Fundamentos de Análise das Estruturas: Fotoelasticidade

D.B.Silvaa , M. Thomasa
a Universidade Federal do Pampa - Campus Alegrete

Resumo
A técnica de Fotoelasticidade é uma importante e eficiente ferramenta na determinação de tensões no inte-
rior de materiais fotoelásticos. Em um equipamento denominado polariscópio, há um feixe de luz polarizada
que atravessa o modelo fotoelástico, e após o modelo ser submetido a um carregamento qualquer, obtém-
se imagens coloridas de franjas que servem para encontrar as diferenças de tensões existentes no modelo.
Quando submetidos a esforços externos, esses materiais transparentes também apresentam a propriedade da
birrefringência temporária ou dupla refração, decorrente das alterações que ocorrem nos estados de polariza-
ções da luz que é transmitida através da sua estrutura. Com base nisso, o presente trabalho busca apresentar
uma breve revisão teórica sobre o método de análise experimental da fotoelasticidade, destacando a sua im-
portância no âmbito científico e tecnológico.
Palavras-chave: análise experimental, fotoelasticidade, campo completo, tensão/deformação

1. Introdução "elástico"às deformações e tensões existentes nos ob-

No que tange a análise de estruturas, estudar es-
tados de tensões e deformações e sua influência nos
diferentes componentes é de suma importância do
ponto de vista científico e tecnológico. Portanto, com
o passar dos anos diversas metodologias foram im-
plementadas tendo este propósito, como a extenso-
metria, a fotoelasticidade e o método de elementos
finitos.
Dentre estas, a fotoelasticidade destaca-se por ser
uma ferramenta experimental óptica que auxilia na
investigação e no estabelecimento do campo de ten-
sões e deformações de materiais transparentes - que
apresentam mudança em seu comportamento óptico
em razão de variações do estado de tensões ou defor-
mações - e entrega excelentes resultados mesmo em
casos que envolvem geometria e/ou carga complexa
[7]. Ademais, tem como principal vantagem a rapi-
dez e simpleza de observação [2] e é o único método
capaz de gerar um diagnóstico de campo completo,
isto é, apresentar os níveis de deformação e sua dis-
tribuição global.
Seu nome traduz exatamente seu mecanismo de
funcionamento, "foto"remete a relação com a luz, e
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jetos elásticos em observação.
2. Objetivo
Caracterizar o método experimental da fotoelas-
ticidade empregue na obtenção do campo completo
de tensões/deformações.
3. Revisão Bibliográfica
A técnica da fotoelasticidade trabalha com base
na teoria ondulatória da luz, ou como também é cha-
mada, teoria eletromagnética de Maxwell. Por ser
uma onda eletromagnética, a luz é composta por cam-
pos elétricos e magnéticos normais um ao outro e à
direção de propagação, sendo ainda variáveis tanto
no tempo como no espaço. A Figura 1 ilustra o es-
quema de uma onda eletromagnética.
As ondas luminosas naturais ou não-polarizadas
(lâmpada incandescente, sol) são aquelas que irra-
diam em todas as direções partindo de uma fonte de
luz, ou em termos de estado ondulatório, aquelas cuja
vibração ditribui-se de maneira aleatória ao longo da
direção de propagação (Figura 2).
8 de dezembro de 2017
 Figura 1: Esquema de uma onda eletromagnética
Fonte:http://umaventuracomasaudeambiental.blogspot.com.br
Figura 2: Propagação da luz não-polarizada
Fonte: http://alunosonline.uol.com.br/quimica/luz-polarizada-nao-polarizada.html
Por sua vez, a chamada luz polarizada se pro-
paga em um único plano (Figura 3), caso introduza-
se um polarizador ao sistema, apenas as vibrações
que apresentam a mesma orientação que a propaga-
ção da onda serão transmitidas. Por isso, a luz pola-
rizada apresenta vibração em apenas um plano. Em
geral são empregues três tipos de luz polarizada, con-
forme apresentado pela Figura 4.
• Elíptica: é a situação mais convencional de on-
das polarizadas, ocorre quando a vibração da
onda eletromagnética forma uma imagem se-
melhante a uma elipse.
• Circular: Atingida no momento que a ponta do
vetor da onda luminosa traça uma hélice cir-
cular simultaneamente à propagação da luz. É
realizada com o auxílio de um polariscópio cir-
cular.
• Plana: alcançada ao limitar-se a vibração da
onda luminosa em um plano específico.Esse
efeito pode ser alcaçado utilizando-se um único
item, que recebe o nome de polarizador plano,
apto a dissipar qualquer elemento que apre-
sente vibração que divirja do plano de polari-
zação.
Existem ainda diversos procedimentos que po-
dem ser empregues para transformar luz não-polarizada
2
Figura 3: Propagação da luz polarizada
Fonte: http://alunosonline.uol.com.br/quimica/luz-polarizada-nao-polarizada.html
Figura 4: Classificação da luz polarizada
Fonte: http://solphisics.blogspot.com.br/2016/01/polarizacao-de-ondas-luminosas.html
em polarizada. As principais são:
• Polarização linear
• Polarização por absorção seletiva
• Polarização por reflexão
• Reflexão por birrefrigência
Para uma maior compreensão acerca do tema é
preciso conhecer um pouco sobre materiais birrefri-
gentes ou fotoelásticos.
Os materiais fotoelásticos têm como principal ca-
racterística a propriedade da birrefringência ou dupla
refração, considerada a propriedade física mais im-
portante associada à fotoelasticidade. Essa proprie-
dade é temporária, e aparece quando os materiais são
submetidos a esforços externos, que ocorrem quando
há alterações nos estados de polarização da luz que
é transmitida através da sua estrutura. Para avaliar o
estado de tensões presente no interior desses mate-
riais, faz-se uso de técnicas de Fotoelasticidade que
utilizam polariscópios fundamentados nas proprieda-
des da luz que é polarizada durante a sua operação.
De acordo com [1] o fenômeno da birrefringência
temporária associa-se basicamente à elasticidade me-
cânica do material, tendo a capacidade de alterar seu
arranjo molecular. Esse efeito acaba não sendo pos-
sível em materiais cristalinos, pois os mesmos apre-
sentam uma estrutura muito mais rígida.
Conforme [4] materiais birrefringentes apresen-
tam característica transparente e possuem a propri-
edade de dividir o vetor luminoso em duas compo-
nentes ortogonais, transmitindo à elas diferentes ve-
locidades. A Figura 5 apresenta dois eixos óticos,
denominados eixo rápido e lento. No primeiro eixo
tem-se uma transmissão de luz muito maior que no
segundo eixo.
Figura 5: Placa birrefrigente
Fonte: (GOMES, 1984)
Ao incidir uma luz polarizada plana em uma placa
birrefringente, o vetor luminoso acaba causando um
ângulo β com o Eixo 1, denominado de eixo rápido,
fazendo-se que haja a divisão de duas componentes
de acordo com os eixos da placa. Essas componen-
tes acabam propagando através da espessura h, emer-
gindo do outro lado da placa em instantes distintos,
devido à diferença de velocidade entre elas.
Segundo [6] quando há a ocorrência do fenômeno
de elasticidade, observa-se a manifestação de alter-
nância de franjas. Essas franjas se dividem em dois
tipos: franjas isocromáticas, que são coloridas quando
do uso da cor branca e que são pretas quando do uso
de luz monocromática, são constituídas por pontos
que possuem a mesma cor e representam pontos cuja
intensidade de diferença das tensões principais é a
mesma, e franjas isoclínicas, compostas por pontos
em que as direções das tensões principais são as mes-
mas (Figura 6).
A análise manual através das franjas pode ser uma
tarefa um pouco trabalhosa, entretanto, já existem
softwares que processam as imagens por toda exten-
são do componente agilizando o processo.
3
Figura 6: Franjas Isocromáticas e Isoclínicas
Fonte: (Philips, 1998)
Outro fator importante que deve ser levado em
conta na análise de tensões com o uso da fotoelasti-
cidade é a escolha do material adequado que será uti-
lizado para o revestimento ou para o modelo. Em [3]
Fleury lembra que o primeiro material utilizado para
o este fim foi o vidro. Porém, devido à sua baixa sen-
sibilidade e maleabilidade ele foi sendo substituído
aos poucos por outros materiais. Dentre as princi-
pais propriedades que um material fotoelástico deva
possuir, pode-se destacar algumas:
• Transparência: permite uma classificação rá-
pida do material pela simples observação em
aplicações fotoelásticas em polariscópio de trans-
missão;
• Sensibilidade ótica: o material deve possuir
um elevado número de franjas isocromáticas,
além de uma boa sensibilidade à deformação,
que se traduz em um valor baixo do coeficiente
de franja (f);
• Fluência: necessita-se que o material não apre-
sente características suscetíveis à fluência;
• Comportamento linear: espera-se que o mate-
rial apresente uma linearidade entre os estados
de tensão e deformação, ocorrendo a mesma
situação entre o estado de tensão e as proprie-
dades óticas do material;
• Rigidez: busca-se materiais que possuam um
elevado módulo de elasticidade para que o mo-
delo não apresente distorções e mantenha sua
forma constante;
• Sensibilidade às variações de temperatura: o
material deve manter suas propriedades cons-
tantes, independentemente das variações de tem-
peratura que houver;
 • Compatibilidade de deformações: é de extrema
importância que o material mantenha a ordem
de grandeza das deformações do modelo plás-
tico e do protótipo.
Ainda que praticamente todos os materiais trans-
parentes exibam birrefringência, grande parte deles
não apresentam um grau de sensibilidade que seja su-
ficiente para sua aplicação em fotoelasticidade. As-
sim, [4] lista os materiais mais adequados para este
fim:
• Bakelite BT-61-893: material que possui ex-
celentes propriedades mecânicas e óticas. É
uma resina gliptálica obtida através da reação
da glicerina com anidrido ftálico;
• Castolite: obtida através da moldagem entre
duas lâminas de vidro, a castolite é uma re-
sina de poliéster, transparente e de sensibili-
dade média;
• Resina Columbiana (CR-39): se caracteriza por
ser um material frágil e de difícil trabalhabi-
lidade. É composto por um carbono digligo-
allyco, podendo ser moldado sob formas de
placas, obtendo um ótimo acabamento super-
ficial juntamente com uma transparência per-
feita;
• Resina Epóxi (Araldites): de fácil trabalhabili-
dade, possui excelentes propriedades mecâni-
cas e elevada sensibilidade ao efeito fotoelás-
tico;
• Borracha de poliuretano: possui um baixo mó-
dulo de elasticidade e elevada sensibilidade (é
cerca de cinquenta vezes mais sensível que as
resinas epóxi.
Conforme apontado em [5], dentre os materiais
citados, os que mais se aproximam de um material
perfeito para ser utilizado na fotoelasticidade são as
resinas epóxi, pois possuem uma alta sensibilidade
ótica em conjunto com a deformação, podem ser fun-
didos em grandes espessuras e complicados mode-
los podem ser fabricados através de usinagem (Fi-
gura [??]). Já para a seleção do revestimento fotoe-
lástico, busca-se utilizar materiais que forneçam má-
4
xima confiabilidade e precisão em determinadas con-
dições de ensaios aliados ao baixo custo. [3] apre-
senta algumas condições para a escolha desses mate-
riais de revestimento fotoelástico:
• Método de aplicação do revestimento na super-
fície do ensaio;
• Sensibilidade;
• Efeito de Reforço;
• Deformação máxima.
Com relação ao mecanismo de ensaio, pode-se
dizer que os polariscópios são equipamentos ópticos
aplicados na análise de variações das características
ópticas do elemento quando este é submetido à uma
tensão. Existe em duas formas: plano e circular.
Cada qual refere-se ao tipo de luz polarizada à qual
se destina. Dividem-se ainda em polariscópios de
transmissão, conforme ilustra a Figura 7 (referente
à compreensão de unidades transparentes de materi-
ais fotoelásticos) e reflexão como apresentado pela
Figura 8 (modelo propriamente dito com camada de
cobertura em componente fotoelástico).
No momento que a estrutura se deforma, essa
camada superficial segue tal deformação, origindo
uma série de franjas isocromáticas as quais podem
ser analisadas através do polariscópio e fornecer in-
dícios sobre a disposição das deformações sobre a
superfície do material em questão. Contanto que essa
camada tenha uma espessura suficientemente dimi-
nuta, admite-se que tanto a estrutura sob análise e a
camada superficial de revestimento sofrem a mesma
deformação sem nenhum tipo de desvio.
A fotoelasticidade pode ser útil nos seguintes ca-
sos:
• Aferição de concentradores de tensão tanto em
situações biaxiais como triaxiais.
• Análise qualitativa e quantitativa da distribui-
ção da tensão, apontando as regiões mais soli-
citadas,bem como a máxima tensão de cisalha-
mento presente no plano e suas direções prin-
cipais.
• Estimar tensões residuais.
 Figura 7: Polariscópio de Transmissão
Fonte: (Fakhouri,2009)
Figura 8: Polariscópio de Reflexão
Fonte: (Fleury,2001)
Em seu trabalho [8] Vieira Jr, Scotti e Rade com-
pararam as tensões principais em soldagens de topo
de placa de aço e polocarbonato através de simula-
ção numérica e da técnica de fotoelasticidade (iso-
cromáticas). A Figura 9 apresenta os resultados en-
contrados. Através dessas comparações, tais autores
puderam concluir que os resultados foram muito se-
melhantes, comprovando assim o bom desempenho
do emprego da técnica experimental da fotoelastici-
dade na aferição e análise de tensões residuais.
A aplicação da fotoelasticidade em modelos tri-
dimensionais é um pouco mais complexa e demanda
algumas técnicas especiais, uma vez que torna-se in-
5
Figura 9: Tensões principais a) simulação numérica placa de
alo; b) padrão de franjas placa PC; c) e d) imagens fotoelásticas
placa PC.
Fonte: (Vieira Jr et al,2002)
viável realizar a avaliação através do polariscópio de
transmissão. Esse processo se torna mais dificultoso
em razão do desvio que os raios luminosos sofrem
ao longo de seu caminho pelo material em análise.
Normalmente a técnica mais utilizada nesses caso é
o chamado streess freezing and slice cutting, o qual
fundamenta-se no comportamento de certo materi-
ais poliméricos quando sofrem aquecimento. Estes
materiais apresentam cadeias primárias ou secundá-
rias em difrentes faixas de temperatura, o que altera
o comportamento dos mesmos (Figura 10)
Figura 10: Tipos de ligações
Fonte: (Fleury,2001)
4. Conclusão
Os conceitos apresentados no presente trabalham
referem-se à fundamentação teórica a respeito da fo-
toelasticidade, sendo, portanto, imprescindíveis para
uma melhor compreensão dos resultados provenien-
tes da análise experimental.
A metodologia se mostrou muito interessante, por
envolver mecanismos relativamente simples, ser uma
técnica não destrutiva e por oferecer uma visualiza-
ção de campo completo - demostrando ser uma ótima
alternativa em análises qualitativas e quantitativas-.
Entretanto, a compreensão do resultados fornecidos
pela mesma exige um certo grau de conhecimento e
experiência do operador, uma vez que envolve a in-
terpretação das franjas e sua correlação com as ten-
sões e deformações.
É importante destacar que um cuidado especial
deve ser tomado em relação ao material selecionado
para ser utilizado, este deve seguir as características
apresentadas ao longo do trabalho.

Referências
[1] M. A.; da Silva C. R.; Toffoli D. J. da Silva, S. Leal;
de Jesus and U.N. Camargo. Análise quantitativa de ten-
sões em amostras fotoelásticas por meio de fotoelastici-
dade. Revista Brasileira de Física Tecnológica Aplicada,
4(1), 2017.
[2] W. F Dally, J. W.; Riley. Experimental stress analysis.
1965.
[3] S.V. Fleury and A.P. ASSIS. Análise da distribuição de
tensões em descontinuidades de rocha utilizando a técnica
da fotoelasticidade. PhD thesis, Dissertação (Mestrado em
Geotecnia)-Universidade de Brasília, Conselho Nacional
de Desenvolvimento Científico e Tecnológico 147 f. Bra-
sília, DF, 2001.
[4] J.F. Silva Gomes. Análise experimental de tensões por fo-
toelasticidade. 1984.
[5] H.A. Gomide and P. Smith. Material de rápida obtenção
para fotoelasticidade tridimensional. 6o Congresso Brasi-
leiro de Ciências dos Materiais.
[6] P.G. Marting. Fotoelasticidade, primeiros passos. 2005.
[7] E.A. Patterson. Digital photoelasticity: principles, practice
and potential. Strain, 38(1):27–39, 2002.
[8] A. e Rade D.A. Vieira Jr, A.B. e Scotti. Avaliação inicial
da aplicação de fotoelasticidade e soldagem de plásticos no
estudo de tensões residuais em placas soldadas, 2002.