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Preparo das amostras – Foram utilizados Ticp II, com polimento final em
solução coloidal de sílica e peróxido de hidrogênio. O grupo de amostras não
nitretadas foi usada como controle e denominado de grupo Ticp II-1. Os dois outros
grupos usados no presente trabalho foram nitretados conforme a tabela I.
Resultados e Discussão
No DRX foi observado que o pico de Ti-alfa foi reduzido quando as amostras
foram nitretadas. Para essas mesmas amostras também se observa o surgimento
dos picos referentes ao TiN. Aliando esses dois fatos pode-se concluir que o TiN
está em forma de filme sobre a superfície do Ti-alfa. Por outro lado, também se
verifica que para amostras tratadas com maior concentração de H2 houve maior
intensidade do pico de TiN, indicando que o hidrogênio possui função importante no
mecanismo de nitretação.
A topografia da superfície é extensivamente associada à reposta celular in vitro e in
vivo. Entretanto, há divergência com respeito ao tipo de topografia preferida para a
adesão celular. No trabalho presente três topografias diferentes foram analisadas.
Os valores das medidas nas amostras estão na tabela III. A tensão superficial
das amostras demonstrou sensibilidade ao processo de nitretação em ambos os
fluxos quando comparados com o controle, sendo ys1 = 29,51, ys2 = 45,62 e ys3 =
50,61. As superfícies do Ticp II-2 tiveram o componente polar diminuído e o apolar
aumentado, 11,81 e 33,80, respectivamente, quando comparados com a superfície
de Ticp II-3, que obteve os valores médios de 35,39 para os componentes polares e
15,22 para os componentes apolares.
A influência da rugosidade na hidrofilia da superfície é extensamente
pesquisada e não há consenso quanto à interferência desse fenômeno nos ângulos
de molhabilidade, sendo que alguns autores sugerem, inclusive, uma adequação do
ângulo de Young pela inserção de um fator de correção referente a rugosidade com
base na termodinâmica dos ângulos de contato em superfícies ásperas e
heterogêneas. O que observamos nesse ensaio é que embora tenha ocorrido uma
mudança significativa entre o valores de Ra do Ticp II-1 e Ticp II-2 não houve uma
diferença significativa entre os ângulos de contatos da superfície com p = 0,94,
enquanto os valores de Ra entre Ticp II-2 e Ticp II-3 apresentaram p > 0,05, mas
apresentaram ângulos de contato com diferença significativa (p=0,03).
Em geral, os óxidos cristalinos têm maior resistividade iônica, e por esta razão
necessitam de campos elétricos mais altos do que óxidos amorfos. Então, a
probabilidade de excitação de elétrons na banda de valência, originada pela
sobreposição de orbitais O 2p no filme de TiO2 cristalino, conduz à oxidação de íons
O2- para formar moléculas de O2 e posterior desenvolvimento de bolhas.
A liga Ti-6Al-4V é uma das ligas de titânio mais utilizadas devido à menor
densidade do que o titânio puro, mas com propriedades mecânicas e físicas mais
favoráveis. Estas propriedades tornam esta liga interessantes em aplicações
aeronáuticas. Este material tem uma microestrutura de duas fases distintas: uma
fase alfa hexagonal com alumínio em solução sólida e uma fase beta com o vanádio
estabilizando o reticulo cúbico de corpo centrado. Esta estrutura bifásica contribui
para uma resistência mecânica mais elevada comparada com o titânio puro. Em
geral, as ligas próximas de alfa têm melhor resistência à fluência seguidas pelas
ligas alfa + beta, e por último as ligas da fase beta.
Uma redução de intensidade dos picos (100) e (101) da fase alfa na amostra
nitretada com 50% de N2 evidencia a formação da camada de nitretos com maior
espessura comparada com as outras amostras nitretadas. Além disso, uma maior
concentração do nitreto estequiométrico TiN foi observada em comparação a
intensidade relativa dos picos referentes às reflexões da fase Ti2N.
Foi reportado que uma mistura gasosa de plasma H2/A4 pode ser eficiente na
remoção de óxidos metálicos em um pré-tratamento, onde radicais de hidrogênio
pode ajudar a reduzir óxidos, enquanto que o argônio atua aumentando a eficiência
da taxa de ionização.
Segundo Zhu et al, é importante melhorar aspectos nanotopográficos,
químicos e físicos visando o aumento da molhabilidade e sítios de adesão celular.
Baseado nesta afirmação e em resultados conflitantes da literatura acerca da
correlação entre os aspectos físico-químicos da superfície com a molhabilidade,
adotamos uma sistemática de limpeza de superfície de titânio para analisar sua
influência sobre a molhabilidade. O presente trabalho tem por objetivo estudar a
influência da topografia na molhabilidade de superfícies tratadas por plasma em
atmosferas de Ar e H2 e diferentes tempos de tratamentos.
Materiais e métodos
Resultados e discussões
Para os demais pares, as diferenças na razão Rp/Rz não são tão grandes
como nas amostras tratadas com H2. Observa-se que as amostras tratadas com 60
mun em Ar possuem picos mais pontiagudos, enquanto as amostras tratadas com
mistura de Ar+H2 possuem picos mais arredondados.
The low wear (desgaste) performance of Ti and its alloys in abrasive and
adhesive wearing conditions has been na obstacle for its extensive use in surgical
procedures. A considerable amount of effort (esforço) has been made to overcome
this ostacle.
Experimental
We will fit our results to those reported for the hexagonal alfa-Ti (JCPDS file
#44-1288) and for the cubic beta-Ti (JCPDS file #44-1288). From this qualitatative
fitting, the as-received material was indexed, as shown in Table 1. The beta phase is
clearly characterized by the (110) and (200) reflections, with d = 0,2284 nm and d =
0,1614 nm, respectively.
3.2 Treatment effect on B-Ti-6Al-4V
It is known that the lattice parameters of the alfa phase increase linearly with
the nitrogen concentration when titanium is nitrided at temperatures higher than 1573
K. Our measurements show no significant line shift of the alpha fase for any sample.
Conversely (inversamente), the beta phase shows clear evidence of a line shift
(mudança de linha), suggesting lattice distortion after nitriding. It is well known that
this lattiece distortion correlates with the internal stress, but our measurements are
not appropriate for this kind of investigation.
Fig 3 illustrates the effect of nitring time for samples treated in a mixture of H2-
60N2 at 0,27 kPa and 773K. There is no signal for titanium nitride for t<90 min. For t
= 90 min, besides a line shift of the beta phase, we observed a reflection at 2Teta=
38.10 (d ~0,2362 nm), not ascribable to any titanium nitride. This could be attributed
to orthorhombic TiO2, but this reflection accounts only for 6% in intensity for poder
pattern (JCPDS file #29.1360). The patterns for the samples treated durting time
t>240 min indicate the presence of delta-TiN and Epson-Ti2N.
The effect of the sample temperature is more clearly illustrated in fig. 5. These
samples were nitrided in N/H =1/4 atmosphere at 0,40 kPa. At a high temperature
(934K), 20 min was a suficiente length of time to considerably increase the
contribution from e-Ti2N and delta-TiN to the XRD pattern.
Fig. 5 confirms the results reported for delta-TiN synthesized by low-energy
ion-assisted deposition: at a high temperature, the preferred orientation is that
corresponding to (200). This trend (tendência) is independente of the nitriding
atmosphere used and was reproducible in diferente treatment chambers, as
illustrated in fig. 6. The resuls displayed in this figure were obtained from samples
treated with a N/H = 3/2 atmosphere at 0.27 and 0.40 kPa.
Fig. 7 displays the results from samples treated with diferente nitriding
atmospheres, keeping constant the other parameters (0,4 kPa, 77K, 240 min) but the
nitriiding atmosphere. Despite the prolonged treatment used, the XRD pattern of the
sample nitrided in the N/H ¼ atmosphere shows only a small degree of (111) Epson,
reflection at 39.35 and no signal of delta-TiN. In contrast, the pattern of the sample
treated at the N/H = 3/2 atmosphere shows a well-defined (111) Epson, reclaction as
well as an indication of delta-TiN reflections.
Conclusions
...with the latter being due to the presence of a natural oxide layer of a few
nanometers thick. The base metal and the alloy are widely used as implant materials
in the dental and orthopaedic fields. Since both materials exhibit poor tribological
properties, the use of surface treatments is recomended. In addition leaching out of
metallic ions (lixiviação de íons metálicos) in the case of the alloy (such as aluminium
and vanadium) can be problematic when the protective oxide layer is disrupted
(interrompida), giving rise to tissue reactions.
The aim of the present work was to study the oxidation of titanium and Ti-6Al-
4V by PIII in na oxygen plasma. For this purpose the ion density in the plasma, the
pulse repetition rate and the pulse number have been varied and the influence of
these process parameters on process temperature, implantation dose, phase
formation and surface topography has been investigated.
Experimental
Were used titanium purê (grade 2) and alfa-beta alloy Ti-6Al-4V. After grinding
(polimento) and polishing the surface roughness was measured by AFM, resulting in
an average roughness (Ra) of 10 nm for titanium ando f 7.5 nm for Ti6Al4V.
The PIII treatment was carried out with oxygen gas of 99,995% purity. At a
base pressure of 10-4 Pa, oxygen gas was admitted to the process chamber at a
constant flow rate of 60 sccm, establishing a working pressure of 0.46 Pa.
The plasma was generated by ECR at 800 W power. The ion density in the
plasma and, therefore, the current density on the sample surface, were increased by
means of an additional magnetic field provided by an external ringmagnet. Lagmuir-
probe measurements showed that by increasing the magnet supply current to 15 A
the ion density in the plasma rose nearly by one order of magnitude from 4x1015m-3
without magnetic field to 3x1016 m-3.
The ions were extracted from the plasma by applying trapezoidal high voltage
pulses of -45 kV and 15 us length to the sample holder. The selected implantation
conditions are listed in table 1, as well as the process temperature and some of the
properties of the resulting films.
Since the temperature plays an importante role in the oxide formation, titanium
and Ti6Al4V have been treated first on water-cooled sample holder at a pulse
repetition rate of 400 Hz for diferente pulse numbers in the range from 3.6x105 to
28.8x105, corresponding to process times from 900 to 7200s. (MAIS DETALHES NO
TRABALHO).
The oxygen deph profiles in titanium and Ti6Al4V after O2-PIII are shown in
fig.2. The implantation dose and the maximum oxygen concentration are listed in
table 1. The implantation dose increases under cooled implantations conditions at
pulse numbers up to 14.4x105 from 2.9x1017 to 6.6x1017 O/cm2 in titanium, and
from 2.4x1017 to 5.1x1017 O/cm2 in Ti6Al4V.
For high pulse numbers the dose saturates due to sputter effects. The
maximum oxygen concentration reaches 65 at.% in both titanium and Ti6Al4V. The
implantation dose increases at 14.4x105 pulses to 8.7x1017 O/cm2 in titanium and to
6.7x1017 O/cm2 in Ti6Al4V when cooling is omitted and higher pulse repetition rates
are applied.
The maximum oxygen concentration does not exceed 66 at.% Implantation at
higher ion densities and higher pulse number up to 28.8 x105 a dose of 16.6x1017
O/cm2 in titanium ando f 18x1017 O/cm2 in Ti6Al4V is achieved with no sign of
sputter saturation. The oxygen deth profiles broaden with increasing dose and a
plateau of 66 at.% oxygen forms in the outer surface layer.
Phase formation
The results of the phase analysis by XRD shown in fig 3 and also summarised
in Table 1 give no suggestion of oxide formation for titanium and Ti6Al4V when
treated at temperatures up to 510°C, althoug the oxygen concentration is greater
than 50 at.%. In the case of titanium the formation of TiO2 (rutile) is observed for the
sample prepared at 600 Hz (540°C).
Shoulders noticeable on the left flank of alfa-Ti peaks at 37.8, 52.5 and 62.7°
can be assingned to the formation of the alfa-TiO phase. With increasing dose the
rutile peaks become more intense but no additional peaks apper.
Oxide formation is different for Ti6Al4V. After implantation at 600 Hz, rutile
formation is assessed from the broad weak peak at 27.4°C, just as the formation fo
the alfa-TiO phase. Increasing the implantation dose anatase, the other allotropic
formo f TiO2, becomes the dominante phase. The reason for the growth of anatase
in Ti6Al4V is not yet understood. It is unlikely that this is due to the presence of the
alloying elements V and Al. Aluminium favours the rutile phase by creation of oxygen,
and vanadium rather promotes the transformation of anatase to rutile in bulk titânia,
lowering the trasition temperature.
Topography
AFM images of the untreted substrates and after O2-PPI treatment are shown
in fig 4. For titanium and fig.5 for Ti6Al4V. Values of the surface roughness Ra are
reported in table 1. The roughness increases slightly with the pulse number under
active cooling for both materials. A lesser (menor) growth of Ra is observerd for
Ti6Al4V alloy. The alfa and beta-Ti phase can be distinguished on the surface of the
alloy after implantations at low pulses number. Line scans point out a lower
sputtering of the beta-Ti phase (small lamellae).
Prolonging the implantation and, therefore, the sputtering of the surface these
microstructural features disappear (Prolongando a implantação e, portanto, a
pulverização da superfície, essas características microestruturais desaparecem). As
soon as oxide formation is detectable surface roughness increases. Increasing the
ion density in the plasma and the pulse number a decrease of the roughness is
observed. In addition to oxide formation, sputtering and re-deposition of titanium
influence the surface topography. Longer process times lead to a levelling effect
(Tempos de processo mais longos levam a um efeito de nivelamento).
Conclusions
Implanting without active cooling at higher pulse repetition rates and higher ion
densities results in process temperatures in the range of 500-650°C. In this way,
oxygen ion implantation is combined with thermal diffusion. The implantation dose
increases with te pulse number/ implantation time withou sputter limitations up.... The
corresponding extension of the modified surface amounts to almons 1 um. The
maximun oxygen concentration does not exceed 66% at%. This is due to
stoichiometry restrictions of the titanium-oxygen system. Excess oxygen moves out
of the zone when the value of stoichimetric dioxide at 66 at% is reachead.
A Strong increase of the surface roughness results when oxide forms on the
surface. This is due to inhomogeneous sputtering and volume changes in
polycrystalline materials. Sputtuering and re-deposition show a levelling effect for
longer implatation times with a decrease in the roughness.
A técnica de plasma utilizada para este trabalho foi a de deposição iônica por
plasma, que é um gas contendo partículas livres compostas por espécies neutras e
eletricamente carregadas, em equilíbrio termodinâmico e eletricamente neutro. As
partículas livres no plasma movem-se em reposta à qualquer campo elétrico, com o
objetivo de neutralizá-lo. Portanto, se um campo elétrico é gerado na atmosfera do
plasma, as partículas livres se moverão formando uma blindagem elétrica. A
produção do plasma ocorre a partir do confinamento do gás em um sistema
hermeticamente fechado com 2 eletros nas extremidades, com pressão e
temperatura controladas. Cria-se uma diferença de potencial nos eletrodos, os íons
e elétrons são acelerados e colidem com outras partículas do plasma, gerando mais
partículas livres.
...............
Osseointegration
Idealmente, o osso deve integrar-se ao material do implante em vez de
responder ao material como substância estranha, encapsulando-o com tecido
fibroso. Bränemark observou a fusão do osso com as câmaras de titânio quando as
colocou nos fêmures dos coelhos. A palavra -osseointegração é cunhada por ele
para tais fenômenos [3,6,9], que é definida como a aparente ligação direta ou
conexão do tecido ósseo a um material aloplástico inerte, sem intervenção do tecido
conjuntivo [10-13]. Durante a osseointegração, osteoblastos e matriz mineralizada
entram em contato com a superfície do implante mesmo quando cargas são
aplicadas.
Rugosidade da superfície
Tratamentos químicos
Tratamentos eletroquímicos
................
Tratamentos a vácuo
Além disso, esta técnica também é usada para produzir superfícies antimicrobianas
nos implantes. Implantação de íons à base de plasma (PBII) e implantação e
deposição de íons à base de plasma (PBII-D) são os dois métodos utilizados para
esse fim. Íons como F e Ag com propriedades antibacterianas podem ser
implantados e depositados na superfície de implantes de aço inoxidável sem efeito
tóxico [54].
Tratamentos térmicos
Resultados
Conclusão
Revisão
Implante de titânio - O titânio é o material escolhido para implantes dentários,
pois suas propriedades atendem aos requisitos mais importantes, como
excelente biocompatibilidade [16], resistência à corrosão, alta resistência e
módulo de elasticidade relativamente baixo [17], boa conformabilidade e
usinabilidade. Além disso, modificações de superfície estão sendo utilizadas
nas superfícies dos implantes, principalmente para melhorar a molhabilidade,
a adesão e o implante de células, a proliferação celular e a osseointegração,
e, assim, uma cicatrização mais rápida e uma duração mais curta do
tratamento. Como resultado, muitos trabalhos de pesquisa foram realizados
para melhorar as modificações de superfície nos implantes existentes para
obter as respostas biológicas desejadas. A topografia da superfície também
foi manipulada, como ataque ácido e jateamento [18] na superfície, para obter
melhores topografias que, consequentemente, proporcionam melhor
rugosidade. No caso dos mecanismos, a rugosidade dos implantes de titânio
foi considerada um dos parâmetros significativos que afetam a taxa e a
qualidade da osseointegração [15, 18, 19].
Biocompatibilidade - A compatibilidade de materiais é a questão mais
importante a ser considerada para um implante dentário bem-sucedido. O
titânio e suas ligas são bem conhecidos como materiais que são bem
tolerados pelos tecidos vivos e capazes de promover a osseointegração [20].
Idealmente, a modificação da superfície do implante foi proposta para
melhorar a osseointegração entre materiais e tecido ósseo. As superfícies dos
materiais após o tratamento devem poder interagir com o tecido circundante
para induzir o contato direto do osso com o implante. O tratamento Kokubo,
também conhecido como fluido corporal simulado (SBF), é um método
químico para induzir ou determinar um nível de propriedade de
biocompatibilidades de materiais dentários que foi estabelecido em 1991 [21].
O SBF pode ser descrito como uma solução com concentração de íons
semelhante ao plasma sanguíneo humano (consulte a Tabela 1), mantida em
condições moderadas de pH e temperatura fisiológica idêntica [21]. A história
do uso de SBF para a formação de apatita é mostrada na Figura 1 [21 –25]
No início de 1980, Ogino e colaboradores [22] encontraram camada de
dióxido de silício (SiO2) e fosfato de cálcio (CaP) formados em um Bioglass
que permite a ligação a ossos vivos. Em 1990, Kokubo et al. [24] afirmaram
que a formação de apatita é essencial para a osseointegração entre a
superfície do implante e o osso vivo. A preparação completa do SBF foi
relatada em 1995 por Cho et al. [25].
A bioatividade in vivo e in vitro de um material pode ser prevista a partir da
formação de apatita em sua superfície no SBF [26]. As condições da
superfície, como rugosidade da superfície, carga superficial, energia da
superfície e composição química, têm influências importantes no processo de
osseointegração. Portanto, modificar a superfície do implante de titânio
parece ser uma maneira promissora de obter uma osseointegração mais forte
e mais rápida dos implantes, além de promover tempos de cicatrização mais
curtos, da colocação do implante à restauração [27].
Tratamento superficial - Recentemente, muitos trabalhos foram realizados
em implantes comerciais de titânio tratados com superfície para aprimorar a
função de osseointegração (referências). Ao aumentar a rugosidade da
superfície, foi observado um aumento na taxa de osseointegração e na
fixação biomecânica dos implantes de titânio [27, 28]. As modificações do
implante podem ser obtidas por métodos aditivos ou subtrativos. Os métodos
aditivos empregaram o tratamento no qual outros materiais são adicionados à
superfície, superficiais ou integrados, categorizados em revestimento e
impregnação, respectivamente. Embora a impregnação implique que o
material / agente químico esteja totalmente integrado ao núcleo de titânio,
como cristais de fosfato de cálcio na camada de TiO2 ou incorporação de
íons fluoreto na superfície, o revestimento, por outro lado, é a adição de
material / agente de várias espessuras superficialmente a superfície do
material do núcleo. As técnicas de revestimento podem incluir pulverização
por plasma de titânio (TPS), revestimento de hidroxiapatita por pulverização a
plasma (HA), revestimento de alumina e revestimento de fosfato de cálcio
biomimético (CaP). Enquanto isso, as técnicas subtrativas são o
procedimento para remover a camada do material do núcleo ou deformar
plasticamente a superfície superficial e, assim, tornar a superfície do material
do núcleo mais áspera. As técnicas subtrativas comuns são areias de areia
grande ou explosões de partículas de cerâmica, ataque ácido e anodização
[19]. A remoção do material da superfície por métodos mecânicos envolveu
modelagem / remoção, retificação, usinagem ou jateamento por força física.
Um tratamento químico, usando ácidos ou usando soluções alcalinas de ligas
de titânio em particular, é normalmente realizado não apenas para alterar a
rugosidade da superfície, mas também para modificar a composição e induzir
a molhabilidade ou a energia superficial da superfície [29]. Quanto ao
tratamento físico, como spray de plasma ou spray térmico, geralmente é
realizado na superfície externa do revestimento para melhorar a estética do
material e seu desempenho. Além disso, implantação de íons, tratamento a
laser e sputtering [10, 30-33], gravação de álcali / ácido [34-36] e deposição
de íons [37] também são utilizados. Assim, à luz do estudo dos efeitos dos
tratamentos de superfície, esta revisão se concentra apenas em vários
métodos com alto potencial para melhorar o desempenho dos implantes de
titânio. O princípio básico de cada modificação da superfície e seus
desenvolvimentos são discutidos nas seções a seguir: ....
Ion implantation technique on the other hand is useful to harden the
surface of titanium but not applicable for dental implant [64]. T. R. Rautray, R.
Narayanan, and K.-H. Kim, “Ion implantation of titanium based biomaterials,”
Progress in Materials Science, vol. 56, no. 8, pp. 1137–1177, 2011.
Xxx
yyy
Xxx – mais coisas no pdf, mas não interessa, pq n temos este método
Xxxx
xxxx
Depois de combinar a Eq. (7) com a equação de Young (Eq. (3)), a seguinte
equação linear (y = ax + b) pode ser obtida:
Xxxx
Fig 5
5. Conclusões