UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS

FACULDADE DE ENGENHARIA MECNICA

ESTUDO DO BIOMATERIAL Ti-6Al-4V EMPREGANDO-SE TCNICAS
ELETROQUMICAS E XPS
(Ivan Ramires e Antonio Carlos Guastaldi)





Crystopher Cardoso de Brito
Nathlia Carolina Verissimo
Prof. Dra. Clia Marina Alvarenga Freire











Campinas-SP
Maio/2011
1. INTRODUO

As ligas de titnio so utilizadas em vrios setores industriais devido as
suas excelentes propriedades como alta tenso especfica, boa resistncia
corroso, baixa densidade e boa resistncia oxidao em temperaturas menores
do que 600 C. Essas propriedades so fatores decisivos para seu uso
particularmente em indstrias aeroespaciais. Dentre as ligas de titnio a Ti-6Al-4V
a mais importante, pois possui propriedades que se destacam como boa
trabalhabilidade e usinabilidade [1].
Algumas das ligas metlicas, aplicadas como biomaterial, com boa
aceitao clnica so: cobalto-crmio para prteses parciais removveis e ortopdica,
os aos inoxidveis para a construo de aparelhos ortodnticos e ligas de titnio
para implantes dentrios e ortopdicos. Entre essas ligas a liga Ti-6Al-4V vem sendo
bastante utilizada nos ultimos anos como como material de implante,
principalmente na aplicao de prteses ortopdicas. H na literatura vrios
trabalhos que demonstram que a sua resistncia dessa liga corroso muito
superior a muitas das alternativas atualmente disponveis, tais como aos
inoxidveis e de ligas a base de cobalto-cromo. No entanto, uma grande
preocupao tem sido desenvolvida recentemente sobre a questo da
biocompatibilidade em relao dissoluo de ons de alumnio e vandio, e suas
possibilidades de gerarem efeitos nocivos ao corpo humano [2]. O vandio um
elemento que apresenta alta citotoxicidade, e, tambm, o acmulo de alumnio no
organismo est relacionado com distrbios neurolgicos, como distrbios da fala e
memria, mudanas de personalidade, problemas motores e mal de Alzheimer [3].
A liga Ti-6Al-4V, quando aplicada como biomaterial, est sujeita a
esforos mecnicos em ambientes agressivos, como a placa bacteriana, a saliva na
cavidade bucal e os fluidos fisiolgicos do organismo, sendo necessrio o emprego
de diversas tcnicas para avaliar a resistncia ao desgaste e corroso. Os
produtos de corroso so os principais responsveis pelo comprometimento da
biocompatibilidade que deve ser local e sistmica.
As ligas de titnio so tratadas termicamente para diminuir a tenso
residual gerada no processo de fabricao (alvio de tenses); para produzir uma
combinao tima de ductilidade e estabilidade estrutural (recozimento); aumento de
resistncia (envelhecimento) e para otimizar propriedades especiais como
tenacidade fratura, resistncia fadiga e resistncia fluncia. A resposta das
ligas de titnio ao tratamento trmico depende da composio da liga e dos efeitos
dos elementos de liga na transformao - do titnio. Karimzadeh (2008) [1]
analisou a liga Ti-6Al-4V por polarizao potenciodinamica, e observou que o
tratamento trmico melhorou o comportamento de corroso da zona termicamente
afetada e da zona de fuso, entretanto no apresentou resultados significativos no
potencial de corroso do metal base.
Vrios autores estudaram o comportamento da corroso da liga Ti-6Al-4V,
sob diferentes meios, e aplicando diferentes tcnicas eletroquimicas a fim de
estabelecerem parmetros de corrosao para esta liga, dentre esses estudos
podemos citar:
Hoar e Mears [4] investigaram a resistncia corroso de algumas ligas
de implante, empregando tcnicas eletroqumicas de potencial de circuito aberto
com o tempo e polarizao andica para o Ti comercialmente puro - Ti c.p., em
soluo de Hanks, NaCl 0,17 mol L
1
e sangue humano. O Ti c.p. mostrou um alto
potencial de ruptura de filme de 6 V (Ag/AgCl) mesmo quando imerso em solues
com concentrao de 8 mol L
-1
de soluo de cloreto.
Mueller e Greenes [4] estudaram o comportamento de corroso de Ti c.p.
e da liga Ti-6Al-4V usando polarizao potenciosttica andica em uma soluo de
Ringer. O Ti c.p. exibiu comportamento passivo a potenciais acima de 1,2V (ECS)
com densidade de corrente passiva de aproximadamente 1A cm
-2
.
Speck [4], investigaram o comportamento de corroso de NiTi, Ti c.p., e
Ti-6Al-4V, em soluo de Hank, a vrios valores de pH. Foram realizados ensaios de
polarizao potenciosttica andica varrendo-se o potencial de 0 mV (ECS) at que
o potencial de ruptura de filme dos metais fosse atingido. O Ti c.p. mostrou uma
grande regio passiva e um alto potencial de ruptura de filme, acima de 2,2 V (ECS)
com densidade de corrente passiva de aproximadamente 0,1mA.cm
-2
.
Segundo Takemoto [3], os implantes dentrios confeccionados com titnio
podem sofrer alteraes em seu filme xido pela adsoro de protenas contidas na
saliva, que variam de 200 a 500 mg/L. As protenas adsorvidas alteram o filme xido
formado, aps a implantao do dispositivo, tornando-o mais susceptvel corroso
e reduzindo suas propriedades mecnicas.
Ramires e Guastaldi [4], neste trabalho procuraram elucidar a resistncia
corroso de uma liga de Ti-6Al-4V, usada como biomaterial, utilizando-se tcnicas
eletroqumicas, e avaliar o filme formado na superficie antes e aps os ensaios de
polariozao, empregando-se a tcnica de espectroscopia de fotoeltrons excitados
por raios-X (XPS).


2. REVISO

2.1. ENSAIO DE POLARIZAO POTENCIODINMICA

A liga Ti-6Al-4V como rebecida apresenta uma microestrutura de gros
(HC) e regies escuras que definem a presena da fase (CCC) ao longo dos
contornos de gro, ver Figura 1.


Figura 1 - Micrografia da liga Ti-6Al-4V como recebida.

As reaes eletroqumicas que podem ocorrer na interface de um
corpode-prova dependem do potencial de eletrodo a que a superfcie est
submetida, e o estudo destas reaes pode ser feito atravs da relao entre o
potencial aplicado e a corrente gerada nas reaes eletroqumicas (andicas e
catdicas) que se desenvolvem. Assim, a varredura contnua de potencial e o
correspondente registro da corrente gerada permitem o estudo do comportamento
eletroqumico de um material, gerando a curva de polarizao deste material [5].
A polarizao potenciodinmica a tcnica para a obteno de curvas de
polarizao, e prev a varredura contnua do potencial, iniciando-se ou no potencial
de corroso (aquele que se estabelece quando da imerso do material na soluo,
tambm chamado de potencial de circuito aberto) ou em potenciais onde
predominam reaes catdicas (aqueles menores que o potencial de corroso),
elevando-se o potencial a taxa de varredura constante. A velocidade de varredura, a
composio da soluo, o tempo de imerso anterior a varredura de potencial e a
temperatura de ensaio podem influenciar a forma das curvas de polarizao [5]. A
corrente, nas curvas de polarizao, mostrada em valores absolutos, e dividida
pela rea de material exposta s reaes, utilizando-se do conceito de densidade de
corrente. A curva de polarizao potenciodinmica sob controle potenciosttico
uma tcnica muito utilizada em estudos de corroso, uma vez que importantes
informaes podem ser obtidas, tais como, potencial de corroso, potencial de
passivao, entre outros [5].
Essa curva obtida em uma lenta varredura linear de potencial para
valores mais positivos. A curva experimental obtida utilizando este procedimento
denomina-se curva de polarizao potenciodinamica ou quase estacionria. A figura
2 ilustra um exemplo de tal curva. Inicialmente na escala de potencial est dividido
entre as regies catdicas e andicas, identificadas como regio ativa, passiva e
transpassiva. Na regio catdica, a intensidade de dissoluo do metal pode ser
lenta com pequeno ataque eletroqumico, isto dependendo do pH da soluo
eletroltica, da composio qumica da liga e de outros fatores que influenciam o
ataque eletroqumico.


Figura 2 - Esquema de curva de polarizao tpica de aos inoxidveis em meio cido [5].
Na ocorrncia simultnea dos processos catdico e andico,
estabelecem-se as correntes catdica (i
c
) e andica (i
a
) na superfcie do metal,
conduzindo-se a um potencial de equilbrio, o potencial de corroso (E
cor
), entre a
regio catdica e andica, conforme observado na Figura 2.
O potencial de corroso (E
cor
) pode ser definido como aquele em que a
taxa de oxidao exatamente igual taxa de reduo, o potencial a partir do qual
se inicia o processo de corroso metlica. No E
cor
as correntes catdica (i
c
) e
andica (i
a
) so iguais em magnitude compondo a corrente de corroso (i
cor
) .
A partir de E
cor
, observa-se na Figura 2 que a medida que aumenta-se o
potencial, a densidade de corrente tambm aumenta (esta medida de densidade de
corrente diretamente proporcional a taxa de corroso) at serem atingidos os
valores de potencial critico de passivao (E
crit
) e a de densidade crtica de
passivao (i
crit
), na qual a transio ativo-passivo ocorre. O intervalo de potencial
de E
cor
e E
crit
representa a primeira diviso da regio andica, denominada de regio
de dissoluo ativa, que caracterizada pela adsoro ativa do oxignio presente
na soluo. Na segunda diviso da regio andica, a formao de uma pelcula de
xido sobre a superfcie do metal faz com que ocorra um equilbrio dinmico entre a
superfcie metlica e os ons em soluo, ou seja, a velocidade de formao da
pelcula passiva praticamente igual velocidade de dissoluo desta.
A regio passiva, que corresponde segunda diviso da regio andica,
inicia-se no potencial crtico de passivao (E
crit
) e estende-se at o potencial de pite
(E
p
), apresentando uma densidade de corrente mnima de passivao (Ipass). Aps
atingir um determinado valor de potencial, o potencial de pite (E
p
), este equilbrio
deixa de existir e o material metlico volta a apresentar dissoluo devido ruptura
da pelcula passivadora superficial. Esta regio denominada de transpassiva.
Quanto menores os valores de densidade de corrente crtica de
passivao (I
crit
) e o potencial crtcio de passivao (E
crit
) maior a facilidade o
material metlico ter para se passivar, em um determinado meio. Quanto menor a
densidade de corrente de passivao (I
pass
), menor ser a taxa de corroso na
passividade. A densidade de corrente (i
cor
) um parmetro que permite relacionar, a
partir de uma curva de polarizao, os resultados dos testes eletroqumicos de
corroso ao tempo de vida til do material no meio.


2.2. VOLTAMETRIA CCLICA

A voltametria cclica compreende um grupo de mtodos eletroanalticos
nos quais as informaes sobre a concentrao do analito so derivadas a partir das
medidas de corrente em funo do potencial aplicado sob condies de completa
polarizao do eletrodo de trabalho, atravs do uso de microeletrodos.
A instrumentao necessria um potenciostato com gerador de
programa de potencial, computador para registrar os grficos de corrente em funo
do potencial, clula convencional de trs eletrodos e uma soluo contendo o analito
e eletrlito suporte.
A voltametria cclica uma modificao da tcnica de varredura rpida
em que se inverte a direo de varredura, segundo a reduo de interesse. Para
conseguir isso se aplica uma voltagem chamada onda triangular a clula eletroltica.
A Figura 3 mostra o padro tpico da excitao do sinal para a tcnica de
voltametria cclica. A faixa de variao do potencial aplicado deve ser aquela onde a
espcie em anlise eletroativa e o solvente estvel. Dependendo do analito
pode-se fazer apenas um ciclo ou mltiplos ciclos. Um voltamograma cclico obtido
pela medida de corrente sobre o eletrodo de trabalho (E.T.) durante a variao de
potencial (grfico de corrente em funo do potencial). A corrente pode ser
considerada o sinal responsvel pelo sinal de excitao do potencial.

Figura 3 - Tpica excitao do sinal para voltametria cclica, potencial na forma de onda
triangular.


3. MATERIAIS E MTODOS

Neste trabalho foi utilizada uma liga metlica de Ti-6Al-4V, fornecida pela
empresa Supra Alloy Inc., tratada termicamente a 712 C por 30 minutos. A
composio qumica apresentada na Tabela 1, que tambm apresenta as
concentraes mximas permitidas para o biomaterial segundo norma ASTM-F
110888 [6].

Tabela 1. Anlise Qumica dos Biomateriais. (% m/m)

.
Foram realizados ensaios de voltametria cclica e curvas de polarizao
potenciodinmica, com acompanhamento de microscopia eletrnica de varredura e
espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios X (XPS), antes e aps as
polarizaes.
A clula eletroqumica foi constituda por trs eletrodos. O eletrodo de
trabalho foi a liga Ti-6Al-4V, em forma de chapa, com rea exposta de 1 cm2, polido
mecanicamente com lixas de granulao de 280 a 2000 mesh, em seguida o
polimento foi realizado em uma politriz eltrica, com pano embebido em alumina de
granulao de 1,0 a 0,3 m. Como eletrodo de referncia, foi utilizado o eletrodo de
calomelano saturado (ECS) (Pt,Hg/Hg
2
Cl
2
/KCl
sat
), e como contra-eletrodo foi
utilizado um eletrodo de platina. Todos os ensaios eletroqumicos foram realizados
logo aps a imerso da amostra em soluo de NaCl 0,15 mol L
-1
, Merck p.a., que
simula a agressividade do fluido do corpo humano. Os equipamentos utilizados
foram Potenciostato Solartron SI 1287, potenciostato EG&G Princeton Applied
Research modelo 273 A.
As micrografias foram realizadas utilizando-se um microscpio eletrnico
de varredura JEOL-JSM, modelo T-330 A.
A tcnica de espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios X (XPS)
utiliza os eltrons de baixa energia (E < 1,5 keV) como sonda, pois seus caminhos
livres mdios nos slidos so de apenas algumas camadas atmicas e desta
maneira so aplicados na caracterizao de materiais como catalisadores,
polmeros, cermicas e metais de uma maneira geral [7].
Para a espectroscopia de fotoeltrons excitados por raios X (XPS) foi
empregado um espectromicroscpio da Kratos Analytical, modelo XSAM HS. As
anlises por XPS foram feitas em ambiente de ultra-alto vcuo e a limpeza da
superfcie de cada amostra foi feita por bombardeamento de argnio. Como a
energia dos raios X bem definida (neste caso usou-se a radiao K do magnsio,
com energia hn = 1253,6 eV), os fotoeltrons ejetados tem uma distribuio de
energia cintica constituda por picos discretos. Os caminhos livres mdios destes
fotoeltrons nos slidos so de 0,5 nm a 2,0 nm, ou seja, apenas a superfcie do
material est sendo analisada.
A identificao dos elementos presentes na superfcie foi feita diretamente
pela determinao das energias de ligao dos picos fotoeltricos. As anlises foram
feitas em ultra-alto vcuo com presso na faixa de 5x10
-7
a 1x10
-6
Pa. A potncia do
feixe de raios X foi de 180 W com emisso de 15 mA e voltagem de 12 KV. Os
espectros exploratrios foram obtidos com energia de passagem do analisador de
80 eV, enquanto que os espectros de alta resoluo, com energia de passagem do
analisador de 20 eV. O ajuste dos picos foi feito pelo mtodo de mnimos quadrados
usando o software disponvel no equipamento. Como referncia de energia de
ligao foi usado o valor 284,8 eV para o pico C 1s de hidrocarboneto (C-C ou C-H).


4. RESULTADOS E DISCUSSO

A Figura 4 mostra a curva de polarizao potenciodinmica para o Ti-6Al-
4V, onde se pode observar um potencial de corroso (E
cor
) em torno de -0,546 V.
Logo aps o potencial de corroso, ocorre uma zona de ativao com posterior
passivao numa faixa de potencial de 0 V at prximo a 1,5 V. Neste potencial h
uma ligeiro aumento de densidade de corrente, em torno de 10 A.cm
-2
, devido a
duas possibilidades, oxidao de TiO e Ti
2
O
3
ou crescimento do filme TiO
2
. Estas
duas possibilidades so coerentes, pois pelas anlises de XPS, discutidas mais
adiante, os filmes de TiO e Ti
2
O
3
e TiO
2
, ocorrem naturalmente na superfcie do
titnio. Alguns autores [8,9,10,11], apresentam esta variao de densidade de
corrente, aproximadamente 10 A.cm
-2
, como sendo uma ruptura de filme passivo, o
que no parece ser correto, pois o titnio possui uma regio de passividade que
alcana potenciais da ordem de 6 V. Alm disso, a variao de densidade de
corrente neste potencial baixa, portanto seria muito difcil atribuir este fenmeno ao
rompimento da camada passiva. Aps este aumento de corrente o processo volta a
estabilizar, fato este que revela a presena de um filme de xido na superfcie da
amostra.


Figura 4. Curva de Polarizao Potenciodinmica, liga Ti-6Al-4V, velocidade de varredura =
0,001 V s
-1
.

As Figuras 5a e 5b apresentam a superfcie da liga Ti-6Al-4V antes e
aps a polarizao potenciodinmica. Ocorre uma ligeira diferena na superfcie
deste material, que pode ser explicada pelo crescimento de uma camada de xido
sobre a superfcie, comprovada por XPS. No se observa o aparecimento de
corroso por pites na superfcie do material.
A Tabela 2 apresenta os valores de potencial de corroso (E
corr
.),
resistncia de polarizao (R
p
), corrente de passivao (i
pass
.), retirados das curvas
de polarizao da Figura 4, e seus respectivos desvios-padro destes valores.

Figura 5. MEV do Ti-6Al-4V (a) antes e (b) aps polarizao potenciodinmica.

Tabela 2. Parmetros de Corroso provenientes das curvas de polarizao.


A Figura 6 mostra o voltamograma cclico para o Ti-6Al-4V obtido na
regio de potenciais entre -1,5 V e 3 V (ECS). Este intervalo de potenciais abrange
os principais processos eletroqumicos que ocorrem na superfcie do material.


Figura 6. Voltamograma cclico, Ti-6Al-4V, velocidade varredura = 0, 025 V s
-1

Um primeiro pico de oxidao ocorre a -0,60 V com corrente de pico
andico de 54 A cm
-2
. Este pico pode estar relacionado oxidao correspondente
ao hidrognio adsorvido na rede cristalina do titnio. Esta adsoro ocorre quando
se aplicam potenciais prximos aos de descarga de hidrognio. Entre os potenciais
de -0,4 V at prximo a 0,0 V observa-se uma regio de ativao onde pode ocorrer
uma ligeira dissoluo metlica. Outra regio importante no voltamograma cclico,
uma grande faixa de estabilidade de corrente eltrica, de 0,0 at 1,5 V, com
densidade de corrente passiva de 125 A cm
-2
. Nesta fase ocorre o crescimento do
filme de TiO
2
na superfcie metlica, juntamente com a oxidao de TiO e Ti
2
O
3
, que
so formados naturalmente neste biomaterial. Um segundo pico andico
observado em potenciais de 2,064 V, e densidade de corrente andica de 168 A
cm
-2
. Este pico est relacionado com o aumento de espessura da camada de xido
formada na superfcie.
Na regio catdica do voltamograma observa-se um pico a -0,90V e
densidade de corrente catdica de 80 A cm
-2
. Para se conhecer a origem do pico
catdico, foram realizados cortes de potencial em vrias regies do voltamograma
cclico, da Figura 6.
Os resultados (Figura 7 a, b, c, d) mostraram que o pico catdico comea
a aparecer aps a regio de ativao do material, e tende a crescer com o aumento
do potencial, isto indica que ocorre uma reduo parcial do xido de titnio formado
na superfcie do material. A polarizao catdica pode produzir um decrscimo na
camada de xido do titnio. Este fato explicado pela eletroreduo parcial de Ti
(IV) a potenciais prximos a reao de descarga de hidrognio.



Figura 7. Voltamograma cclico, Ti-6Al-4V, velocidade varredura = 0, 025 V s
-1
. a) corte a -0,4
V; b) corte a -0,1 V; c) corte a +0,8 V; d) corte a +1,5V.


4.1. ESPECTROSCOPIA DE FOTOELTRONS EXCITADOS POR RAIOS X - XPS

Foram realizadas as anlises de espectroscopia de fotoeltrons excitados
por raios X para a liga Ti-6Al-4V. O objetivo deste ensaio foi estudar a composio
dos xidos formados antes e aps a polarizao at 4 V.
A Figura 8 apresenta o espectro de XPS para a liga Ti-6Al-4V, antes de
polarizar. A amostra foi submetida ao polimento em lixas de granulao 1500 mesh,
lavadas em gua destiladas e secadas em argnio.

Figura 8. Espectro exploratrio de XPS para a liga Ti-6Al-4V, sem polarizar.
Pode se observar os picos de Ti 2s, Ti 2p, C 1s, O 1s, Si 2p, Al 2p e V 2p.
Em uma primeira anlise pode-se concluir que a amostra, sem polarizar possui em
sua superfcie elementos formadores da liga metlica, Ti, Al, e V, alm de impurezas
como o Si e o C. Estas impurezas, principalmente o Carbono, esto presentes na
superfcie da amostra, devido a vrios fatores, dentre eles a preparao da amostra,
gua de lavagem, ar, manuseio da amostra e da prpria bomba de vcuo que por
muitas vezes libera molculas de carbono.
A Figura 9 apresenta o espectro de XPS de alta resoluo da regio do
pico Ti2p, decomposto em algumas contribuies. Este espectro mostra um pico
com energia de ligao de 453,3 eV, correspondente a titnio metlico, um pico a
455,1 eV correspondente ao xido TiO, um outro pico a 456,8 eV correspondente ao
xido Ti
2
O
3
, um pico a 458,4 eV correspondente a TiO
2
. Alm disso, observa-se um
pico de Ti
0
(titnio metlico), indicando que o biomaterial no est totalmente
recoberto com o filme de xidos que esto presentes na superfcie.

Figura 9. XPS de alta resoluo para o pico Ti 2p.

A Tabela 3 mostra as energias de ligao e contribuies dos compostos
que esto presentes na superfcie da liga. Pode se observar uma variedade de
xidos e tambm a presena de elementos metlicos como Ti, Al e V, indicando que
os filmes formados naturalmente ao ar no recobrem toda a superfcie da liga.


Tabela 3. Energias de ligao e contribuio dos espectros de alta resoluo do Ti
2p, Al 2p, V 2p, O 1s, C1s para as amostras de Ti- 6Al-4V, sem polarizar.



A Figura 10 apresenta o espectro de XPS para a liga Ti-6Al-4V,
polarizada at 4 V. Pode se observar os picos de Ti 2p, Ti 3p, C 1s, O 1s,. Em uma
primeira anlise pode-se concluir que a amostra, polarizada possui em sua
superfcie somente picos de titnio, alm de impurezas como o Si e o C.

Figura 10. Espectro exploratrio de XPS para a liga Ti-6Al-4V, polarizada at 4V.
A Figura 11 apresenta o espectro de alta resoluo para o Ti 2p,
mostrando, a 458,3 eV, somente a presena de TiO
2
na superfcie da liga.

Figura 11. XPS de alta resoluo para o pico Ti 2p.

A Tabela 4 mostra um resumo das energias de ligao e contribuio dos
picos, para a liga Ti-6Al-4V polarizada. Os resultados apresentados mostram que o
pico de maior contribuio o TiO
2
, o nico xido presente na superfcie da liga
aps a polarizao. As contribuies de outros picos so referentes a impurezas
agregadas na superfcie da liga durante a elaborao dos ensaios de corroso e da
tcnica de XPS.

Tabela 4. Energias de ligao e contribuio para Ti 2p, O 1s e C 1s para a liga Ti-
6Al-4V polarizada at 4V.



5. CONCLUSO
Os ensaios eletroqumicos, realizados para a liga Ti-6Al-4V, mostraram
alguns pontos interessantes, quanto ao comportamento dos mesmos, em um meio
agressivo de cloreto de sdio.
As curvas de polarizao potenciodinmica mostram que a liga Ti-6Al-
4V possui elevada resistncia corroso.
As micrografias, realizadas atravs da microscopia eletrnica aps a
polarizao, demonstram que o biomaterial no sofreu corroso por
pite, no ocorrendo rompimento de filme at potenciais de 3V.
Os voltamogramas cclicos indicam que para a liga Ti-6Al-4V ocorre
um crescimento de xido de titnio que protege o material contra a
agressividade do meio.
Pelos resultados das tcnicas de XPS, pode-se concluir que o filme
formado naturalmente, constitudo de uma variedade de xidos, e
que o mesmo no recobre toda a superfcie da amostra, devido ao
aparecimento de Ti, Al e V metlicos.
Aps os ensaios de polarizao, somente o xido TiO
2

predominante na superfcie.



REFERNCIAS

[1] T. Sugahara; C. Moura Neto; D.A.P. Reis; F. Piorino Neto.
CARACTERIZAO MECNICA E MICROESTRUTURAL DA LIGA Ti-6Al-4V
TRATADA TERMICAMENTE. Revista Brasileira de Aplicaes de Vcuo, v. 27,
n.4, 195-199, 2008.

[2] F. Karimzadeh, M. Heidarbeigy, A. Saatchi. Effect of heat treatment on
corrosion behavior of Ti6Al4V alloy weldments. Journal of Materials
Processing Technology 206, 388394, 2008.

[3] F. Enokibara, L. C. F. Canale, J. M. D. A. Rollo, P. A. Nascente.
Caracterizao Superficial e Anlise de Corroso das Ligas Ti-6Al-4V e Ti-
10Mo em Meios Fluoretados. Minerva, 5: 85-95, 2001.

[4] I. Ramires; A. C. Guastaldi. Estudo do biomaterial Ti-6Al-4V empregando-se
tcnicas eletroqumicas e XPS. Qumica Nova, Vol. 25, n.1, 10-14, 2002.

[5] WOLYNEC, Stephan. Tcnicas Eletroqumicas em Corroso. So Paulo:
Edusp, 2003.

[6] ASTM, standard specification for Ti-6Al-4V alloy casting for surgical
implants, F1108-88, 1988.

[7] Nascente, P.A.P.; Rev. Bras. Aplic. Vcuo 1998, 17, 15.

[8] Speck, K.M.; Fraker, A.C.; J. Dent. Res. 1980, 59, 1590.

[9] Okasaki, Y.; Kyo, K.; Ito, Y.; Tateishi, T.; Mater. Trans. JIM 1997, 38, 344.

[10] Oda, Y.; Funasaka, M.; Sumii, T.; J. Dent. Mater. 1990, 9, 314.

[11]. Elagli, K.; Traisnel, M.; Hildebrand, H. F.; Electrochim. Acta 1993, 38,
1769.