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Porto Alegre
2004
MINISTRIO DA EDUCAO
UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO SUL
Escola de Engenharia
Programa de Ps-Graduao em Engenharia de Minas, Metalrgica e de Materiais
PPGEM
Trabalho
realizado
no
Laboratrio
de
Materiais
Polimricos
(LAPOL)
do
Porto Alegre
2004
II
Banca Examinadora:
Prof. Dr. Carlos Arthur Ferreira (orientador) PPGEM/UFRGS
Prof. Dra Maria Madalena de Camargo Forte PPGEM/UFRGS
Prof. Dra. Sandra Einloft (LOR) - PUC/RS
Prof. Dr. Sandro Campos Amico DEMEC/PR
AGRADECIMENTOS
um
pouco
melhor
grandiosidade
deste
universo
seu
comportamento.
A meus pais, que me deram a vida e me apoiaram em todas as situaes do
cotidiano.
Ao professor Carlos Arthur Ferreira pela disposio e interesse em orientarme neste trabalho e pelo seu estmulo, dedicao e esforo proporcionado.
Aos Professores Maria Madalena de Camargo Forte e Raquel Mauler pelas
valiosas contribuies.
Aos colegas Daniel Kersting, Vincius de Andrade, Flvia Monteiro, Maria
Teresa Campezato, Miguel Bastos, Franco Amado, Giovani Rosa, Maria Denise,
Fabrcio Celso, Vincius Veronese, Jones de Andrade e Dbora Bertolazzi pelas
sugestes e outras observaes importantes.
Aos alunos de iniciao cientfica, Misael Schleger, Adriana Feurharmel,
Jfersom Machado pelo interesse e dedicao ao trabalho desenvolvido.
Aos voluntrios Rafael Trindade e Carla Bianchini pelo interesse, pelo tempo
disponibilizado e pelo timo trabalho realizado.
UFRGS, PPGEM, LAPOL, CNPq, CAPES pelo suporte tcnico e financeiro.
Enfim, a todos que colaboraram positivamente ou negativamente na
elaborao deste trabalho, o meu reconhecimento e gratido.
VI
SUMRIO
LISTA DE FIGURAS....................................................................................................X
LISTA DE TABELAS...............................................................................................XIV
LISTA DE ABREVIATURAS E SMBOLOS.............................................................XV
RESUMO..................................................................................................................XVI
ABSTRACT.............................................................................................................XVII
INTRODUO ......................................................................................................1
OBJETIVOS..........................................................................................................4
RESINAS FENLICAS....................................................................................5
3.1.1
Histrico ............................................................................................................... 5
3.1.2
Estabilidade........................................................................................................ 20
3.1.4
Propriedades...................................................................................................... 21
3.1.5
Aplicaes.......................................................................................................... 25
3.2
COMPSITOS ..............................................................................................27
3.2.1
Introduo .......................................................................................................... 27
3.2.2
3.2.3
3.2.4
3.2.5
3.2.6
3.3
Aplicaes de Compsitos................................................................................. 36
3.3.1
Introduo .......................................................................................................... 38
3.3.2
3.3.3
3.3.4
3.3.5
3.3.6
3.3.7
4.1.1
Materiais e Equipamentos.................................................................................. 53
4.1.2
4.1.3
Consideraes Gerais........................................................................................ 56
4.2
4.2.1
Determinao do pH .......................................................................................... 57
4.2.2
Colorimetria........................................................................................................ 58
4.2.3
4.2.4
Viscosimetria...................................................................................................... 58
4.2.5
4.2.6
4.2.7
4.2.8
4.2.9
5.1.1
5.1.2
5.1.3
5.1.4
Viscosimetria...................................................................................................... 67
5.1.6
5.1.7
5.1.9
CONCLUSES ...................................................................................................92
TRABALHOS FUTUROS....................................................................................95
BIBLIOGRAFIA ..................................................................................................97
ANEXO 1..................................................................................................................108
IX
LISTA DE FIGURAS
Figura 1. Etapas da reao entre o fenol e o formaldedo segundo Freeman e Lewis [21]................... 8
Figura 2. Reao entre o fenol e o formaldedo em diferentes concentraes e pH [24]. ..................... 9
Figura 3. Possveis mecanismos de reao para a formao de resinas fenlicas. (A) Reao de
adio eletroflica; (B) Reao de substituio eletroflica. .................................................................. 10
Figura 4. Efeito do pH no tempo de inicio da reao de policondensao de resinas fenlicas do tipo
resol e novolaca temperatura de 1200C [31]...................................................................................... 14
Figura 5. Mecanismo de formao de um pr-polmero fenlico do tipo novolaca. (A) Protonao do
grupo carbonila do metileno glicol; (B) Mecanismo de Substituio Eletroflica Aromtica na posio
orto. ....................................................................................................................................................... 16
Figura 6. Formao de um intermedirio da reao entre o fenol e o formaldedo cujas substituies
metilnicas entre os anis aromticos se encontram nas posies orto-orto do anel. ........................ 17
Figura 7. Mecanismo de reao para a formao da hexametiltetramina (HMTA) [18]. A reao
reversvel mediante a adio de calor. ................................................................................................. 19
Figura 8. Variao da resistncia a trao, compresso e flexo de resinas fenlicas em funo da
temperatura [45]. ................................................................................................................................... 24
Figura 9. Variao do mdulo de trao, compresso e flexo de resinas fenlicas em funo da
temperatura [45]. ................................................................................................................................... 24
Figura 10. Densidade tica de resinas fenlicas, epxi e polister conforme norma ASTM E 662-95
[46]......................................................................................................................................................... 25
Figura 11. Exemplos de compsitos. (a) Plstico reforado com fibra de vidro; (b) Ferrita e Cementita;
(c) Palha e barro [46]............................................................................................................................. 27
Figura 12. Resistncia trao de vrios materiais em funo de sua densidade [47]....................... 28
Figura 13. Resistncia mecnica de plsticos reforados e outros materiais. [48]. ............................. 32
Figura 14. Mdulo de elasticidade de plsticos reforados e outros materiais. [48]. ........................... 32
X
Figura 15. Expanso trmica de plsticos reforados e outros materiais [48]. .................................... 33
Figura 16. Massa especfica de plsticos reforados e outros materiais [48]. ..................................... 33
Figura 17. Esquema ilustrativo do processo de pultruso [46]. ............................................................ 39
Figura 18. Perfis normalmente produzidos pelo processo de pultruso [53]........................................ 41
Figura 19. Comportamento esperado da variao de viscosidade em funo da temperatura de uma
resina fenlica no interior de uma matriz aquecida [54]. ...................................................................... 48
Figura 20. Comportamento de uma resina termorrgida no interior de uma matriz aquecida. ............. 50
Figura 21. Exemplo de um perfil fenlico tipo I produzido pelo processo de pultruso utilizando uma
resina comercial do tipo resol................................................................................................................ 52
Figura 22. Modelo esquemtico do equipamento utilizado em laboratrio para a produo de resinas
fenlicas lquidas do tipo novolaca. ...................................................................................................... 54
Figura 23.Cor das resinas fenlicas em estudo sem a adio de agentes de cura aquecidas a 1000C
por 15 minutos. (A) Resina comercial GP 652D79. (B) Resina novolaca catalisada com cido
oxlico. .................................................................................................................................................. 64
Figura 24. Cores obtidas para as diferentes resinas fenlicas curadas em um banho trmico a 1300C
por 60 minutos. (A) novolaca/Ac.Oxlico-10%HMTA; (B) novolaca/Ac.Oxlico-10%HMTA/Resorcinol;
(C) novolaca/Ac. Sulfrico-10%HMTA; (D) novolaca/Ac.Sulfrico-10%HMTA/Resorcinol; (E) Resol
comercial GP 652D79-0,5%Ag.Cura GP 012G23-0,3%Desmoldante. ........................................... 65
Figura 25. Variao da viscosidade em funo do tempo de reao para a sntese de resinas
fenlicas lquidas do tipo novolaca na temperatura entre 95 e 1000C. (y) novolaca catalisada com
cido oxlico; () novolaca catalisada com cido sulfrico. ................................................................. 69
Figura 26. Influncia da velocidade da adio do catalisador (cido sulfrico) no decorrer da reao
de condensao na temperatura entre 95-1000C. () adio lenta; () adio mdia; (c) adio
rpida..................................................................................................................................................... 70
Figura 27. Variao da viscosidade em funo do tempo das resinas fenlicas estudadas 250C. ()
Resol comercial; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; (U) Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; ()
Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA/Resorcinol; (S) Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA/Resorcinol.................... 71
XI
Figura 28. Tempo de gel em funo da temperatura para as resinas fenlicas estudadas. () Resol
comercial; (c) Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; () Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; (y) Novolaca/Ac.
Oxlico-HMTA/Resorcinol; () Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA/Resorcinol. ......................................... 73
Figura 29. Curvas exotrmicas obtidas para as resinas fenlicas em estudo de acordo com o mtodo
proposto por Sumerak e Martin [69]. () Resol comercial; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; (c)
Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA/Resorcinol; ({) Novolaca/Ac.
Sulfrico-HMTA/Resorcinol; (-) Linha de base temperatura 1300C. .................................................. 74
Figura 30. Espectro de Infravermelho de resinas fenlicas: (a) Resina resol comercial GP 652G79
combinada com 0,5% de agente de cura GP 012G23 e 0,3% de desmoldante. (b) Resina novolaca
catalisada com cido oxlico e combinada com 10% de HMTA. ......................................................... 77
Figura 31. Estrutura cclica do HMTA (C6H12N4)................................................................................... 79
Figura 32. Espectro de infravermelho do HMTA (C6H12N4). ................................................................. 80
Figura 33. Espectros de infravermelho para (a) HMTA, (b) Resorcinol e (c) mistura de HMTA com o
resorcinol. .............................................................................................................................................. 81
Figura 34. Espectros de infravermelho para (a) resina resol comercial GP 652G79. (b) Resina
novolaca catalisada com cido oxlico e combinada com 10% de HMTA; (c) agente de cura GP
012G23.................................................................................................................................................. 82
Figura 35. DSC das resinas fenlicas obtidas por Ma et al. [43]. (A) Resina novolaca curada com 10%
de HMTA. (B) Resina resol curada com 5% de cido para-tolueno-sulfnico...................................... 84
Figura 36. DSC da resina fenlica comercial GP 652G79 curada com 0,5% do agente de cura GP
012G23 e 0,3% de desmoldante........................................................................................................... 85
Figura 37. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de HMTA. .............................................................................................................................. 85
Figura 38. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de HMTA. ...................................................................................................................................... 86
Figura 39. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de mistura HMTA e resorcinol............................................................................................... 86
Figura 40. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de mistura HMTA e resorcinol. ..................................................................................................... 87
XII
Figura 41. Termograma das diferentes resinas fenlicas analisadas. () Resol comercial; ({)
Novolaca/Ac.
Oxlico-HMTA;
(y)
Novolaca/Ac.
Sulfrico-HMTA;
()
Novolaca/Ac.
Oxlico-
XIII
LISTA DE TABELAS
XIV
XV
RESUMO
XVI
ABSTRACT
The synthesis and cure reactions of liquid state phenolic resins used in the
production of profiles reinforced with glass fiber using the pultrusion process has
been investigated. Chemical reactions involving phenol and formaldehyde were
carried out at the laboratory with the aim of producing liquid state novolac type
phenolic resins whose viscosity was about 700-2000 mPa.s varying the acid catalyst
type and the cure agent. The phenolic resins were submitted to analyses of Fourier
Transform Infrared Spectroscopy (FTIR), Thermogravimetry (TGA), Differential
Scanning Calorimetry (DSC), Colorimetry, Viscosimetry, Gel Time, Curing Time and
Flamability. Besides, the reactivity and the processability of these resins were also
investigated. The results were compared with those acquired for a commercial resol
type phenolic resin. It was verified that the novolac resins obtained in this work are
chemically stabler than the commercial resol. Also, the liquid state novolac type
phenolic resins completed its gelification reaction in a smaller time, increasing,
therefore, the cure reaction rate of these resins. The TGA analysis showed that the
novolac resins possess higher thermal stability and maximum temperature of
degradation than the commercial resin which assures its use in the pultrusion
process. The flamability test showed that both resins are self-extinguishing,
complying with the specifications of the UL-94. Through the results obtained in this
work, it is possible to develop liquid state novolac type phenolic resins with low cost,
which attends the demands of the national markets and is proper to the pultrusion
process.
XVII
1 INTRODUO
2 OBJETIVOS
3 REVISO DE LITERATURA
3.1
RESINAS FENLICAS
3.1.1 Histrico
(ii)
(iii)
(produto A) de resol, o produto B como resitol e o produto C como resite. Mais tarde,
Baekeland props denominar de novolaca a resina que era fusvel e termoplstica,
diferenciando ento os dois tipos de resinas fenlicas possveis. Em 1909, devido ao
sucesso obtido por Baekeland, foi fundada a Bakelite Gesellschaft mbH na
Alemanha, a primeira empresa no mundo a produzir resinas sintticas.
Posteriormente, em 1910 foi fundada a empresa General Bakelite Company nos
Estados Unidos assim como vrias outras pelo mundo.
No decorrer dos anos, com o avano da tecnologia e do conhecimento
cientfico, muito pesquisadores aperfeioaram e modificaram a produo destas
resinas permitindo seu uso nas mais variadas aplicaes e processos industriais.
Atualmente, as resinas fenlicas continuam tendo uma importncia significativa no
mercado mundial devido as suas propriedades, como por exemplo, excelente
6
(1)
Figura 1. Etapas da reao entre o fenol e o formaldedo segundo Freeman e Lewis [21].
Constantes de
Velocidade (l.mol-1.s-1)
k1 = 6,2x10-6
k2=10,5x10-6
k3 = 7,5x10-6
k4 = 7,3x10-6
k5 = 8,7x10-6
k6 = 9,1x10-6
k7=41,7x10-6
Para sistemas cujo meio reacional cido (pH entre 0 e 4,0) a velocidade de
reao de condensao proporcional concentrao de hidrognio, enquanto que
para sistemas em meio alcalino (pH entre 5,0 e 11,0) a velocidade de reao
proporcional concentrao de ons hidroxilas [23], indicando a mudana no
mecanismo de reao que tambm influenciado pela variao da razo molar
entre o fenol e o formaldedo e da concentrao do catalisador empregado. Por esta
razo, dois tipos de pr-polmeros fenlicos podem ser obtidos quando se varia o pH
do meio reacional: as resinas do tipo novolacas e as do tipo resis. A Figura 2
apresenta os diferentes tipos de resinas que podem ser obtidas e suas respectivas
condies de reao.
O-
H
+
O-
O
+ C=O
H2O
CH2OH
CH2O-
OH
H
+
H
OH+
- +
C=O H
OH
H
CH2OH
H2O
CH2OH
Figura 3. Possveis mecanismos de reao para a formao de resinas fenlicas. (A) Reao de
adio eletroflica; (B) Reao de substituio eletroflica.
10
tambm
por
ligaes
oxi-metilnicas
estvel
(-CH2-O-CH2-)
por
sua
vez,
um
polmero
que
apresenta
ligaes
cruzadas
12
13
14
Hultzsch e Von Euler [32], [33], [34], [35] em seus estudos identificaram a
formao de quinonas metdicas como intermedirios durante a reao de cura.
Estes produtos so formados a partir da eliminao de gua no decorrer da reao
entre os compostos hidroxi-metilados ou ento dos teres dibenzlicos presentes.
Como as quinonas metdicas so compostos altamente reativas elas podem formar
dmeros, trmeros ou outros oligmeros de baixa massa molar. Alm destes
intermedirios de reao, possvel verificar a liberao de formaldedo na presena
de ctions de sdio. Para diminuir a liberao deste componente na reao
necessrio controlar a formao de ligaes (-CH2-O-CH2-). Deste modo, difcil
obter uma rede tridimensional na qual todos os grupamentos fenlicos que
contenham exatamente trs ligaes oxi-metilnicas.
Alm da adio de calor ao sistema reacional, possvel curar estas resinas
temperatura ambiente utilizando um cido orgnico ou inorgnico forte. Os cidos
mais comuns so o p-tolueno sulfnico, cido clordrico e o cido fosfrico. O
mecanismo de reao corresponde ao segundo estgio da formao de uma resina
do tipo novolaca e o intermedirio reativo o ction benzlico.
HOCH2OH + H+
(A)
OH
OH
CH2OH
+
+ CH2-OH
+ H+
(B)
16
OH
OH
+
CH2
CH2OH
+ H+
OH
OH
+
CH2
+
+ H2O
OH
OH
CH2
+ H+
18
NH3 + CH2O
NH2CH2OH
Rpida
CH2O
Lenta
CH2OH
NH
CH2OH
+NH3, -H2O
NH2CH2NH2
CH2OH
NH2CH2NH2 + NH
-2 H2O
CH2OH
NH
CH2
CH2
NH
NH
CH2
+ NH(CH2OH)2
+ NH(CH2OH)2
CH2
NH
CH2
NH
CH2
NH
CH2
NH
CH2
H2 C
CH2
CH2O
CH2
N
N
CH2
CH2
CH2
HMTA
Figura 7. Mecanismo de reao para a formao da hexametiltetramina (HMTA) [18]. A reao
reversvel mediante a adio de calor.
19
3.1.3 Estabilidade
3.1.4 Propriedades
por
apresentarem
excelentes
propriedades
dieltricas
(no
conduzem
21
Propriedade
Norma
Polister
Epxi
Fenlica
DIN 53458a
115
170
180
DIN 53461b
145
180
210
DIN 53445
170
200
>300
22
Fenlica
com carga
mineral
Propriedade
Temperatura de Deflexo a 1820 kPa (0C)
Fenlica
Polister
com fibra de com fibra de
vidro
vidro
200
250
200
175
175
160
2,0
1,5
2,5
83.000
172.400
120.000
172.000
21,5
75
160
41.400
60.000
69.000
0,5
0,2
1,5
M110
E70
M50
1,5
1,85
2,0
0,03
0,5
-5
Constante Dieltrica
Fenlica
com carga
mineral
Fenlica
com fibra de
vidro
Polister
com fibra de
vidro
gua
Propriedade
Figura 10. Densidade tica de resinas fenlicas, epxi e polister conforme norma ASTM E 662-95
[46].
3.1.5 Aplicaes
25
Prdios pblicos;
26
3.2
COMPSITOS
3.2.1 Introduo
Figura 11. Exemplos de compsitos. (a) Plstico reforado com fibra de vidro; (b) Ferrita e Cementita;
(c) Palha e barro [46].
27
Figura 12. Resistncia trao de vrios materiais em funo de sua densidade [47].
Dificuldade de processamento;
Nota-se ento que estes compsitos apresentam uma habilidade nica que
30
materiais
muito
versteis
com
caractersticas
distintas,
discutidas
31
32
33
34
Caractersticas Principais
Epxi
Fenlica
Polister
Poliuretana
Silicone
ster
vinlica
Melanina-
Uria
Alqudicas
Resina Termoplstica
Tipo
Caractersticas Principais
Poliacetal
Poliimida
Poliarilato
Boa tenacidade;
Boa resistncia qumica e
trmica;
Policloreto
de vinila
Poli
propileno
Poli
Carbonato
PPS
PPO
Existem
atualmente
cerca
de
20
processos
industriais
destinados
36
ELTRICO/ELETRNICO:
Componentes
internos
externos,
junes,
37
3.3
O PROCESSO DE PULTRUSO
3.3.1 Introduo
38
Propriedade
Caracterstica
Resistncia qumica
Resistncia corroso
Resistncia especfica
Resistncia ao impacto
Mdulo de Elasticidade
Condutividade eltrica
Condutividade trmica
Estabilidade dimensional
Acabamento superficial
Absoro de umidade
Flamabilidade
Massa Especfica
40
41
42
fibras de vidro dos rovings e das mantas. Segundo Sumerak e Martin [54], esta
viscosidade deve ser em torno de 400-5000 mPa.s.
A capacidade de impregnao (I) de uma resina qualquer depende
exclusivamente da sua viscosidade inicial (), do tempo de imerso das fibras (t), da
temperatura da resina quando ela estiver no banho trmico (T) e da quantidade de
trabalho (tenso) aplicada sobre as fibras durante o processo (w). Estes parmetros
combinados resultam na seguinte equao:
T .w.t
(2)
outra parte do equipamento cuja resina tenha contato, deve ser feito com este tipo
de material. Para as demais resinas, as peas podem ser construdas em ao
comum.
O tamanho da matriz, por sua vez, afeta diretamente o desempenho e o
aspecto final dos perfis produzidos. Matrizes de tamanho inferior a um metro de
comprimento requerem um tempo maior do perfil em seu interior para que ele esteja
bem curado. Isto diminui a velocidade de processo e conseqentemente a
produtividade. Entretanto, matrizes cujo comprimento superior a um metro so
caras e pesadas, o que dificulta a sua utilizao no processo. Normalmente,
possvel produzir perfis pultrudados em matrizes de um metro de comprimento com
vrias resinas termorrgidas.
Para que uma resina termorrgida inicie e complete a sua reao de cura
ainda no interior da matriz, necessrio que as zonas de aquecimento na superfcie
desta sejam ajustadas de forma a produzir o calor necessrio para que esta reao
ocorra. A temperatura definida em funo do mecanismo de cura da resina e pode
ser otimizada mediante a utilizao de equipamentos especficos, como o
GELSTAR [55], que analisa o efeito da temperatura e a velocidade de
processamento mediante a utilizao de termopares flexveis no interior do perfil que
est em formao na parte interna da matriz.
Por fim, a quantidade de fibra de vidro (rovings e mantas) a ser utilizada neste
processo depende exclusivamente da trs variveis principais do processo.
Entretanto, uma quantidade entre 65 e 85% suficiente para produzir perfis com alto
desempenho das propriedades mecnicas e com excelente acabamento de
superfcie. A utilizao de um desmoldante lquido ideal para conferir um bom
acabamento ao perfil. Desmoldantes slidos, por sua vez, so mais baratos, porm o
aspecto final do produto inferior.
de compsitos. Em alguns casos, este crescimento pode ser superior a 12% ano. De
fato, o mercado mundial est produzindo atualmente mais de 40 mil toneladas de
material pultrudado por ano, segundo fontes provenientes do Instituto de
Compsitos, patrocinada pela Sociedade da Indstria Plstica (SPI) americana [46].
A demanda de perfis pultrudados na Amrica Latina chegou a 800 toneladas
por ano em 1995. Estimativas apontam um consumo de aproximadamente 1000
toneladas/ano em 1996 e cerca de 1200 toneladas/ano no ano 2000 [52], segundo a
Associao Brasileira do Plstico Reforado (ASPLAR). Estes valores so
expressivos tendo em vista que o mercado brasileiro ainda considerado novo e
pouco competitivo neste setor em particular. O mesmo no acontece para outros
compsitos produzidos no Brasil.
Estudos recentes avaliam os desafios e o potencial que este tipo de processo
enfrentar nos prximos anos.
46
No que diz respeito ao tamanho da matriz, ela deve ser maior do que aquelas
empregadas para as polisteres, ster-vinlicas ou epxi. O tamanho ideal de um
metro e meio, mas possvel fabricar perfis em matrizes de um metro de
comprimento com uma formulao adequada. H duas razes para isto. A primeira
reside no fato de que o perfil precisa permanecer no interior da matriz por
aproximadamente um minuto para que seja possvel atingir o melhor desempenho
das propriedades mecnicas. Isto significa que a velocidade de processo deve ser
no mnimo de um metro por minuto para que seja economicamente vivel. A outra
razo est relacionada com a temperatura do perfil no interior da matriz. Para
produzir um produto fenlico de boa qualidade e bom desempenho necessrio que
o perfil percorra a matriz por trs estgios de aquecimento diferenciados.
A Figura 20 apresenta um esquema genrico do comportamento de uma
resina termorrgida qualquer no interior da matriz [46]. O tamanho da matriz, a
velocidade de tracionamento contnuo e a temperatura das zonas de aquecimento
devem ser adequados para que uma resina polimrica possa ser curada ainda no
seu interior.
Nota-se que h trs zonas especficas, a zona lquida, onde a resina se
encontra no seu estado inicial, a zona de gel, onde h uma mudana brusca de
viscosidade e a zona slida, onde a resina completa sua reao de cura. Da mesma
forma, existem as foras de cisalhamento, as coesivas e as de frico
respectivamente. As foras de cisalhamento so decorrentes da tenso exercida
sobre as fibras pelo sistema de tracionamento. As foras coesivas so originrias da
combinao entre a resina e as fibras a altas temperaturas no estado onde aumenta
a viscosidade da resina at atingir o estado de gel. Quando a reao de cura se
completa, h o surgimento das foras de frico que o perfil exerce sobre as paredes
da matriz.
49
Figura 20. Comportamento de uma resina termorrgida no interior de uma matriz aquecida.
Figura 21. Exemplo de um perfil fenlico tipo I produzido pelo processo de pultruso utilizando uma
resina comercial do tipo resol.
Estudos atuais [42], [43] mostram que possvel desenvolver uma resina
fenlica de baixo custo que atende as exigncias de mercado nacional e que pode
ser aplicada no processo de pultruso.
52
4 PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL
4.1
de cura empregado apresenta carter bsico. Esta resina foi sintetizada pela
empresa Syntheko Produtos Qumicos S.A., localizada em Gravata, no Rio Grande
do Sul sob liberao da empresa Georgia Pacific Resins Inc. situada em
Massachussets, nos Estados Unidos. Amostras desta resina foram doadas pela
empresa Webber Perfis Pultrudados Ltda, localizada em Torres no Rio Grande do
Sul.
53
Figura 22. Modelo esquemtico do equipamento utilizado em laboratrio para a produo de resinas
fenlicas lquidas do tipo novolaca.
54
entretanto, foi na concentrao do cido oxlico que foi superior a do cido sulfrico
em 9% alm de no precisar ser diludo em gua. Devido natureza deste cido, a
reao de condensao no precisou ser neutralizada com uma base.
necessria uma vez que a presena da gua em combinao com a resina fenlica
e o agente de cura afeta o desempenho da reao de cura.
A escolha da utilizao do cido oxlico como catalisador de reao
justificada pelo fato de que ele um cido mais fraco que sublima a 1570C na
presso ambiente e se decompe a temperaturas acima de 1800C formando CO,
CO2 e H2O. Estes componentes no precisam ser retirados do sistema ao final da
reao de cura. Alm disso, ele no corri o reator de sntese, a matriz de ao e
tampouco o banho trmico utilizado para acomodar a resinas durante o processo de
impregnao sobre as fibras de vidro no processo de pultruso. O mesmo no
acontece com o cido sulfrico.
Da mesma forma, a escolha da mistura de HMTA e resorcinol como agente de
cura justificada tendo em vista a necessidade de produzir resinas fenlicas que
apresentem um tempo de cura relativamente pequeno quando comparados com os
sistemas tradicionais, que envolvem apenas o HMTA. A mistura obtida estvel
temperatura ambiente e solvel em uma srie de solventes orgnicos, inclusive na
prpria resina fenlica. Isto facilita a homogeneizao do sistema permitindo uma
boa impregnao de resina sobre as fibras.
4.2
4.2.1 Determinao do pH
4.2.2 Colorimetria
4.2.4 Viscosimetria
58
As
resinas
fenlicas
foram
analisadas
utilizando
um
analisador
61
5 RESULTADOS E DISCUSSO
5.1
componentes
ficou entre 7,0 e 8,0. Para que isto fosse possvel, foi necessrio neutralizar
completamente as reaes que continham o cido sulfrico como catalisador. Isto
tambm diminuiu a reatividade destas resinas minimizando as alteraes de
viscosidade ps-reao. Para o caso das resinas catalisadas com o cido oxlico,
no foi necessrio adicionar nenhum reagente para neutralizar a reao, uma vez
que este cido um cido fraco e reage mais lentamente do que o cido sulfrico.
Conclui-se ento que a adio de um catalisador cido ao sistema acelera a reao
de polimerizao favorecendo assim a obteno de um pr-polmero fenlico.
Uma diferena significativa no tempo de reao foi observada para os dois
tipos de cido empregados. Verificou-se que a reao de formao do pr-polmero
ocorreu mais rapidamente no sistema que continha o cido sulfrico como
catalisador. Para este sistema, o incio da reao ocorreu por volta de 10 minutos
aps a adio do formaldedo e do fenol. Para o cido oxlico, entretanto, o incio da
reao ocorreu somente depois de passados 30 minutos. Isto se deve natureza do
cido em questo. O cido sulfrico apresenta um valor de pKa = -9, muito mais
negativo do que do cido oxlico (pKa = 1,2) e por isto tende a se ionizar
rapidamente em soluo aquosa formando ons H+ que sero utilizados para
protonar o metileno glicol oriundo do formaldedo aquoso. Esta reao foi
anteriormente mostrada na Figura 5 onde se verifica a presena da espcie
protonada +CH2-OH que ser o agente eletrfilo que ir substituir o hidrognio nas
posies orto e para do anel aromtico. Como a espcie que contm o grupo metilol
ligado ao anel uma estrutura intermediria e instvel em meio cido, haver a
formao quase imediata de ons benzlicos carbnicos que reagiro com outras
molculas de fenol para formar estruturas aromticas contendo o grupo OH e
ligados por pontes metilnicas nas posies para do anel [18]. por esta razo que
as resinas fenlicas do tipo novolaca no realizam a reao de reticulao sem um
agente de cura especfico.
Figura 23.Cor das resinas fenlicas em estudo sem a adio de agentes de cura aquecidas a 1000C
por 15 minutos. (A) Resina comercial GP 652D79. (B) Resina novolaca catalisada com cido
oxlico.
Figura 24. Cores obtidas para as diferentes resinas fenlicas curadas em um banho trmico a 1300C
por 60 minutos. (A) novolaca/Ac.Oxlico-10%HMTA; (B) novolaca/Ac.Oxlico-10%HMTA/Resorcinol;
(C) novolaca/Ac. Sulfrico-10%HMTA; (D) novolaca/Ac.Sulfrico-10%HMTA/Resorcinol; (E) Resol
comercial GP 652D79-0,5%Ag.Cura GP 012G23-0,3%Desmoldante.
A cor amarela intenso pode ser explicada pela reao de degradao que
ocorre com o HMTA entre 130 e 1600C para se converter especificamente em NH3 e
formaldedo. O formaldedo utilizado para formar estruturas do tipo -CH2-NH-CH2que serviro como pontes de unio entre os anis aromticos e o NH3 atua como
catalisador da reao. A combinao destas espcies com o fenol em excesso da
reao de condensao produz estruturas intermedirias conhecidas como as
benzilaminas, benzoxazinas e outras estruturas que apresentam ligaes do tipo
-CH=N- tambm conhecidas como azometinas. Estas so as espcies que
apresentam a cor amarela intenso.
65
No caso das resinas curadas com a mistura de HMTA com resorcinol, este
mesmo fenmeno ocorre em combinao com a reao de oxidao do resorcinol
quando exposto ao ar, luz e aquecimento. Por esta razo, a cor laranja intenso
observada. Alm disto, possvel ainda observar uma leve diferena de cor entre as
espcies catalisadas com cido sulfrico e oxlico. Resinas catalisadas com o cido
sulfrico apresentaram uma cor mais escura do que aquelas contendo apenas o
cido oxlico. Isto mostra a influncia do cido na formao das cores das resinas
fenlicas curadas.
Solvente
Solubilidade
lcool Isoproplico
S
Propileno Glicol
S
Polipropileno Glicol
S
Acetato de Etila
S
Mistura Etanol e Acetato de Etila
S
Acetona
S
Etanol
S
Metanol
S
Tetracloreto de Carbono
N
Tolueno
N
(S) solubilidade positiva; (N) solubilidade negativa.
5.1.4 Viscosimetria
68
4000
3500
Viscosidade (mPa.s)
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
0
10
20
30
40
50
60
Tempo de Reao (min)
70
80
90
Figura 25. Variao da viscosidade em funo do tempo de reao para a sntese de resinas
fenlicas lquidas do tipo novolaca na temperatura entre 95 e 1000C. (y) novolaca catalisada com
cido oxlico; () novolaca catalisada com cido sulfrico.
5000
4500
Viscosidade (mPa.s)
4000
3500
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
0
10
20
30
40
50
60
70
Figura 26. Influncia da velocidade da adio do catalisador (cido sulfrico) no decorrer da reao
de condensao na temperatura entre 95-1000C. () adio lenta; () adio mdia; (c) adio
rpida.
10% HMTA e 10% de mistura HMTA e resorcinol como agentes de cura. A resina
resol comercial contm 0,5% de agente de cura GP 012G23 e 0,3% de
desmoldante.
10000
9000
8000
Viscosidade (mPa.s)
7000
6000
5000
4000
3000
2000
1000
0
0
10
15
20
25
Tempo (horas)
Figura 27. Variao da viscosidade em funo do tempo das resinas fenlicas estudadas 250C. ()
Resol comercial; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; (U) Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; ()
Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA/Resorcinol; (S) Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA/Resorcinol.
O tempo de gel pode ser definido como o intervalo de tempo logo aps a
adio do agente de cura na resina, at o ponto em que se observa o aumento da
sua viscosidade. Este ponto caracterizado pela formao de uma estrutura
tridimensional insolvel e de aspecto borrachoso [37], [46]. O tempo de gel
diretamente dependente da temperatura, do tipo e da concentrao do agente de
cura empregado.
Uma resina fenlica precisa ser muito reativa a fim de poder ser utilizada no
processo de pultruso, ou seja, ela necessita realizar a sua reao de cura no
interior da matriz, caso contrrio, o perfil apresentar defeitos que afetaro
drasticamente a sua propriedade mecnica e seu aspecto final. Por esta razo, a
determinao e a otimizao do tempo de gel fundamental no processo. Quanto
menor for o tempo para que a resina fenlica inicie sua reao de cura, menor ser o
tempo necessrio para resina atingir o estado gel e curar consequentemente. Este
conhecimento permite definir, por exemplo, a velocidade de produo que ser
utilizado na pultrusora.
A Figura 28 apresenta a variao do tempo de gel em funo da temperatura
para as resinas fenlicas analisadas. Observou-se que este tempo diminui
drasticamente medida que a temperatura elevada at atingir 1500C para ambas
resinas novolacas e 1700C para a resina resol comercial.
O fato do tempo de gel ser menor para as resinas novolacas curadas com
HMTA e mistura de HMTA com resorcinol quando comparadas com a resina resol
comercial explicado em funo da converso da hexamina em formaldedo e NH3
que ocorre a 130-1600C. Neste ponto, uma reao de aminoalquilao ocorre entre
o formaldedo produzido, o pr-polmero e a amnia para formar estruturas do tipo
CH2-NH-CH2- e CH2- que serviro como pontes de ligao entre os anis
aromticos.
Alm
disto,
presena
do
resorcinol
na
mistura
acelera
consideravelmente a reao de cura, uma vez que ele uma espcie muito reativa
devido presena de dois grupos OH ligados ao anel aromtico. Ao se combinar
com o formaldedo produzido da hidrlise do HMTA, uma reao rpida entre as
espcies ocorrer formando ento uma estrutura tridimensional e rgida. Por esta
72
175
150
125
100
75
50
25
0
110
130
150
170
190
210
230
Temperatura (0C)
Figura 28. Tempo de gel em funo da temperatura para as resinas fenlicas estudadas. () Resol
comercial; (c) Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; () Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; (y) Novolaca/Ac.
Oxlico-HMTA/Resorcinol; () Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA/Resorcinol.
73
Embora este mtodo seja eficiente para a determinao do tempo de gel, ele
no permitiu definir, por exemplo, a temperatura mxima de cura, tambm chamada
de pico exotrmico e o tempo de cura das resinas fenlicas. Um outro mtodo, que
rpido e simples foi sugerido por Sumerak e Martin [69] para resinas do tipo polister
e que pode ser estendida para outras resinas termorrgidas. O conhecimento destes
parmetros pode ajudar a definir as variveis finais do processo de pultruso, como
a velocidade de tracionamento e as temperaturas das zonas de aquecimento sobre
a matriz. Como este um mtodo geralmente aplicado para resinas do tipo polister,
a sua utilizao para resinas fenlicas inovadora. O grfico obtido por para as
resinas fenlicas em estudo pode ser visto na Figura 29.
150
125
Temperatura ( C)
100
75
50
25
0
0
300
600
900
1200
1500
1800
Tempo (s)
Figura 29. Curvas exotrmicas obtidas para as resinas fenlicas em estudo de acordo com o mtodo
proposto por Sumerak e Martin [69]. () Resol comercial; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA; (c)
Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA; () Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA/Resorcinol; ({) Novolaca/Ac.
Sulfrico-HMTA/Resorcinol; (-) Linha de base temperatura 1300C.
condies apresentadas. A razo disto est no fato de que estas resinas liberaram
pouca energia trmica durante a sua reao de cura. Por esta razo a determinao
dos parmetros de estudo conforme foi proposto na seo 4.2.6 no foi possvel
utilizando este mtodo.
Por outro lado, as curvas exotrmicas apresentadas mostraram que as
resinas fenlicas curadas com a mistura de HMTA e resorcinol iniciaram sua reao
de cura mais rpido do que aquelas que continham apenas o HMTA como agente de
cura. Isto pode ser observado no grfico da Figura 29 pelo aumento gradativo da
temperatura das resinas novolacas aps a liberao de seus componentes volteis
em temperaturas acima de 1000C. Para a resol comercial, a temperatura onde
ocorreu liberao de seus subprodutos reacionais foi em torno de 1150C.
Da mesma forma, as resinas catalisadas com o cido oxlico mostraram ser
mais reativas do que as demais de modo que iniciaram sua reao de cura em um
tempo menor do que as resinas que foram catalisadas com o cido sulfrico. Por
outro lado, a resina fenlica comercial iniciou sua reao de cura em um tempo
muito maior do que as novolacas. Isto comprova que as resinas novolacas foram
mais reativas que a resina comercial, o que demonstra o seu melhor desempenho
neste aspecto em particular. A Tabela 8 mostra o incio da reao de cura obtido
para as resinas fenlicas de estudo.
Tabela 8. Tempo de incio da reao de cura das resinas fenlicas em estudo.
Liberao de
Tempo de Incio da
Subprodutos ( C)
Resol comercial
115
950
Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA
100
680
Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA
100
780
Novolaca/Ac. Oxlico-HMTA/Resorcinol
100
500
Novolaca/Ac. Sulfrico-HMTA/Resorcinol
100
700
Tipo de Resina
75
para a resol comercial. Isto pode ser observado no grfico pela regio em que a
temperatura se mantm constante ao longo do tempo.
As resinas novolacas curadas com a mistura de HMTA e resorcinol liberaram
uma quantidade menor de compostos volteis do que aquelas contendo apenas o
HMTA como agente de cura. Da mesma forma, as novolacas liberaram menos
componentes volteis do que a resina comercial. Isto est de acordo com o que foi
obtido pelo TGA e que est mostrado na Figura 41. Assim, as resinas fenlicas do
tipo novolaca so mais adequadas para serem utilizadas no processo de pultruso,
uma vez que a liberao excessiva de componentes volteis interfere na
estabilidade estrutural do perfil pultrudado.
Visto que a maioria das resinas fenlicas utilizadas no processo de pultruso
do tipo resol ou uma variao desta, a anlise da reatividade das resinas fenlicas
utilizando este mtodo mostrou a viabilidade de realizar o processo de pultruso
utilizando uma resina novolaca lquida, que mais reativa e que libera uma
quantidade menor de componentes volteis no decorrer da sua reao de cura
frente a uma resina resol comercial. Por esta razo, o tempo de gel um parmetro
importante e decisivo para escolher uma resina fenlica a ser aplicada neste
processo.
(b) Novolaca
(b)
%T
(a) Resol
(a)
4000,0
3000
2000
1500
1000
400,0
cm-1
Figura 30. Espectro de Infravermelho de resinas fenlicas: (a) Resina resol comercial GP 652G79
combinada com 0,5% de agente de cura GP 012G23 e 0,3% de desmoldante. (b) Resina novolaca
catalisada com cido oxlico e combinada com 10% de HMTA.
espectro do HMTA est mostrado na Figura 32, onde foi possvel verificar a
presena de uma banda larga e pouco intensa prxima regio de 3500 cm-1.
Os movimentos de deformao das ligaes OH do fenol podem ser
observados 1360 cm-1. A presena deste grupo ligado ao anel aromtico fez surgir
tambm uma banda espectral na regio de 1300 e 1180 cm-1, que atribuda
especificamente aos movimentos de vibrao das ligaes -C-O- do fenol.
Dependendo da posio dos substituintes, a intensidade e a posio desta banda
varia.
As vibraes de estiramento dos hidrognios alifticos oriundos das ligaes
CH2- podem ser observados atravs de uma srie de picos de intensidade fraca na
faixa de 2980 e 2850 cm-1. As vibraes de deformao destas ligaes so
aparentes na faixa de 1250 a 1200 cm-1, onde se verificou a presena de uma banda
de intensidade mdia e estreita, o que indica que os grupos metilnicos CH2- so
as espcies predominantes que unem os anis aromticos. Entretanto, foi possvel
observar na regio prxima a 1000 cm-1 o aparecimento de uma banda espectral
mdia e larga que corresponde aos grupos CH2-OH (metilol) que somente so
visveis para as resinas fenlicas do tipo resol.
A presena de teres metilnicos no espectro de infravermelho para as
resinas fenlicas do tipo resol est associada com a vibrao de estiramento que
ocorre nas ligaes -C-O-C- destas espcies. Como este tipo de vibrao envolve os
tomos de oxignio, a sua mudana de dipolo ser maior do que nas ligaes -C-Ce por isto as bandas originrias sero mais intensa para os teres. Alm disto, estas
bandas sofrem o efeito de acoplamento com o resto da estrutura molecular o que
permitiu obter bandas numa faixa de 1050 e 1205 cm-1 [72], [74]. Ainda foi possvel
verificar a presena de uma banda espectral na regio de 1120 cm-1 o que
corresponde ao estiramento assimtrico da ligao -C-O-C- que s pode ser
observada para as resinas fenlicas do tipo novolaca.
A regio de 1600 cm-1 apresenta uma banda estreita e de intensidade mdia
que normalmente destinada aos movimentos vibracionais das ligaes -C=C- do
anel aromtico. A intensidade do pico, entretanto, dependente da natureza e
posio dos substituintes. Da mesma forma, as bandas espectrais que apareceram
78
79
3000
2000
1500
1000
400,0
cm-1
resinas fenlicas frente aquelas que utilizam apenas o HMTA ou o formaldedo como
agente de reticulao. De fato, este decrscimo no tempo de gel foi constatado
neste trabalho e est descrito na seo 5.1.5.
A Figura 33 apresenta o espectro da mistura envolvendo o HMTA e o
resorcinol. Para facilitar a anlise da espcie qumica formada, foram adicionados os
espectros do HMTA e do resorcinol.
(a) HMTA
(a)
(b) Resorcinol
(b)
%T
(c)e Resorcinol
(c) HMTA
4000,0
3000
2000
1500
1000
400,0
cm-1
Figura 33. Espectros de infravermelho para (a) HMTA, (b) Resorcinol e (c) mistura de HMTA com o
resorcinol.
(a)
(b)
%T
(c)
4000,0
3000
2000
1500
1000
400,0
cm-1
Figura 34. Espectros de infravermelho para (a) resina resol comercial GP 652G79. (b) Resina
novolaca catalisada com cido oxlico e combinada com 10% de HMTA; (c) agente de cura GP
012G23.
Isto no significa que este agente de cura seja obrigatoriamente uma resina
fenlica, mas um forte indicativo, uma vez que j conhecido que a utilizao
deste tipo de agente melhora significativamente a qualidade e a processabilidade da
resina fenlica quando combinada com fibras de vidro.
83
Figura 35. DSC das resinas fenlicas obtidas por Ma et al. [43]. (A) Resina novolaca curada com 10%
de HMTA. (B) Resina resol curada com 5% de cido para-tolueno-sulfnico.
84
0.0
-0.2
-0.4
-0.6
-0.8
-1.0
-1.2
60
80
100
120
Exo Up
140
160
180
200
220
240
Temperature (C)
Figura 36. DSC da resina fenlica comercial GP 652G79 curada com 0,5% do agente de cura GP
012G23 e 0,3% de desmoldante.
135.20C
189.19C
0.0
-0.2
-0.4
-0.6
-0.8
60
Exo Up
80
100
120
140
160
Temperature (C)
180
200
220
240
Figura 37. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de HMTA.
85
0.5
134.28C
0.0
-0.5
-1.0
-1.5
-2.0
-2.5
60
80
100
120
140
160
180
200
Temperature (C)
Exo Up
220
240
Figura 38. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de HMTA.
132.03C
0.5
100.21C
0.0
-0.5
-1.0
-1.5
60
80
100
120
Exo Up
140
160
Temperature (C)
180
200
220
240
Figura 39. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de mistura HMTA e resorcinol.
86
0.8
129.75C
0.6
0.4
0.2
0.0
-0.2
-0.4
-0.6
60
80
100
120
Exo Up
140
160
180
200
220
240
Temperature (C)
Figura 40. DSC da resina fenlica lquida do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de mistura HMTA e resorcinol.
degradao
trmica
das
resinas
fenlicas
convenientemente
acompanhada por TGA que fornece valiosas informaes sobre a seqncia das
etapas que ocorrem durante os diferentes intervalos de temperatura a qual
submetida.
Resinas fenlicas so conhecidas como materiais polimricos altamente
resistentes a temperaturas elevadas quando comparados com outros polmeros.
Resistncia trmica uma caracterstica muito importante para determinar a
aplicao de um material polimrico seja isoladamente ou na forma de compsito.
O mecanismo da degradao termoqumica das resinas novolacas e resol foi
investigado por Conley [76], Gautherot [77] e Colin [78]. Nestes estudos, foi
verificado que o processo de degradao trmica das resinas fenlicas de
natureza oxidativa. A razo para isto est no alto teor de oxignio presente nas
resinas fenlicas. Alm disto, esta degradao trmica pode ser descrita em trs
87
z
}
100
90
Weight (%)
80
}
z
z
}
}
z
}
z
70
}
z
}
z
}
z
60
50
}
z
}
z
40
30
200
400
}
z
600
}
z
800
}
z
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Temperature (C)
Figura 41. Termograma das diferentes resinas fenlicas analisadas. () Resol comercial; ({)
Novolaca/Ac.
Oxlico-HMTA;
(y)
Novolaca/Ac.
Sulfrico-HMTA;
()
Novolaca/Ac.
Oxlico-
converso da hexamina em formaldedo e NH3 que ocorre por volta de 130 a 1600C.
Neste caso, tanto o formaldedo residual como o produzido pela abertura do anel do
HMTA consumido rapidamente com o pr-polmero e com o resorcinol a fim de
realizar a reao de cura caracterstica. Da mesma forma, o fenol em excesso reage
com parte do formaldedo do meio reacional e realiza a reao de reticulao. O
mesmo no acontece com as resinas curadas somente com o HMTA, o que justifica
a presena de uma quantidade maior de resduos e, consequentemente, uma perda
de massa maior no primeiro estgio.
Tabela 9. Variao da massa de resinas fenlicas em funo da temperatura e seus respectivos
teores de slidos.
Resina
% perda
% perda
(T<3000C) (300-6000C)
Temperatura
Mxima de
Degradao (0C)
Resduo
(%)
Resol comercial
28,31
24,97
436,73
38,23
Novolaca/Oxlico - HMTA
24,41
18,23
549,94
45,54
Novolaca/Sulfrico - HMTA
26,47
18,92
564,25
45,26
Novolaca/Oxlico HMTA/Resorcinol
18,42
23,35
569,68
47,21
Novolaca/Sulfrico HMTA/Resorcinol
17,99
22,05
564,42
50,15
Alm disto, a resina fenlica do tipo resol comercial apresenta uma perda de
massa maior do que as resinas novolacas nesta primeira etapa que atinge
temperaturas at 3000C. Isto mostra que as resinas novolcas so mais estveis
termicamente do que as resis. Isto tambm verificado para as demais faixas de
temperatura.
A decomposio trmica do pr-polmero inicia aproximadamente a 300C e
atinge seu ponto mximo na temperatura prxima a 600C. Neste intervalo, so
emitidos principalmente componentes gasosos como monxido de carbono, gs
carbnico, metano, fenol, cresis e xilenis. Durante esta etapa de degradao,
ocorrem tambm vrias cises aleatrias no retculo polimrico de modo que a
velocidade de reao atinge o seu mximo dentro desta faixa de temperatura [79].
A perda mdia de massa observada para as resinas fenlicas estudadas
nesta segunda etapa de 22,70% para as resinas curadas com a mistura de HMTA
89
e resorcinol, 18,58% para as resinas curadas com HMTA e 24,97% para a resina
resol comercial. Novamente, a perda de massa das resinas fenlicas lquidas do tipo
novolaca inferior a resina resol comercial. Ainda, possvel verificar que a
temperatura mxima de degradao das resinas fenlicas lquidas do tipo novolaca
superior a resina resol comercial, comprovando assim que as resinas novolacas
so mais estveis termicamente do que as resis.
A terceira e ltima etapa de degradao das resinas fenlicas ocorre a
temperaturas superiores a 600C, onde so liberados basicamente CO2, CH4, H2O,
benzeno, tolueno, fenol, cresis e xilenis [80].
A decomposio trmica de resinas fenlicas curadas do tipo resol ocorre por
intermdio da reao de oxidao dos grupos metilol existentes formando aldedo e
gua respectivamente. Estudos realizados por Colin et al [78] utilizando a
espectroscopia de ressonncia magntica nuclear no estado slido sob vcuo a
4000C revelaram uma completa perda dos grupos metilol acompanhada do
aparecimento de grupos metlicos. Alm disto, os grupos metilnicos so
preservados e a integridade qumica e estrutural da resina permanece inalterada.
Por fim, possvel constatar que o teor de resduos das resinas novolacas
maior do que para a resol comercial indicando que as resinas novolacas possuem
uma quantidade menor de componentes volteis durante a reao de degradao.
Ainda, as resinas novolacas curadas com a mistura de HMTA e resorcinol
apresentam uma estabilidade trmica e temperatura mxima de degradao superior
s demais resinas analisadas.
91
6 CONCLUSES
92
94
7 TRABALHOS FUTUROS
poderiam ser os siloxanos, que absorvem gua e conferem uma boa aderncia entre
a fibra de vidro e a resina polimrica. Alm destes agentes, possvel adicionar
alguns materiais cermicos como alumina (tambm utilizados como retardantes de
chama) e alguns carbonatos e sulfatos. O funcionamento e a possvel utilizao
destes agentes no processo de pultruso podem ser encontrados nos trabalhos de
Ma et al. [58] e Gupta [86].
Outro estudo interessante seria a determinao de uma possvel formulao
bsica a ser utilizada no processo de pultruso utilizando as resinas produzidas
neste trabalho. Neste caso, seriam includos alguns aditivos com os agentes de
acoplamentos, pigmentos e cargas. Esta formulao e suas variaes so
essenciais, uma vez que se deseja produzir perfis fenlicos pultrudados que
apresentem propriedades mecnicas, qumicas e fsicas satisfatrias, alm de uma
boa aparncia. Estudos realizados por Hinderisnn [57], Ma et al. [58], Gupta [86], e
Dailey [87] sugerem algumas formulaes que podem ser empregadas no processo
de pultruso.
Por fim, seria interessante investigar a utilizao das resinas fenlicas
produzidas neste estudo no processo de pultruso, utilizando a pultrusora piloto
adquirida por esta universidade e testar as diferentes formulaes a serem
desenvolvidas a fim de fabricar um perfil simples como, por exemplo, uma barra
slida de 13 mm de dimetro. Uma vez produzido um perfil deste tipo seria possvel
caracteriz-lo adequadamente no que diz respeito a suas propriedades mecnicas,
qumicas e fsicas e determinar os parmetros de processamento como temperatura
da matriz e velocidade de puxamento. O objetivo final seria desenvolver uma
tecnologia nacional na fabricao de vrios tipos de perfis reforados com fibra e
que envolvesse as resinas fenlicas desenvolvidas nesta instituio.
96
8 BIBLIOGRAFIA
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Dependence
of
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Reaction
of
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and
105
13
C CP/MAS Solid-
and
Flame
Retardance
of
Novel
Phenolic
Resins/Silica
US Patent
US
107
ANEXO 1
Termogramas das Resinas Fenlicas do Tipo Novolaca e Resol
0.5
100
28.31%
(2.561mg)
0.4
Weight (%)
0.3
24.97%
(2.259mg)
60
0.2
80
Residue:
38.23%
(3.459mg)
436.73C
40
0.1
20
200
400
600
Temperature (C)
800
0.0
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Relatrio
Program: Universal V2.6D
436.73 C
Start
C
33.35
299.55
Onset
C
End
C
Stop
Weight
C
mg
%
299.55 2.561 28.31
599.82 2.259 24.97
108
0.5
100
24.41%
(2.005mg)
0.4
Weight (%)
0.3
18.23%
(1.497mg)
0.2
60
80
549.94C
Residue:
0.1
45.54%
(3.741mg)
40
200
400
600
800
Temperature (C)
0.0
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Figura 2. Termograma da resina fenlica do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de HMTA.
Relatrio
Program: Universal V2.6D
549.94 C
Start
C
33.37
299.55
Onset
C
End
C
Stop
C
299.55
599.82
Residue at 974.74
Weight
mg
%
2.005 24.41
1.497 18.23
3.741
45.54
109
0.4
100
26.47%
(2.502mg)
0.3
0.2
18.92%
(1.789mg)
60
Weight (%)
80
0.1
564.25C
Residue:
45.26%
(4.277mg)
40
200
400
600
800
Temperature (C)
0.0
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Figura 3. Termograma da resina fenlica do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de HMTA.
Relatrio
Program: Universal V2.6D
564.25 C
Start
C
28.56
299.55
Onset
C
End
C
Stop
C
299.55
599.82
Residue at 974.87
Weight
mg
%
2.502 26.47
1.789 18.92
4.277
45.26
110
0.4
100
18.42%
(1.737mg)
Weight (%)
80
0.2
23.35%
(2.202mg)
0.3
569.68C
60
0.1
Residue:
47.21%
(4.453mg)
40
200
400
600
800
Temperature (C)
0.0
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Figura 4. Termograma da resina fenlica do tipo novolaca catalisada com cido oxlico e curada com
10% de mistura de HMTA e resorcinol.
Relatrio
Program: Universal V2.6D
569.68 C
Start
C
24.10
299.55
Onset
C
End
C
Stop
C
299.55
599.82
Residue at 975.08
Weight
mg
%
1.737 18.42
2.202 23.35
4.453
47.21
111
100
0.4
17.99%
(2.073mg)
90
0.3
22.05%
(2.541mg)
70
0.2
564.42C
60
Weight (%)
80
Residue: 0.1
50.15%
(5.780mg)
50
40
200
400
600
800
Temperature (C)
0.0
1000
Universal V2.6D TA Instruments
Figura 5. Termograma da resina fenlica do tipo novolaca catalisada com cido sulfrico e curada
com 10% de mistura de HMTA e resorcinol.
Relatrio
Program: Universal V2.6D
564.42 C
Start
C
36.10
299.55
Onset
C
End
C
Stop
C
299.55
599.82
Residue at 974.88
Weight
mg
%
2.073 17.99
2.541 22.05
5.780
50.15
112