As percentagens em parnteses referem-se s quantidades
relativas de cada componente de um determinado pico
44
Tabela 4.3 -. Composies (% atmica).
44
Tabela 4.4 - Razes Cr/Fe
45
Tabela 4.5 Densidade de corrente de corroso, icorr, obtidos via
49
Tabela 4.6 - Grau de sensitizao e de desensitizao por grupo de controle
66
xvii
LISTA DE SMBOLOS
- massa especfica do material [g/cm3]
2B classificao de acabamento superficial de ao inoxidvel. Identifica a chapa
laminada frio.
a - peso atmico [g]
AES - espectroscopia de eltrons Auger (Auger Electron Spectroscopy)
ai - peso atmico de elemento i
DOS grau de sensitizao (Degree Of Sensitization)
EOCP potencial de circuito aberto (open circuit potencial)
EP referente a eletropolido
EPP - potencial no pico de densidade de corrente
EPR tcnica eletroqumica de reativao potenciodinmica (electrochemical
potentiokinetic reactivation)
ESCA - espectroscopia de fotoeltrons (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)
fi - frao mol por litro do elemento i na liga
GBA - rea de contorno de gro (Grain Boundary rea) [cm2]
H2C2O4.2H2O - cido oxlico
H2SO4 - cido sulfrico
I - corrente eltrica [A]
i - densidade de corrente eltrica [A/cm2]
IA corrente de ativao [A]
icorr - corrente de corroso [A]
icrit - densidade de corrente no pico de densidade de corrente [A/cm2]
IR - corrente de reativao [A]
IR/IA - razo que quantifica o grau de sensitizao
KSCN tiocianeto de potssio
LIX referente a lixado
LSM - fuso superficial por laser (Laser Surface Melting)
m - massa que sofre a reao qumica [g]
M23C6 ou (Cr, Fe)23C6, - carbetos de cromo
MEV microscopia eletrnica de varredura
n - nmero de oxidao
xviii
xix
RESUMO
A presente dissertao de mestrado pretende estabelecer uma nova forma de
caracterizao do ao inoxidvel AISI 316L eletropolido, atravs da aplicao da tcnica
eletroqumica
de
reativao
potenciodinmica.
proposta
uma
abordagem
xx
ABSTRACT
The Double Loop Electrochemistry Potentiokinetic Reactivation (DL-EPR)
technique is here evaluated as a method for the characterization of electropolished 316L
stainless steel, providing information on both, the chromium oxide layer improvement
and roughness reduction of electropolished surfaces. The chromium oxide layer,
naturally present in the passivating austenitic stainless steels, is substantially improved
by electropolishing. The method has the advantage of supplying information on surface
texture allowing subtle differences to be distinguished between electropolished
specimens and those not submitted to this surface treatment. In this sense, the DL-EPR
shows the activation density current peak reduction, about 20 times smaller, due the
leveling effect resulting from the roughness reduction and the lowering of passivation
current caused by chromium oxide layer improvement. A reduction of 50% in the
measured value of roughness causes a decrease of up to 4 orders of magnitude in the
value for activation density current, when one compares samples with and without
electropolishing. A straight correlation between the roughness parameter and the peak of
current density activation and the reduction of passivating current are the most relevant
characteristics of this technique to evaluate the electropolished surfaces. The application
of this technique on the quality control of mechanical parts in the electropolishing
industries is suggested. It was also investigate a possible desensitization effect of the
electropolishing and the oxalic attack. It was seen that those surface treatment can
reduce the surface sensitization of the specimens. It shows that those treatments could
be used as part of a process of surface desensitization of the sensitized stainless steel.
1 INTRODUO
Com a tcnica de reativao potenciodinmica, costumeiramente abreviada na
lngua inglesa pela sigla EPR, electrochemical potentiokinetic reactivation, possvel
verificar, rapidamente, de forma no destrutiva, o grau de sensitizao corroso
intergranular dos aos inoxidveis. uma tcnica que pode ser facilmente aplicada em
campo, aos equipamentos que j estiverem em servio.
To promissor o EPR que mesmo sendo uma tcnica recente, trs importantes
organismos de normalizao j criaram suas normas tcnicas sobre o assunto: ASTM
(American Society for Testing Materials), JIS (Japanese Industrial Standards) e ISO
(International Organization for Standardization) [1 a 3].
Esta dissertao de mestrado se props a investigar a possibilidade da tcnica
EPR ser usada na verificao da qualidade de componentes eletropolidos.
O eletropolimento, tcnica antiga e amplamente difundida nos pases
desenvolvidos [4 a 10], uma forma superior de polir metais atravs da remoo
eletroltica dos picos de rugosidade do material. O eletropolimento consiste na imerso
do material numa soluo eletroltica apropriada seguida da passagem de corrente
eltrica. Este procedimento leva a um efeito fsico de remoo seletiva dos picos de
rugosidade o que reduz a rugosidade do material. Alm disso, o eletropolimento
tambm produz no ao um efeito qumico: ons ferro e outros contaminantes so
removidos de forma seletiva da superfcie do ao o que aperfeioa a camada de xido de
cromo, deixando-a mais uniforme e mais espessa.
Desta forma, pode-se afirmar que um mtodo apropriado para quantificar um
processo de eletropolimento precisaria, a priori, fornecer informaes sobre os dois
fenmenos que ocorrem na superfcie do ao: efeito fsico de reduo de rugosidade e
efeito qumico de aprimoramento da camada de xido de cromo.
A avaliao do efeito fsico de reduo de rugosidade algo corriqueiro visto
que pode ser facilmente avaliado com medidores de rugosidade convencionais.
J o efeito qumico possui algumas sutilezas que dificultam a mensurao deste
atributo:
a espessura da camada de xido de cromo da ordem de nanometros;
2 REVISO BIBLIOGRFICA
2.1 O AO INOXIDVEL 316L
Os aos inoxidveis so ligas ferrosas que contm cromo, comumente nquel e
em vrios casos outros elementos de liga. O cromo o principal elemento responsvel
pela resistncia a corroso desses aos. Isso se deve a capacidade do cromo de, em
contato com o ar ou com outro meio oxidante, formar rapidamente uma fina camada de
xido de cromo sobre esses aos.
Esta camada de xido de cromo se torna uma barreira invisvel, contnua,
aderente, impermevel e praticamente insolvel em numerosos ambientes.
Nestas condies o ao classificado como passivo pois o metal sob a camada
de xido de cromo est protegido contra o ataque de diversos meios corrosivos,
notadamente os classificados como oxidantes.
Este benefcio do cromo j se mostra aparente mesmo quando uma pequena
quantidade deste elemento estiver presente na liga. Aos com apenas 5% de cromo so
muito mais resistentes a corroso do que os aos comuns.
Contudo, o termo ao inoxidvel reservado apenas para ligas Fe-Cr ou Fe-CrNi contendo mais de 10-12% de cromo. Isto corresponde ao mnimo necessrio para
garantir uma satisfatria resistncia a corroso atmosfrica [12].
Alm do cromo o nquel tambm desempenha papel fundamental para os aos
inoxidveis. Este elemento, alm de melhorar a resistncia a corroso do ao em alguns
meios, tende a alterar a estrutura cristalina do material, que passa a ser austentica
(cbica de face centrada) para teores adequados de nquel. Esta mudana na rede
cristalina tem influncia marcante nas propriedades do ao.
A microestrutura final do ao inoxidvel depender basicamente do balano da
capacidade dos diversos elementos de liga presentes, em estabilizar a austenita ou a
ferrita na microestrutura do ao. Com base nesta microestrutura o ao inoxidvel ser
classificado em: ferrtico, austentico, martenstico ou duplex.
no grupo dos aos inoxidveis austenticos Junto com o ao inoxidvel 304,
forma a dupla de maior consumo, sendo empregado em um nmero muito grande de
aplicaes. O ao inoxidvel 316L se destaca pelo seu menor teor de carbono que
minimiza a ocorrncia da corroso intergranular causada pela precipitao de carbetos
de cromo nos contornos de gro e tambm pela adio de molibdnio que lhe assegura
uma maior resistncia a corroso, principalmente corroso localizada (pites) [13].
Os aos inoxidveis austenticos so ligas Fe-Cr-Ni que apresentam estrutura
predominantemente austentica. No so endurecveis por tratamento trmico. Tm
como caractersticas um baixo limite de escoamento, elevada ductilidade e tima
soldabilidade.
No ao inoxidvel austentico 316L, a composio qumica padro segundo a
norma ABNT NM133:97 a seguinte:
Tabela 2.1 Composio qumica normalizada do ao inoxidvel austentico 316L
[14]
Elemento
Carbono (mximo)
Mangans (mximo)
Silcio (mximo)
Fsforo (mximo)
Enxofre (mximo)
Cromo
Nquel
Molibdnio
Nitrognio
Ferro
Composio [ % ]
0,03
2,00
1,00
0,045
0,030
16,00 a 18,00
10,00 a 14,00
2,00 a 3,00
0,10
Restante
2.2 ELETROPOLIMENTO
2.2.1 HISTRICO
A primeira referncia histrica ao eletropolimento data de 1912 quando o
governo do Imprio Alemo concedeu uma patente para o polimento de prata utilizando
uma soluo de cianetos [15].
Mais tentativas de desenvolver o mtodo foram feitas, contudo o prximo
avano significativo s aconteceu em 1935 quando o cobre foi eletropolido com
sucesso. A descoberta foi seguida de vrios desenvolvimentos entre 1936 e 1937 quando
Dr. Charles Faust e outros pesquisadores descobriram solues para eletropolir o ao
inoxidvel e vrios outros metais.
Durante a Segunda Guerra Mundial, extensa pesquisa e desenvolvimento de
processos resultaram num substancial nmero de novas frmulas e aplicaes. Dados
sobre estas pesquisas foram publicados aps o final da guerra em centenas de artigos
que descreviam as aplicaes do eletropolimento e sua teoria bsica. Dzias de novas
patentes foram registradas entre 1940 e 1955. Importantes tecnologias foram
desenvolvidas para aplicao militar durante a Segunda Guerra Mundial e a Guerra da
Coria.
Hoje o eletropolimento definiu seu papel como uma alternativa de acabamento
superficial que no s resulta numa superfcie menos rugosa mas tambm com vrias
outras finalidades:
melhorar a aparncia e a refletividade;
melhorar a resistncia corroso;
preparar metais para anodizao e eletrodeposio;
remover rebarbas de operaes de corte ou cisalhamento;
remover a camada de material deformado causado por operaes de corte,
cisalhamento e polimento abrasivo;
inspeo de defeitos superficiais em materiais fundidos, forjados ou laminados;
microusinagem;
melhorar a superfcie para aplicaes em tecnologia do vcuo, ambientes limpos (
clean-rooms) e esterilizao [16];
remoo da contaminao superficial por material radioativo.
Espessura Deformada
[m]
45
35
15
15
6
3
2
No Deforma
V-se que pelos dados informados na tabela 2.2, que o eletropolimento o nico
processo de tratamento de superfcie que no introduz deformao no ao inoxidvel.
Uma caracterstica do eletropolimento, quando aplicado aos aos inoxidveis,
provocar o aumento do teor residual de cromo atravs da remoo seletiva de ons ferro
e outros contaminantes da superfcie do metal. Removendo-se os ons ferro, a superfcie
do metal continua com a mesma quantidade de cromo. Contudo, como o ferro foi
removido, a camada de xido de cromo se torna mais homognea e mais espessa.
Assim, tem-se um aumento da resistncia corroso do ao eletropolido devido a uma
camada de xido de cromo mais espessa, mais uniforme e com um maior teor de cromo,
quando comparada camada de xido de cromo naturalmente presente nos aos
inoxidveis.
2.2.2 MECANISMOS DE ELETROPOLIMENTO
De acordo com a teoria desenvolvida por P. A. Jacquet em 1936 [4], a reduo
de rugosidade obtida atravs da dissoluo preferencial dos picos de rugosidade na
superfcie do metal. Quando um metal rugoso feito como nodo numa adequada clula
eletroltica, imediatamente produzida pela reao metal/eletrlito, um filme viscoso na
superfcie do metal.
Esta camada viscosa possui uma resistncia eltrica muito maior do que todo o
restante do banho de eletrlito, controlando ento, a ao de eletropolimento.
Como a resistncia eltrica proporcional a espessura do filme viscoso, a
resistncia sobre os picos de rugosidade, representada na figura 2.1 por A, ser menor
do que a resistncia eltrica sobre os vales, representada por B.
Assim, a corrente eltrica sobre os picos de rugosidade ser muito maior do que
sobre os vales, acarretando ento, que os picos de rugosidade sero dissolvidos numa
velocidade maior do que os vales, produzindo a reduo da rugosidade da superfcie do
corpo de prova, figura 2.2.
10
11
12
Contudo, v-se que todos os cinco testes recomendados pela norma ASTM B912
apenas fornecem uma informao qualitativa sobre o eletropolimento de uma dada pea
de ao inoxidvel.
Para determinar parmetros quantitativos sobre o eletropolimento, alguns autores
[6 e 15] tem analisado a composio qumica da superfcie do ao antes e aps o
eletropolimento. Assume-se que a razo entre os teores de cromo e de ferro (% cromo
dividida pela % ferro) seja um parmetro quantitativo do grau de eletropolimento de um
dado ao. Tem sido relatado na literatura [6] e tambm foi observado neste trabalho
(vide seo 4.1.4), que o eletropolimento pode provocar incrementos na razo Cr/Fe da
ordem de trs vezes.
A composio qumica da regio do ao inoxidvel modificado pelo
eletropolimento determinada atravs de mtodos de anlise de superfcie por
espectroscopia de eltrons. A razo Cr/Fe usualmente determinada atravs da
espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios-X (XPS), enquanto que perfis dos
teores de cromo e ferro, em funo da distncia at a superfcie do ao, so obtidos
atravs de espectroscopia de eltrons Auger (AES). Vide seo 2.4
13
um elemento qumico quando colocado numa soluo 1 Mol por litro de seus ons, sob
condies controladas de temperatura e presso.
Evidentemente, a medio de um potencial no pode se realizar sem um valor de
referncia ou de um potencial padro. Lembrando que o potencial medido com um
voltmetro onde um fio estar no metal em anlise, necessrio um segundo eletrodo
para servir de referncia e fechar o circuito eltrico.
O eletrodo de hidrognio a referncia oficial para medidas de potencial. O
valor de potencial padro para o eletrodo de hidrognio zero volts. Maiores detalhes
sobre o eletrodo padro de hidrognio podem ser obtidos na literatura [18]. Alm do
eletrodo de hidrognio, existem outros eletrodos de referncia como, por exemplo:
calomelano, prata-cloreto de prata e cobre-sulfato de cobre.
2.3.2 POLARIZAO
O potencial de eletrodo o produto da reao natural entre o metal e a soluo.
Este potencial pode ser medido com o uso de um voltmetro e de um eletrodo de
referncia.
O potencial tambm pode ser imposto ao sistema metal soluo atravs de uma
fonte eltrica externa. Quando uma fonte despende energia eltrica para alterar o estado
do eletrodo, do repouso (potencial de circuito aberto) para outro potencial isso provoca a
estimulao das reaes de oxidao ou de reduo.
Visto dessa forma o potencial (tenso eltrica) externo ao eletrodo (sistema
metal soluo) pode ser visto como uma fora motriz que se superpe ao balano de
eltrons que existe naturalmente no potencial de circuito aberto.
O eletrodo que est num potencial diferente do potencial de circuito aberto dito
estar polarizado.
A medida que uma reao de oxidao ou de reduo, predominar na superfcie
de um metal, o fluxo de eltrons dar origem a uma corrente eltrica. A corrente pode
ser relacionada com a taxa de reao eletroqumica visto que a corrente uma medida
do fluxo de eltrons.
Da forma como se polariza um eletrodo (sistema metal soluo) pode-se obter
vrias respostas quanto as suas caractersticas frente ao fenmeno da corroso.
14
empregada
tcnica
de
polarizao
denominada
reativao
15
Q
GBA
(1)
.
16
17
IR/IA
0,000 a 0,001
0,002 a 0,070
> 0,071
18
Fig. 2. 6 - Para uma mesma liga, eletrlitos diferentes produzem curvas diferentes
[22]. SA representa a liga solubilizada e SA+SEN representa a liga solubilizada e
sensitizada
O KSCN adicionado aos eletrlitos dos testes EPR com a funo de ser um
agente depassivante [24 e 25]. O efeito depassivante do KSCN uma funo de sua
concentrao e das propriedades do filme passivo.
Com maiores concentraes de KSCN a contribuio da corrente de reativao
oriunda da matriz torna-se dominante, mascarando a corrente de reativao proveniente
dos contornos de gros sensitizados.
Uma vantagem adicional dos testes EPR nas suas verses lao simples e lao
duplo a possibilidade de serem aplicados ao estudo de vrios fenmenos distintos
desde que os parmetros operacionais do ensaio sejam adequadamente ajustados. Wu
[24 a 26] mostrou que para a liga 600, o teste EPR lao simples mostra dois picos de
reativao: um correspondendo a depassivao na superfcie do gro e outro pico
correspondendo a corroso no contorno de gro. Ajustando adequadamente os
parmetros operacionais do ensaio possvel analisar: corroso na matriz, corroso no
contorno de gro e precipitao.
19
20
21
I.t.a
(2)
n.F
onde:
m a massa que sofre a reao qumica [g]
I a corrente eltrica [A]
t o tempo que corrente circula pelo eletrodo [s]
n nmero de oxidao
a peso atmico [g]
Dividindo a equao (2) por t e pela rea da superfcie A, obtm-se a taxa de
corroso, r, expressa em unidades de massa por unidade de tempo [g / s]:
r
m
t.A
i.a
(3)
n.F .
22
Tcorr
3,268 x 103 . i . a
.n
(4)
.
onde:
Tcorr a taxa de penetrao da corroso no material [mm / ano]
i a densidade de corrente eltrica [A / cm2]
a massa especfica do material [g / cm3]
a o peso atmico do material [g]
n o nmero de oxidao
3,268 x 103 uma fator de converso de cm/s para mm/ano e j inclui a
constante de Faraday
Quando houver mais de um elemento qumico presente no material deve-se
substituir os parmetros a / n pelo peso equivalente Peq:
Peq
(5)
fi . ( ni / ai )
onde:
fi a frao mol por litro do elemento i na liga
ni o nmero de oxidao do elemento i
ai o peso atmico de elemento i
2.3.5 POLARIZAO POTENCIODINMICA
Curvas de polarizao potenciodinmicas podem ser usadas para se avaliar a
resistncia a corroso de ligas e tambm para se determinar a corrosividade de meios
especficos.
Curvas de polarizao so obtidas atravs de uma varredura de potencial,
comeando normalmente no potencial de circuito aberto EOCP, e seguindo na direo
positiva do potencial. A taxa de varredura usual varia entre 0,1 a 5 mV/s. Os dados mais
precisos so gerados com taxas de varredura mais baixos.
23
24
25
26
transies de Auger. Como os trs nveis de energia esto bem definidos, AES permite a
determinao da composio da superfcie de uma amostra.
O perfilamento em profundidade uma das mais importantes aplicaes de AES,
principalmente em filmes finos supercondutores. Medies das intensidades dos
eltrons Auger so feitas concomitantemente ao bombardeamento inico (normalmente
so empregados ons de argnio). Conhecendo-se a taxa de bombardeamento e a
sensibilidade dos elementos, obtm-se as concentraes em funo da profundidade.
27
28
29
Introduo
30
3 MATERIAIS E MTODOS
3.1 MATERIAIS
Para todas as anlises foram utilizados corpos de prova confeccionados a partir
de uma mesma chapa de ao inoxidvel 316L laminado frio, com um milmetro de
espessura e grau de acabamento superficial 2B (laminado frio, aps solubilizao e
decapagem, com rolos laminadores polidos).
Para o corpo de prova foram adotadas as dimenses de 50 x 50 mm para o
eletropolimento, para os testes eletroqumicos e para as medidas de rugosidade.
Para as anlises com microscopia eletrnica de varredura, microscopia tica e
espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios X, o corpo de prova padro era
seccionado nas dimenses compatveis com cada equipamento.
Para preparar os corpos de prova de controle na condio sensitizada foi
realizado um tratamento de sensitizao em um forno eltrico Jung (SENAI, unidade de
Brusque). O tratamento consistiu em submeter corpos de prova a 650C por 10 horas,
seguido de resfriamento no forno.
Para provocar a reduo de rugosidade nos corpos de prova de controle lixados,
foi utilizado lixamento manual com lixas com granulometria 320, 400, 600, 800, 1000,
1200, 1500, 2000 e 2500. A reduo de rugosidade obtida foi verificada com o
rugosmetro Mitutoyo SJ-201 do Laboratrio de Metrologia do SENAI, unidade de
Brusque.
Para investigar a potencialidade de tcnicas de remoo eletroltica de materiais
utilizados com o tratamentos desensitizantes, diversos corpos de prova sensitizados
foram preparados, gerando os seguintes grupos de controle:
31
Introduo
32
Introduo
Introduo
33
Introduo
34
35
Introduo
Aps a colagem os tubos eram lacrados com filme de polietileno para evitar a
contaminao da superfcie de interesse durante o tempo de cura da borracha de
silicone. Aps a cura os corpos de prova foram conduzidos ao Laboratrio de
Eletroqumica e Corroso do Departamento de Qumica da UFSC. Para os ensaios
eletroqumicos foi empregado como eletrodo de referncia o de calomenano (SCE), um
contraeletrodo de platina e potenciostato/galvanostato EG&G Princeton Applied
Research modelo 273A. Como eletrlito, foi empregado uma soluo de 0,5 mol/l
H2SO4 + 0,01 mol/l KSCN em gua destilada. A soluo de teste foi aquecida a 31 1
C utilizando-se uma chapa aquecedora, imediatamente antes de ser colocada na clula
eletroltica. Aps a aquisio dos dados, utilizou-se o software Origin 7 para gerao
dos grficos.
Introduo
36
37
Reviso Bibliogrfica
4 RESULTADOS E DISCUSSES
(a)
(b)
38
Reviso Bibliogrfica
Rugosidade
EP
NEP
LIX
Ra [m]
0,03 0,01
0,09 0,01
0,02 0,01
39
Reviso Bibliogrfica
4.1.3 ANLISE MICROSCPICA
(a)
(b)
(a)
(b)
40
Reviso Bibliogrfica
(a)
(b)
(a)
(b)
As
micrografias
acima
tornam
visvel
alterao
provocada
pelo
Reviso Bibliogrfica
41
42
Reviso Bibliogrfica
43
Reviso Bibliogrfica
44
Reviso Bibliogrfica
Cr 2p3/2
573,7 (13 %)
286,6 (14 %)
531,4 (44 %)
708,4 (27 %)
576,3 (87 %)
Bombardeamento
288,9 (17 %)
284,8 (74 %)
532,8 (6 %)
529,9 (71 %)
710,6 (40 %)
706,6 (26 %)
573,4 (10 %)
inico
287,6 (26 %)
531,3 (23 %)
708,3 (31 %)
576,1 (90 %)
283,1 (5 %)
532,5 (6 %)
529,7 (42 %)
710,1 (43 %)
706,5 (24 %)
573,8 (12 %)
284,8 (73 %)
531,2 (43 %)
708,5 (21 %)
576,1 (88 %)
286,4 (12 %)
532,7 (15 %)
710,4 (55 %)
288,6 (10 %)
284,8
529,8 (62 %)
706,5 (16 %)
573,7 (20 %)
531,5 (34 %)
708,2 (30 %)
576,2 (80 %)
533,4 (4 %)
710,1 (54 %)
Amostra
EP
Como recebida
Bombardeamento
inico
Amostra
EP
Como recebida
Bombardeamento inico
NEP Como recebida
Bombardeamento inico
C
32,22
9,96
54,76
44,15
Concentrao (% atmica)
O
Fe
47,24
7,33
57,51
14,13
36,36
6,02
36,33
12,24
Cr
13,19
18,39
2,85
7,26
45
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Tabela 4.4 - Razes Cr/Fe
Amostra
EP
NEP
Como recebida
Bombardeamento inico
Como recebida
Bombardeamento inico
Razo Cr/Fe
[% massa]
1,69
1,22
0,43
0,55
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46
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48
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4.2.2 - GRFICO DE TAFEL
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52
sensitizado se mostra como que quase uma linha reta entre o ponto de incio do teste
(ponto superior da curva) e o potencial de circuito aberto (o ponto na extremidade
esquerda da curva). Isso mostra que o corpo de prova no sensitizado no apresenta
reativao, o que j era esperado para um corpo de prova nesta condio.
A agulha superior do grfico do corpo de prova sensitizado, fig. 4.12, deve-se ao
encontro da varredura descendente da tcnica lao simples com a curva de reativao do
corpo de prova. Esta afirmativa se torna mais clara quando se compara um grfico lao
duplo com o grfico lao simples. Vide a fig. 4.13.
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Tabela 4.6 - Grau de sensitizao e de desensitizao por grupo de controle
Grupo de Controle
Grau de
Reduo do Grau de
Sensitizados
Sensitizados e Eletropolidos
Sensitizado + Ataque Oxlico
Sensitizado + Duplo Tratamento
Sensitizao [ % ]
( 27,1 9,0 ) %
( 6,6 7,2 ) %
( 14 12 ) %
( 3,1 2,7 ) %
Sensitizao [%]
--75 %
48 %
88 %
67
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em
cromo,
essas
zonas
so
removidas
preferencialmente
pelo
Materiais e Mtodos
68
5 CONCLUSES
possvel analisar de forma quantitativa, via tcnica eletroqumica de reativao
potenciodinmica lao duplo, o grau de eletropolimento de uma dada amostra de ao
inoxidvel 316L.
A tcnica eletroqumica de reativao potenciodinmica lao duplo fornece respostas
individualizadas para os dois principais fenmenos relacionados ao eletropolimento dos
aos inoxidveis austenticos: o efeito fsico de reduo de rugosidade e o efeito
qumico de melhoria das propriedades da camada superficial de xido de cromo.
A reduo de rugosidade pode ser monitorada atravs da reduo do pico de corrente
andica no pico de ativao ascendente da tcnica eletroqumica de reativao
potenciodinmica lao duplo.
J o aprimoramento da camada de xido de cromo da superfcie do ao inoxidvel 316L
eletropolido pode ser mensurado atravs da reduo do valor da densidade de corrente
da regio passiva tambm na etapa ascendente.
O pico de reativao da tcnica eletroqumica de reativao potenciodinmica lao
duplo, no fornece informaes que possibilitem quantificar parmetros sobre o
eletropolimento de um ao inoxidvel 316L eletropolido.
Tratamentos de superfcie baseados em remoo eletroqumica podem promover
desensitizao parcial da superfcie de um ao 316L sensitizado.
O eletropolimento mostrou ser capaz de reduzir o grau de sensitizao do ao inoxidvel
316 L. Este fenmeno tambm foi verificado ao se executar um tratamento de superfcie
conforme o ataque oxlico da Prtica W da norma ASTM A763. Tambm foi
investigado o potencial desensitizante de um duplo tratamento de superfcie
combinando um ataque oxlico seguido de um eletropolimento. Dos trs tratamentos
investigados, foi o duplo tratamento combinando ataque oxlico e eletropolimento que
resultou na maior desensitizao do ao inoxidvel 316 L sensitizado.
Tal fato se atribui propriedade do ataque oxlico de remover os carbetos de cromo
deixando expostas as regies com menor teor de cromo. Estas regies empobrecidas em
cromo so preferencialmente removidas pelo eletropolimento. Sendo essas regies
removidas, restar outra regio com um maior teor de cromo. Ocorre ento uma
recuperao parcial das propriedades superficiais do ao. Uma medida desta
Materiais e Mtodos
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Resultados e Discusses
70
Concluses
7 REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
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