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Fsica dos plasmas Quase todo o material do universo esta na forma de gs ionizado ou plasma. O Universo composto de 99% de plasma. No meio interestrelar o plasma de baixa temperatura e baixa densidade, enquanto no interior das estrelas ele extremamente quente e denso, a aurora boreal um exemplo de plasma de baixa temperatura e baixa densidade. O centro do Sol por exemplo tem uma temperatura de aproximadamente 107K enquanto a Fotosfra tem temperatura de aproximadamente 5800K.Na Terra, conhecemos trs estados da matria, slido, lquido e gasoso, mas em 1879 o fsico Ingls William Crookes identificou um quarto estado da matria, uma forma de gs ionizado. A palavra "PLASMA" foi usada pela primeira vez pelo Qumico e Fsico Americano Dr. Irving Langmuir em 1929 para descrever gs ionizado. Existem Plasmas de diversas temperaturas e densidades, alguns de baixa temperatura e pouco densos (aurora boreal) e outros muito quente e denso (centro das estrelas). Normalmente os slidos, lquidos e gases, esto eletricamente neutros e igualmente frios e densos para estarem em estado de plasma.O Plasma pode ser acelerado e dirigido por campos eltricos e magnticos, os quais permitem que o plasma possa ser controlado e aplicado. A pesquisa de plasma serve para o grande entendimento do universo. Ela tambm fornece algumas aplicaes prticas como produo de novas tecnologias, produtos de consumo, e a explorao de energia abundante no universo. O que plasma? A palavra plasma vem da medicina onde utilizada para apontar perturbao ou estado no distinguvel.Na superfcie da Terra o plasma s se forma em condies especiais. Devido a fora gravitacional da Terra ser fraca para reter o plasma, no possvel mant-lo confinado por longos perodos como acontece no Sol. O Sol, assim como todas estrelas que emitem luz se encontram no quarto estado da matria. Na ionosfera terrestre, temos o surgimento da Aurora Boreal, que um plasma natural, assim como o fogo. So sistemas compostos por um grande nmero de partculas carregadas, distribudas dentro de um volume (macroscpico) onde haja a mesma quantidade de cargas positivas e negativas. Este meio recebe o nome de Plasma, e foi chamado pelo fisco ingls W. Clux de o quarto estado fundamental da matria, pro conter propriedades diferentes do estado slido, lquido e gasoso. Esta mudana de estado acontece da seguinte forma: ao adicionarmos calor ao slido este se transforma em lquido; se adicionarmos mais calor, este se transforma em gs e se aquecermos este gs a altas temperaturas, obtemos o plasma. Sendo assim, se colocarmos em ordem crescente conforme a quantidade de energia que a matria possui teremos: SLIDO > LQUIDO > GASOSO > PLASMA A importncia do estudo de fsica de plasma se d em funo de que, o universo matria 99% composto por matria ionizada em forma de plasma,

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ou seja, no planeta Terra, onde a matria se encontra normalmente nos trs estados: slido, lquido e gasoso, pode-se dizer que em relao ao Universo, vivemos num ambiente especial e raro. O objetivo da fsica dos plasmas compreender o comportamento de gases ionizados usando uma metodologia interdisciplinar e novas tcnicas de anlise. A fsica dos plasmas moderna aborda problemas importantes associados a fenmenos no-lineares, que envolvem muitos corpos, em sistemas fora do equilbrio.Avanos na fsica dos plasmas dependem, essencialmente, do interrelacionamento entre teoria e experimento. Experimentos em fsica bsica so de vital importncia para o avano da fsica dos plasmas. Eles devem ser projetados para identificar um determinado fenmeno e explorar uma larga faixa de parmetros envolvidos nestes fenmenos. A fsica dos plasmas terica e computacional complementa a observao experimental.

Aplicaes Clssicas dos Plasmas Eletrnica de plasma

Tubos a vcuo contendo gases ionizados e capazes de conduzir altas correntes so uma das primeiras aplicaes de plasmas que reportam s pesquisas de Irving Langmuir e Levi Tonks nos anos 1920. A moderna indstria eletrnica utiliza plasma em retificadores de mercrio, tiratrons de hidrognio, ignitrons e chaves a arco para transmisso e controle de eletricidade. Lmpadas fluorescentes, fontes intensas de luz de plasma excitado por microondas e telas planas a plasma so ainda outras aplicaes de descargas em gs.

Tubo clssico de descarga eltrica com corrente contnua. No regime de descarga luminescente(1014 a 51018 partculas carregadas/m3, 104 a 5104 K) o plasma emite luz devido a colises de excitao de eltrons acelerados com o gs neutro. Em densidades de corrente elevadas, a alta deposio de calor no catodo desencadeia a emisso de eltrons e a descarga muda para o regime de arco intensamente luminoso (1020 a 1025 partculas carregadas/m 3, 2103 a 105 K) .

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Gerador magnetohidrodinmico (MHD)

De acordo com a fora de Lorentz, os ons positivos se movem para cima na figura ao lado e os eltrons se movem para baixo, gerando uma diferena de potencial entre os eletrodos. Comentrio Histrico - Os princpios magneto-hidrodinmicos (MHD) eram conhecidos desde os estudos de Michael Faraday a partir de 1830. Entretanto, as primeiras tentativas de construir um gerador MHD, em 1938, no tiveram sucesso devido ao escasso conhecimento que se tinha das propriedades dos plasmas. Em torno de 1959, a compreenso do assunto e a tecnologia progrediram a ponto de produzir-se 10 kW de potncia eltrica num dispositivo MHD. Uma central eltrica com geradores MHD, seguida de geradores convencionais a vapor, apresenta a possibilidade de usar combustveis em ciclos mais eficientes, com perdas reduzidas de calor para o meio ambiente. Infelizmente, os grandes programas de pesquisa foram descontinuados por volta de 1970 em vista do elevado investimento necessrio para solucionar os problemas tcnicos que ainda persistiam.

Propulsor magnetoplasmadinmico (MPD)

O efeito motor (o inverso do efeito dnamo) pode ser usado para acelerar o plasma na propulso eltrica de veculos espaciais. Nesta aplicao, a energia eltrica convertida em energia mecnica pela ao de campos eltricos e magnticos perpendiculares.

A densidade de corrente j gerada no plasma pela tenso aplicada aos eletrodos. O plasma ejetado com alta velocidade pela fora j B. A fora de reao pode ser utilizada para acelerar um veculo no espao. Comentrio Histrico - Robert Hutchings Goddard estabeleceu informalmente, em 1906, alguns dos conceitos da propulso eltrica, e Hermann Oberth dedicou um captulo de seu livro "Wege zur Raumschiffahrt" (1929) ao tema. Avanos conceituais em propulso eltrica foram feitos a partir de meados da dcada de 40, quando se vislumbrou a possibilidade de serem construdos geradores de energia eltrica espaciais de pouco peso, baseados em fisso

Pgina |4 nuclear e em painis solares. Entretanto, somente aps 1957 experimentos reais de pequeno porte foram feitos em laboratrios governamentais e em algumas companhias independentes, principalmente nos EUA. Na poca, verificou-se que a propulso eltrica no se limitava a propulsores eletrostticos ou inicos conforme se pensava at ento, mas que podia ser estendida a sistemas eletromagnticos e eletrotrmicos. Os primeiros testes espaciais de um propulsor eltrico, envolvendo um motor inico eletrosttico, foram feitos em meados de 1964. Estes motores inicos so hoje utilizados para controle de satlites e propulso primria de sondas espaciais de longo alcance. Por outro lado, propulsores magnetoplasmadinmicos proporcionam uma combinao de altas velocidades de exausto com fluxo de massa elevado, mas at o momento s foram testados em laboratrio devido essencialmente s altas potncias envolvidas e a problemas tcnicos remanescentes. A histria da propulso eltrica em seu incio pode ser encontrada no livro "Ion Propulsion for Space Flight", de Ernst Stuhlinger (1964).

Processos a Plasma

Em geral, processos a plasma envolvem reaes fsicas e qumicas que ocorrem entre partculas e superfcies slidas em contato com o plasma. Alguns exemplos so: eroso por plasma, deposio de filmes finos, proteo de superfcies por tratamentos especiais, endurecimento de superfcies, e implantao inica.
Desenvolvimento de tochas de plasma no LAP
Uma tocha de plasma de baixa potncia (3kW), ou jato de plasma em arco, foi desenvolvida no LAP para sntese de filmes de diamante. Esta tocha de plasma opera com misturas gasosas numa presso total de aproximadamente 50 mbar, dentro da cmara de expanso, com correntes de at 14 A. O arco gira com freqncia angular na faixa de 35 a 50 rad/s quando um campo magntico externo de at 8 mT aplicado na regio dos eletrodos. Esperase que esta rotao diminua a taxa de eroso do catodo quando a tocha opera em nveis elevados da taxa de deposio. Tocha de plasma desenvolvida no LAP para sntese de filmes de diamante.

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Implantao inica por imerso em plasma (IIIP ou 3IP) no LAP

O tratamento da superfcie de materiais por implantao inica pode ser feito pulsando-se o plasma repetidas vezes sobre uma amostra imersa no mesmo. A tcnica 3IP permite a implantao de uma pea inteira a despeito de forma e tamanho. No dispositivo 3IP, desenvolvido no LAP, o plasma gerado por microondas ou, com gerao de menos impurezas, utilizando descargas luminescentes nas quais o potencial de plasma controlado por um "chuveiro" de eltrons.

Processos a plasma noutros laboratrios

Processos a plasma usam diferentes fontes de ons ou fontes de plasma produzidos por descargas luminescentes ou em arco contnuo, descargas de radiofreqncia (RF) capacitivas ou indutivas, e descargas de microondas. Tochas de plasma so usadas principalmente como fontes de energia trmica em processos como corte de chapas, soldas por arco, asperso por plasma, fabricao de cermicas especiais, sinterizao por plasma, e tratamento trmico. Elas tambm so utilizadas em processos termoqumicos como no tratamento de resduos txicos, e na produo de fertilizantes a base de nitratos e de combustveis sintticos obtidos a partir do carvo e da biomassa.

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Na tocha de plasma de arco no transferido, o gs de processo aquecido quando passa atravs do arco desenvolvido entre o catodo e o anodo coaxiais. Na tocha de plasma produzido por radiofreqncia (RF) com acoplamento indutivo, o plasma iniciado por uma descarga de alta tenso e mantido por energia de RF aplicada a uma bobina que envolve o plasma, formando um circuito tanque. Ambas as tochas de plasma so largamente utilizadas como fontes de plasma na indstria.

Aplicaes do Plasma Trmico

Corte e Solda de Metais Fuso e Refino de Metais, Ligas e Cermicas Metalurgia Deposio de Cermicas e Metais (Plasma Spray) Resduos Industriais, Urbanos e Hospitalares Decomposio Trmica Novos Materiais Petroqumica Diamante Combusto Assistida por Plasma Trmico Gaseificao de Carves Pobres, do Xisto Converso de combustveis (Metano, etanol, etc) em Gs de Sntese (CO + H2) Ignio e Estabilizao de Combustveis Pobres Esferoidizao de Cermicas

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Mudana de Fase de Ps Cermicos Tratamento Trmico de Superfcies Aquecimento Aplicaes Espaciais

Vantagens do Plasma Trmico nas Aplicaes

Alta Temperatura (maior que na combusto) Maior Eficincia de Transferncia de Calor nos Processos Maior Rapidez nas Reaes Qumicas Utilizao de quaisquer gases (oxidantes, neutros ou redutores) Maior Entalpia Menor Inrcia Trmica Menor Poluio e Rudo Menor Volume de Gs que na Combusto Independncia entre a Vazo de Gs e a Potncia Trmica (o que no acontece na combusto) Sistemas mais Compactos e com menos Perifricos Maior Flexibilidade nos Processos Facilidade de Automao Maior Qualidade do Produto Final Possibilidade de Obteno de Novos Materiais Menor Consumo de Energia Maior Produtividade Menor Capital Investido Menor Custo

Fontes
http://www.plasma.inpe.br http://www.ifi.unicamp.br

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trabalho de fsica : plasma o quarto estado fundamental

Aluno: Bruno Raniery Freire Lima Perodo: 5 Curso: Informtica