Universidade Federal do Rio Grande do Norte

Centro de Tecnologia
Departamento de Engenharia de Materiais

Estrutura dos Materiais – MTR 0301

Estrutura dos Materiais Cerâmicos

Armando M. Mendes

18/05/2015
 Como serão essas duas aulas?

Aula #1:
• Estrutura Cristalina;
• Imperfeições nas Cerâmicas;
• Processamento/Microestrutura;
• Propriedades Físicas.

Aula #2:
• Publicações Científicas em Materiais Cerâmicos;
• Materiais Cerâmicos no nosso dia-a-dia.
 Algumas Observações da Aula Anterior...

• Fônons (condutividade) X Energia Potencial (Dilatação)

 Algumas Observações da Aula Anterior...
• Ácido Fluorídrico (HF) X Vidro

Dissolução

SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l)

SiO2(s) + 6 HF(aq) → H2[SiF6](aq) + 2 H2O(l)

OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO

• Zircônia (ZrO2)

Monoclínica 1170°C Tetragonal 2370°C Cúbica

• Para cada temperatura há maior estabilidades quando os

íons assumem determinadas posições  Mudança de fase.
OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Zircônia Estabilizada
o Y2O3, CeO2, CaO, MgO;
o O a nova razão rC/rA em algumas regiões e a criação
de vacâncias para compensar as cargas elétricas
causarão distorções na célula unitária.
 OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Zircônia Estabilizada
o 3% Mol de Y2O3 - Solução Sólida Substituindo 3% dos Zr4+
por Y3+ na rede cristalina;
o Estabilização da fase tetragonal (Metaestável – Tensões
Compressivas) à Tamb;
o 3% X 8% Y2O3  Propriedades
OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Mecanismo de Tenacificação

Aumento de 3-5% do
volume da célula unitária.
OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Processamento
o Pó comercial: 3Y-TZP (TOSOH)
o Fases: Tetragonal + Monoclínica
OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Processamento
o Prensagem uniaxial à frio (11 amostras)
OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO
• Processamento
o Sinterização
• Processamento X Propriedades

(a) 1350°C/4h (b) 1350°C/12h

(c) 1550°C/4h (d) 1550°C/12h

OBTENÇÃO DE ELEVADA DUREZA EM ZIRCÔNIA
DOPADA COM ÍTRIA:
PROPRIEDADES E OTIMIZAÇÃO

• Dureza
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Memórias no estado sólido
o FeRAM’s e DRAM’s
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN

• Propriedades elétricas
o FeRAM’s – Propriedades Ferroelétricas

o DRAM’s – Propriedades Dielétricas

• Exigência do mercado de dispositivos cada vez menores

o Filmes finos óxidos

o Boas propriedades elétricas

Cd
 Elevada constante dielétrica K =
ε0 A


1
K≈
𝐴
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Materiais à base de BaTiO3
o Perovskita (ABO3)

o No estado ferroelétrico (T<Tc) P

P
P
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN

• Titanato Zirconato de Bário (BaTi1-xZrxO3) (BZT)

o Formação de uma solução sólida substitucional (TiZr)

o O teor de Zr4+ na rede altera a temperatura de Curie (Tc)

o Para x=0,25 Tc<Tambiente

o BZT (x=0,25) à temperatura ambiente encontra-se no seu

estado paraelétrico (estrutura cúbica)
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Filmes finos
o Deposição por solução química (CSD)
 Método dos Precursores Poliméricos (Pechini)

(Ácido Cítrico)

M1,
Água
M2, M3

+ +
(Água)
(Polímero)
(Etilenoglicol)
(Citrato Metálico)
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Filmes finos
o Deposição pelo método do Spin-Coating
o Espessura do filme = ƒ(ƞ, ω, Número de Camadas)
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Planejamento Box-Behnken

Variáveis Codificadas Variáveis Reais

Amostra ƞ ω NC ƞ(mPa∙s) ω(rpm) NC

A1 -1 -1 0 10 3000 8
A2 1 -1 0 30 3000 8
A3 -1 1 0 10 8000 8
A4 1 1 0 30 8000 8
A5 -1 0 -1 10 5500 5
A6 1 0 -1 30 5500 5
A7 -1 0 1 10 5500 11
A8 1 0 1 30 5500 11
A9 0 -1 -1 20 3000 5
A10 0 1 -1 20 8000 5
A11 0 -1 1 20 3000 11
A12 0 1 1 20 8000 11
A13 0 0 0 20 5500 8
A14 0 0 0 20 5500 8
A15 0 0 0 20 5500 8
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Caracterizações Elétricas dos filmes de BZT
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Espessura dos filmes de BZT

o Espessura médias dos filmes: 140,9 nm – 699,0 nm

A3 A11

Ƞ=10cP; ω=8000rpm; NC=8 Ƞ=20cP; ω=3000rpm; NC=11

ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN
• Curva K x d
 ESTUDO DA DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS DE
BaTi(1-X)Zr(X)O3 POR MEIO DE PLANEJAMENTO
BOX-BEHNKEN

• Curvas C X V

Espessura = 330,4nm Espessura = 376,4nm

• CuCrO2 dopado com Fe;

• Processamento:
o Pós de CuO + Cr2O3 + α-Fe2O3 moídos e calcinados;
o Prensados em forma de “bulks”;
o Sinterizados a 1200°C/12h;
• Efeito da quantidade de dopantes na Estrutura Cristalina;

(Delafossita)
• Não houve efeito da quantidade de dopantes na Microestrutura;
• Efeito da dopagem nas propriedades do material
• ZnO dopado Li, Na, Cu, Pr, Mg.

• Processamento
o Reação no estado sólido
• Influência da dopagem na microestrutura
• Influência da dopagem nas propriedades fotoluminescentes
• Síntese Hidrotérmica de ZnO

• Processamento
o Síntese Hidrotérmica partindo de filmes (sementes)
• Processamento
• Influência do processamento na microestrutura
Cerâmica no Dia-a-Dia
Cerâmica no Dia-a-Dia
Cerâmica no Dia-a-Dia
Cerâmica no Dia-a-Dia
Cerâmica no Dia-a-Dia
Cerâmica no Dia-a-Dia