O desemprego estrutural resulta das mudanas da estrutura da economia.

Estas provocam
desajustamentos no emprego da mo-de-obra, assim como alteraes na composio da
economia associada ao desenvolvimento. Existem duas causas para este tipo de Desemprego:
insuficincia da procura de bens e de servios e insuficincia de investimento em torno da
combinao de fatores produtivos desfavorveis. Esse tipo de desemprego mais comum em
pases desenvolvidos devido grande mecanizao das indstrias, reduzindo os postos de
trabalho.
O desemprego causado pelas novas tecnologias, como a robtica e a informtica, recebe o
nome de desemprego estrutural. Ele no resultado de uma crise econmica, e sim das novas
formas de organizao do trabalho e da produo. Tanto os pases ricos quanto os pobres so
afetados pelo desemprego estrutural, um dos graves problemas de nossos dias.
Desemprego Conjuntural
o desemprego causado por uma crise econmica. Existem duas formas de designar o
desemprego conjuntural, sendo que ambas esto correctas, desemprego cclico ou conjuntural.
Este resulta da variao cclica da vida econmica, isto , das pocas de expanso ou "boom"
e das pocas de recesso da economia. Existe uma tendncia secular de variaes sazonais
ou cclicas que tm uma durao de 3 anos.
aquele em que a demisso ocasionada, na maioria das vezes, por crises passageiras.
Portanto a demisso temporria, uma vez que, superada a crise, o emprego novamente
ofertado.

Um reagente qumico ou reativo qumico uma espcie qumica usada numa reao
qumica. Implica geralmente numa substncia qumica que adicionado com a finalidade de
provocar um fenmeno qumico. As Substancias inicialmente presentes num sistema e que se
transformam em outras devido a ocorrncia de uma reao qumica so denominadas
reagentes. E as novas substancias produzidas so chamadas produtos de limpeza da natureza.
Por exemplo, o cido clordrico um reagente qumico que provoca a liberao
de CO2 do carbonato de clcio:
2 HCl + CaCO3 CaCl2 + H2O + CO2
Similarmente, o cido clordrico um reagente qumico que reage com o zinco produzindo
gs hidrognios, sendo o hidrognio proveniente do cido:
2 HCl + Zn ZnCl2 + H2

Na reao representada abaixo o sal (NaCl) e o nitrato de prata (AgNO3) so os reagentes e

o nitratuo de sdio (NaNO3) juntamente com o cloreto de prata (AgCl) so os produtos da
reao.
NaCl + AgNO3 NaNO3 + AgCl <
Classificar alguns dos produtos qumicos envolvidos numa reao qumica como um reagente
na maioria das vezes uma questo de conveno ou perspectiva.

Tonoscopia uma propriedade coligativa que constitui na diminuio da presso

mxima de vapor (PMV) de um solvente quando se adiciona a ele um soluto no voltil.
Em relao presso de vapor de um solvente puro, pode-se dizer que sempre ela ser
maior do que a presso de vapor de uma soluo. Isso decorre do fato de que as
partculas do soluto roubam energia cintica das molculas do solvente, impedindo que
parte destas ganhem o estado de vapor. As partculas dispersas constituem uma barreira
que dificulta a movimentao das molculas do solvente do lquido para a fase gasosa.
A diferena entre a presso mxima de vapor do solvente puro e a presso mxima de
vapor do solvente em soluo denomina-se abaixamento absoluto da presso mxima de
vapor. Com isso, possvel estabelecer a seguinte condio para as solues: quanto
maior a quantidade de partculas em uma soluo, menor ser a sua presso de
vapor.
O abaixamento da PMV depende da temperatura. Ao quociente entre o abaixamento da
presso mxima de vapor (DP) (deparv) e a presso mxima de vapor do solvente puro
(PO)(piok) damos o nome de abaixamento relativo da presso mxima de vapor. Este
independe da temperatura, porque a variao desta provoca uma variao de DP e p, da
mesma magnitude, no alterando o quociente, desde que o soluto seja no voltil.

Frmula da tonoscopia
p = P2 P, onde:
P = presso de vapor da soluo

Ebulioscopia a propriedade coligativa correspondente ao aumento do ponto de

ebulio de um lquido quando acrescenta-se a ele um soluto no-voltil (que no
evapora). como se as partculas do soluto "segurassem" as partculas do solvente,
dificultando sua passagem ao estado gasoso.
O aumento (variao) da temperatura de ebulio pode ser justificado pela presso
mxima de vapor, que se deve presena das partculas do soluto. Para que ocorra a

ebulio dasoluo, necessrio que ela seja aquecida at que sua presso de vapor se
iguale presso atmosfrica.
A frmula usada para o clculo :
Te = Te2 - Te, onde:
Te = temperatura de ebulio da soluo Te2 = temperatura de ebulio do solvente puro
Um exemplo de Ebulioscopia surge no preparo do caf: quando adicionamos acar na
gua que estava prestes a entrar em ebulio. Os cristais de acar antes de serem
dissolvidos pelo aquecimento constituem partculas que retardam o ponto de ebulio da
gua, ou seja, o lquido vai demorar um pouco mais a entrar em ebulio.
Essa propriedade foi estudada pelo cientista francs Franois Marie Raoult (1830-1901) e
seus estudos o levaram seguinte concluso:
Quando o ponto de ebulio de um lquido elevado pela presena de um soluto no
voltil, o novo valor diretamente proporcional ao nmero de mols da soluo. Esta a
relao entre o efeito ebulioscpico e a concentrao da soluo, mais conhecida como
Lei de Raoult.