UNIVERSIDADE FEDERAL DE PERNAMBUCO

CENTRO DE TECNOLOGIA E GEOCINCIAS

DEPARTAMENTO DE ENGENHARIA MECNICA

BRUNO RAFAEL DO AMARAL SILVA

Anlise do desgaste de uma camada de xido eletrodepositada em um metal

Recife, Julho de 2017

 BRUNO RAFAEL DO AMARAL SILVA

Anlise do desgaste de uma camada de xido eletro depositada em um metal

Trabalho de concluso de curso apresentado

como parte dos requisitos para a obteno do
ttulo de Bacharel em Engenharia de Materiais,
pela Universidade Federal de Pernambuco.

Orientador: Prof. D. Sc. Edval Gonalves de Arajo

Sumrio
1. INTRODUO ................................................................................................................................. 4
2. OBJETIVOS DA PESQUISA ......................................................................................................... 5
2.1. OBJETIVO GERAL .................................................................................................................. 5
2.2. OBJETIVOS ESPECFICOS .................................................................................................. 5
3. FUNDAMENTAO TERICA .................................................................................................... 6
3.1 INTRODUO ........................................................................................................................... 6
3.2. EQUAO DE NERNST ........................................................................................................ 7
3.3. DUPLA CAMADA .................................................................................................................... 7
3.4. ELETRODEPOSIO ............................................................................................................. 8
3.5. OXIDAO/REDUO ........................................................................................................ 10
3.6. REAO DO CATODO E ANODO .................................................................................... 10
3.7. ELETRODEPOSIO DE XIDOS METLICOS ........................................................... 11
3.8. LEI DE FARADAY ................................................................................................................ 12
3.9. FATORES QUE AFETAM A EFICINCIA DA ELETRODEPOSIO ........................ 13
3.9.1. EFEITO DA CORRENTE ............................................................................................... 14
3.9.2. EFEITO DO pH ................................................................................................................ 14
3.9.3. EFEITO DA TEMPERATURA ....................................................................................... 15
3.9.4. EFEITO DA CONCENTRAO DA SOLUO ....................................................... 16
3.9.5. EFEITO DO TEMPO DE DEPOSIO ....................................................................... 16
3.9.6. EFEITO DA AGITAO ................................................................................................ 16
3.10. VANTAGENS E DESVANTANGES DO PROCESSO ................................................... 17
3.11. APLICAES....................................................................................................................... 17
4. METODOLOGIA ............................................................................................................................ 19
4.1. CONFECO DOS ELETRODOS...................................................................................... 19
4.2. SOLUES ELETROLTICAS UTILIZADAS NA ELETRODEPOSIO DE XIDOS
........................................................................................................................................................... 19
4.3. PROCEDIMENTO PARA ELETRODEPOSIO ............................................................. 19
4.4. CARACTERIZAO MORFOLGICA DOS REVESTIMENTOS ................................. 19
4.5. ENSAIO DE ADERNCIA .................................................................................................... 20
5. RESULTADOS ESPERADOS ..................................................................................................... 21
6. CRONOGRAMA ............................................................................................................................ 22
7. REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS .......................................................................................... 23
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1. INTRODUO

Dois importantssimos campos da cincia qumica e eletricidade evoluiuram

vigorosamente durante a primeira metade do sculo XIX. A eletroqumica se
desenvolveu simultaneamente. No comeo, a eletroqumica no era apenas um
campo perifrico, desenvolveu-se com um alto grau de independncia e tambm
deixou uma importante marca na qumica e na teoria da eletricidade.

A pilha voltaica foi o primeiro dispositivo eletroqumico, construdo em 1800. Foi a

primeira vez que os cientistas tiveram uma fonte estvel e confivel de corrente
eltrica. Campos como eletrodinmica e eletromagnetismo tiveram seus
desenvolvimentos bsicos graas a pesquisas feitas nas propriedades desta
corrente eltrica.

Atualmente, eletroqumica uma rigorosa cincia que engloba relaes da qumica,

superfcie e propriedades eltricas de sistemas. (BAGOTSKY, 2006)

Existe uma grande variedade de definies para eletroqumica. Pode ser definida,
por exemplo, como um ramo da qumica que lida com a inter-relao dos fenmenos
eltricos e qumicos. No comeo a eletroqumica cobria duas reas principais: A
converso de energia de reaes qumicas em eletricidade e a transformao de
compostos qumicos pela passagem de uma corrente eltrica. Reduzindo para os
aspectos compreendidos pela fsica e qumica comum uma definio simples que
a Eletroqumica a cincia de estruturas e processos na/e atravs da interface entre
um eletrodo e um condutor (eletrlito) ou entre dois condutores. (BARD; INZELT;
SCHOLZ, 2008)

O presente trabalho visa estudar o nvel de desgaste de uma camada de xido

eletrodepositada de alta dureza, alta aderncia e com espessura controlada em um
determinado metal. Onde essa camada de xido tem como objetivo a mudana da
colorao do substrato por interferncia tica.
 5

2. OBJETIVOS DA PESQUISA

2.1. OBJETIVO GERAL

Compreender a eletrodeposio de uma camada de xido de alta dureza, alta

aderncia em um metal, com o objetivo da mudana da colorao do metal e
analisar o desgaste dessa camada depositada

2.2. OBJETIVOS ESPECFICOS

Controlar espessuras e relacionar elas refrao de cada cor desejada

Comparar diferentes parametrizaes nas caractersticas das camadas
obtidas
Analisar o desgaste das camadas obtidas
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3. FUNDAMENTAO TERICA

3.1 INTRODUO

O homem se difere de outros animais, principalmente, pela sua capacidade de

pensar, de criar, fabricar objetos que tanto facilitam sua vida e suas atividades
quanto o fazem sentir-se bem. Uma dessas maneiras das quais o homem sente-se
realizado com aquisio de peas de decorao como vasos, quadros, entre
outros, como tambm joias. Como essa viso de sempre inovar buscando uma
criao nica nesse mercado onde joias no representam apenas a moda, poder,
luxo, espiritualidade, elas representam a personalidade de quem as possui e de
quem as compra. H um grande mercado de negcios que envolve produo e
comercializao de cada pea, que busca identificar, mas tambm estabelecer
tendncias que melhor podem atender aos desejos dos consumidores. Um dos
grandes e promissores mercados mundiais a produo de joias e peas
ornamentais metlicas coloridas como, por exemplo, o ouro colorido.

Uma das maneiras mais utilizadas na mudana de colorao do ouro atualmente a

criao de ligas de ouro, como podemos observar na figura 1:

FIGURA 1: DIFERNTES LIGAS DE OURO ILUSTRANDO A MUDANA DE COR COM A MUDANA DA COMPOSIO
DE CADA UMA DELAS (HTTP://GOLDRESOURCE.NET/TYPES-OF-GOLD/)
 7

A troca de eltrons entre duas semireaes de oxi-reduo consiste em uma reao

eletroqumica. Podendo ser destinada para gerar produtos de reaes, onde o
receptor o reagente ou mais comumente uma clula de eletrlise ou destinada
para produo de corrente eltrica, onde o reagente eletroqumico torna-se gerador
eletroqumico. A clula de eletrlise constituda de trs eletrodos e o eletrlito,
onde o eletrlito uma fase lquida onde os ons asseguram a conduo. Sendo
este eletrlito uma soluo aquosa ou solvel com seus sais dissolvidos, ou
fundidos.

Tendo como objetivo a mudana na colorao de ligas metlicas utilizando uma

tcnica inovadora alm das j utilizadas no mercado como a criao de novas ligas,
foi pensado numa possibilidade eletroqumica: A eletrodeposio de metais e seus
xidos.

3.2. EQUAO DE NERNST

A equao de Nernst permite o clculo do potencial termodinmico Et, em volts, de

um acoplamento redox em funo do potencial normal E0 e das concentraes das
espcies em soluo. Esta equao resolve o potencial de uma clula eletroqumica
contendo um sistema com uma cintica rpida e vlido apenas no equilbrio e na
superfcie do eletrodo (ZOSKI, 2007):

(1)

Onde E0 o potencial em condies padro, F a constante de Faraday, que igual

a 96486 C.mol-1, n o nmero de eltrons trocados, R a constante dos gases
perfeitos, que corresponde a 8,314 J.mol-1.K-1, T a temperatura em Kelvin, igual a
298,15 K, e a(x) a concentrao do componente x.

3.3. DUPLA CAMADA

Um eletrodo metlico o produtor de um rearranjo dos ons da soluo em regies

prximas a interface metal-soluo, uma vez que ele esteja em um potencial fixo e
imerso em um eletrlito. fenmeno chamado de transporte de matrias que
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alimenta o consumo das espcies inicas no eletrodo. O transporte de matria

devido a soma de trs contribuies: conveco, difuso e migrao (MELO, 2009).

Conveco: Um gradiente de agitao mecnica ou trmica onde se tem,

como resultado, o transporte das espcies sob a influncia deste gradiente. O
fluxo de conveco dependente da concentrao local C das espcies e
sua velocidade relativa v de deslocamento. Portanto, temos:

(2)

Difuso: Influncia dos gradientes de potenciais qumicas geram o transporte

das espcies. Gradientes de concentrao provocam um movimento das
espcies das zonas mais concentradas para as mais diludas, isso acontece
porque as reaes eletroqumicas ocorrem nos eletrodos produzindo essas
diferenas de concentrao entre a vizinhana do eletrodo e a soluo. O
fluxo produzido por uma espcie sob efeito de um gradiente de concentrao
C expresso por:

(3)

Onde D o coeficiente de difuso da espcie considerada.

Migrao: O transporte das espcies se d pela influncia do campo eltrico

reinante nos eletrodos. S so afetadas pelo transporte por migrao as
espcies inicas (a conveco e a difuso afetam tanto espcies inicas
como moleculares). Enquanto os ctions, que so cargas positivas, migram
na direo do eletrodo negativo (catodo) enquanto os nions fazem o
caminho inverso, ou seja, migram na direo do eletrodo positivo (anodo).

3.4. ELETRODEPOSIO

Processo assim chamado consiste na formao de um filme ou um volume de

material usando o processo eletroqumico onde os eltrons so produzidos por uma
fonte de energia externa. um procedimento de acabamento de superfcie
importante que compreende na deposio de metais, ligas, xidos, polmeros e
compsitos (BARD; INZELT; SCHOLZ, 2008). A camada formada na superfcie
 9

normalmente para decorao ou por proteo do substrato. A superfcie pode ser

condutora como os metais ou no condutora como os plsticos. Este processo
usado em muitas indstrias como automobilstica, naval, aeroespacial, eletrnica,
joias, etc. O ncleo do processo de eletrodeposio so as clulas eletrolticas.
Nestas clulas eletrolticas uma corrente eltrica passa por um banho contendo um
eletrlito, um nodo e um ctodo (LEE, 2006).

Passando uma corrente eltrica por um eletrlito, reaes qumicas ocorrem entre o
circuito e a soluo, processo este chamado de eletrlise. A eletrlise acontece em
uma clula eletroltica. Entender os princpios eletroqumicos da eletrodeposio
essencial e alguns conceitos bsicos so apresentados abaixo.

FIGURA 2: PRINCPIO DE UMA ELETRODEPOSIO (LEE, 2006)

Para a obteno das reaes de oxirreduo utilizado o processo de eletrlise que

se baseia processe este baseado na passagem de corrente eltrica atravs de uma
soluo, contendo ons e assim, gerando reaes qumicas desejadas.

A concentrao de metal na soluo est diretamente ligada a eficincia do

processo. Quando h mais metal, ou seja, tem-se menor quantidade de remoo, o
processo vai se tornando menos eficiente. Outra varivel que afeta a eficincia deste
processo a rea de superfcie do catodo, onde, quanto maior for sua rea, mais
eficiente ser o processo, razo pela qual as unidades de eletrodeposio utilizam
grandes placas retangulares ou grelhas de malha como catodos.
 10

O tipo de metal que est sendo eletrodepositado tambm afeta na eficincia. Metais
mais comuns utilizados neste processo so cobre, prata e ouro. O cdmio, zinco
tambm podem ser eletrodepositado neste processo.

Como todo processo de engenharia, a eletrodeposio tambm tem seus

inconvenientes. A ineficincia do processo torna-se elevada quando a soluo
possui menos de 1.000 mg de ons por litro. Outro inconveniente a impossibilidade
de utilizar solues que contenham ons de cloro, como cido clordrico, pois pode
resultar na produo de gs de cloro que extremamente perigoso.

3.5. OXIDAO/REDUO

Em um sentido mais abrangente, pode-se considerar toda transferncia de eltrons

como uma reao oxidao/reduo. A substncia ganhadora de eltrons (agente
oxidante) oxida a substncia que est perdendo os eltrons (agente redutor). Como
o catodo acoplado ao polo negativo da fonte de energia, ele fornece eltrons ao
eletrlito. E contrrio ao catodo, o anodo conectado ao polo positivo da fonte de
energia, assim sendo, recebe os eltrons vindo do eletrlito. Vrias reaes
acontecem no eletrlito durante a eletrlise. De uma maneira geral a reduo
acontece no catodo e a oxidao no anodo (LEE, 2006).

3.6. REAO DO CATODO E ANODO

A eletrodeposio de metais ou ligas envolve a reduo de ons metlicos do

eletrlito. No catodo, eltrons so fornecidos pelos ctions, que migra para o anodo.
Em sua forma simples, a reao segue o seguinte esquema:

(4)

No anodo, eltrons so fornecidos pelos nions, que migra para o catodo. Para um
anodo de sacrifcio, temos a seguinte reao:
 11

(5)

3.7. ELETRODEPOSIO DE XIDOS METLICOS

Na eletrodeposio de xidos, existe mais de um mtodo que pode ser adotado.

Pode-se polarizar em uma soluo alcalina como, por exemplo, NaOH, KOH, etc, em
uma camada previamente depositada de um metal. Os resultados das reaes
podem ser vistos nas equaes 6 e 7 a seguir:

(6)

(7)

Dois passos esto envolvidos na eletrodeposio de xidos metlicos. Inicialmente,

dirigido pelo potencial ou corrente, eltrons so transferidos entre o eletrodo e
espcies eletroquimicamente ativadas na soluo. Na superfcie do anodo, eltrons
so transferidos da soluo de espcies ativas para o anodo, enquanto no catodo,
os eltrons fazem o sentido inverso, e so transferidos do catodo para a soluo de
espcies ativas. Reaes qumicas ocorrem na superfcie do eletrodo aps o
processo de transferncia de eltrons. O processo de transferncia de eltrons
ocorre, apenas, com espcies eletroquimicamente ativas e prximo ou na superfcie
do eletrodo. Atravs de processos como difuso, transferncia de massa, migrao
e conveco, as espcies mais afastadas do eletrodo movem-se para ele. Difuso
causada pelo gradiente do potencial qumico, isto , por um gradiente de
concentrao. Migrao aplicada apenas aos corpos carregados e causada pelo
gradiente de potencial eltrico (campo eltrico). A conveco descrita como um
fluxo do fludo proveniente do transporte hidrodinmico causado por um gradiente de
densidade ou por foras, um exemplo seria a agitao. O processo de transferncia
de massa recarrega as espcies ativas da soluo, que j foram consumidas no
processo de transferncia de eltrons da superfcie do eletrodo pela soluo e
assegura que as reaes eletroqumicas na superfcie do eletrodo aconteam
continuamente (HE, 2012).

A eletrodeposio de xidos metlicos podem ser obtidas por duas rotas distintas
(HE, 2012). A primeira, os xidos podem ser produzidos mudando o estado de
 12

oxidao do metal na superfcie do eletrodo seguido por uma hidrlise/condensao.

Como exemplo, Fe3O4 pode ser eletrodepositado pela oxidao dos ons de Fe(II) na
superfcie do eletrodo em uma soluo contendo (NH4)2Fe(SO4)26H2O e KCH3-COO
seguindo a seguinte equao:

(8)

Pela segunda rota, pode-se mudar o pH local da superfcie do eletrodo (gerando um

cido ou uma base) e assim induzir as reaes de hidrlise/condensao. Por
exemplo, ZnO pode ser eletrodepositado pela gerao acida ou bsica. ZnO
solvel em solues cidas e bsicas pois um composto anfotrico. Como pode-se
observar na figura 3, onde tem-se uma distribuio de espcies no grfico superior e
a solubilidade do ZnO vs. pH em uma soluo aquosa a 70 C.

FIGURA 3: DISTRIBUIO DE ESPCIES (GRFICO SUPERIOR) E SOLUBILIDADE DO ZNO VS. PH EM SOLUO

AQUOSA A 70 C (HE, 2012)

O ZnO pode ser depositado gerando ons de H+ (ou OH-) quando o pH acima ou
abaixo de de 9,4 em uma soluo contendo Zn 2+ para induzir a precipitao do ZnO
na superfcie do eletrodo (HE, 2012).

3.8. LEI DE FARADAY

Em 1833, o cientista ingls Michael Faraday, desenvolveu as leis de Faraday da

eletrolise. A primeira lei diz: Em uma eletrlise, as quantidades de substncias
envolvidas na transferncia qumica so proporcionais a quantidade de eletricidade
 13

na qual passa pelo eletrlito. A segunda lei diz: As massas das diferentes
substancias livres ou dissolvidas por uma quantidade de eletricidade so
proporcionais aos seus equivalentes qumicos.

Graas a essa descoberta, a quantidade de carga, que corresponde a converso da

equivalncia qumica da substancia, foi nomeada de constante de Faraday. Uma
quantidade de carga necessria para converter 1 mol de uma substancia j.

Quando uma quantidade de carga Q foi consumida pelo eletrodo, o nmero de

moles da substancia que se formou ou reagiu dada por:

(9)

Onde a Eq. 9 une as duas leis de Faraday.

Uma vez que a quantidade total de substncia a ser convertida proporcional a

quantidade de carga, a taxa especfica , que a quantidade de substncia j
convertida em unidade de tempo por unidade de superfcie do eletrodo,
proporcional densidade de corrente i:

(10)

Por essa razo, usualmente, taxas de reao do eletrodo so estabelecidas em

unidades de densidade de corrente.

Quando se trata de correntes estveis as leis de Faraday atuam com bastante rigor.
Elas so a base para uma medio de quantidade de carga com alta preciso
(BAGOTSKY, 2006).

3.9. FATORES QUE AFETAM A EFICINCIA DA ELETRODEPOSIO

H vrios fatores que afetam a eficincia de uma eletrodeposio, so eles

(KUMAR; PANDE; VERMA, 2015):

1. Desidade de Corrente
2. pH
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3. Temperatura
4. Concentrao da Soluo
5. Tempo
6. Agitao

3.9.1. EFEITO DA CORRENTE

A quantidade total de mudana qumica em um eletrodo proporcional a quantidade

de eletricidade que passa por ele. Entretanto, se existirem vrias reaes qumicas
acontecendo simultaneamente, o produto poder ser consumido e isso considerado
um desperdcio. Portanto, podem surgir essas reaes secundrias que no
interessantes para a eletrodeposio desejada nos eletrodos. A eficincia da
corrente uma frao, que normalmente expressa como uma porcentagem da
corrente que passa pela clula eletroltica (ou um eletrodo, na qual, realiza a reao
qumica desejada), portanto:

Eficincia da corrente =

(11)

Onde W act o peso do metal depositado ou dissolvido e W Theo corresponde ao peso

terico esperado pela lei de Faraday, caso no houvesse reaes paralelas.
interessante notar que a eficincia da corrente na reao do catodo aplicada no
catodo assim como a eficincia do anodo aplicada no anodo (OSBORNE, 2017).

3.9.2. EFEITO DO pH

O valor do pH dependente da composio do banho. Para a obteno de bons

resultados o valor do pH deve ser mantido constante. O pH tem influncia na
evoluo da voltagem do hidrognio, nas precipitaes de incluses bsicas, da
decomposio dos complexos ou hidratos do metal que est sendo depositado e
tambm na extenso de adsoro dos aditivos. Em um banho mais complexo, o pH
pode influenciar o equilbrio entre vrios processos. Quando se tem um anodo
insolvel, a evoluo do oxignio acontece no anodo:
 15

Evoluo do hidrognio no catodo acompanhado pela produo de ons

hidrxidos, por outro lado:

Se a corrente maior no anodo que no catodo, em um banho neutro, o banho se

torna mais alcalino. O pH do banho continua inalterado se o eletrodo tem eficincia
similar. A eficincia do eletrodo pode ser indicada com uma mudana de pH em um
banho com o metal/xido que se deseja depositar. Durante uma eletrodeposio, os
ons de hidrognio so descarregados juntamente com os ons metlicos que esto
sendo depositados. Essa evoluo de hidrognio no causa apenas uma ao
prejudicial sobre a taxa de deposio da camada e sobre a eficincia catdica, mas
geralmente tambm afeta, desfavoravelmente, a estrutura e propriedades da
camada que est sendo depositada causando defeitos como depsitos porosos, e
pulverulentos, entre outros efeitos prejudiciais. O pH do eletrlito ser, em princpio,
mais baixo que o pH da pelcula catdica, isso ocorre se a quantidade de ons de
hidrognio transportados pela corrente for menor que a quantidade de ons de
hidrognio descarregados no tempo unitrio e vice-versa. A difuso provocada por
uma alterao no valor de pH, onde essa difuso tende a igualar o valor do pH
atividade do hidrognio inico descarregado na maior parte da soluo e no filme
catdico (KUMAR; PANDE; VERMA, 2015).

A diferena entre o pH no filme catdico e no volume da soluo, que tende a

aumentar com a densidade de corrente, tornam-se estveis ou continuam a
aumentar dependendo da composio da soluo.

3.9.3. EFEITO DA TEMPERATURA

De uma maneira geral, aumentando a temperatura do banho tem-se um aumento do

tamanho dos cristais. Com o aumento da temperatura, a solubilidade aumenta e o
nmero de transporte tambm, que, por sua vez, aumenta a condutividade da
soluo. Ocorre tambm a diminuio da viscosidade da soluo, o que faz com que
o reabastecimento da camada dupla acontea mais rapidamente. Temperaturas
 16

mais elevadas da soluo diminuem, geralmente, a adsoro do hidrognio nos

depsitos e reduz as tenses e a tendncia a fissurao.

3.9.4. EFEITO DA CONCENTRAO DA SOLUO

Em processos de eletrodeposio, geralmente, a concentrao da soluo tem um

papel muito importante na performance da deposio da camada. Na condio de
revestimento normal, com o aumento da concentrao da soluo tem-se o aumento
de ons metlicos em soluo. E em consequncia, aumentar a taxa de deposio
do processo de eletrodeposio (KUMAR; PANDE; VERMA, 2015).

3.9.5. EFEITO DO TEMPO DE DEPOSIO

A espessura da camada est ligada diretamente ao tempo de deposio juntamente

com a corrente. De acordo com as Leis de Faraday de maneira simplificada,
quantidade de fluxo de carga Q proporcional ao fluxo de corrente multiplicado pelo
fluxo de tempo, como mostrado na Eq. 12:

Q=IxT (12)

3.9.6. EFEITO DA AGITAO

A agitao fornece uma boa mistura entra o sal metlico para que o reagente
qumico se torne ntimo e reaja com o outro. Com a agitao da soluo se tem um
reabastecimento dos sais ou ons no catodo e uma reduo da espessura da
camada de difuso. Reduz as bolhas de gs que podem causar pites. Com a
agitao tem-se tambm um aumento da densidade de corrente operacional, o que
permite, portanto, uma maior densidade de corrente de operao. Estes fatores tm
uma influncia sobre a estrutura do material depositado e tambm do aumento da
concentrao do metal/xido, pois compensa mais rapidamente a perda dos ons
atravs da descarga do catodo. Embora cause as vezes depsitos de gros
grosseiros devido a incluso mecnica de lamas e outras impurezas suspensas no
eletrodo, a agitao permite a utilizao de altas densidades de corrente no
processo de deposio. A intensidade da agitao deve variar proporcionalmente
com a densidade de corrente deixando todas as outras variveis do processo
 17

inalteradas. Geralmente, para reduzir os defeitos causados pelas impurezas no

eletrlito, a agitao acompanhada por uma filtrao. Em resumo, o sistema de
agitao pode melhorar consideravelmente o desempenho de deposio da
camada, uma vez que proporciona uma melhor mistura da soluo. Mas no se
pode equecer dos outros parmetros, os quais tem que estar muito bem controlados
(KUMAR; PANDE; VERMA, 2015).

3.10. VANTAGENS E DESVANTANGES DO PROCESSO

As principais vantagens deste processo so:

Resistncia a corroso quando aplicado para este fim

Utilizao em itens decorativos
Barateamento de joias (produo de bijuterias recobertas com ouro, por
exemplo)
Melhora de caractersticas mecnicas com a adio de uma camada de alta
dureza e tenacidade.

As possveis desvantagens so:

Falta de uniformidade na camada aplicada

Custo de processo
Problemas de poluio do processo

3.11. APLICAES

Desde sua inveno em 1805, pelo qumico italiano Luigi Brugnatelli, a

eletrodeposio tem se tornado extensivamente usada na indstria de
revestimentos. Suas aplicaes so, principalmente nos seguintes grupos:

1. Decorao: Revestimento de um metal mais caro em um metal base para

aprimorar a sua aparncia. As aplicaes so em joias, acessrios de mveis,
peas ornamentais, utenslios de mesas, entre outras
2. Proteo: revestimentos resistentes a corroso como cromao de partes
automotivas e eletrodomsticos; revestimentos de zinco e cadmio em porcas,
 18

parafusos e componentes eltricos; revestimentos resistentes ao desgaste,

como niquelao e cromao de superfcies de rolamentos e eixos.
3. Galvanoplastia: fabricao de peneiras, telas, cabeas de barbeador, moldes
e matrizes
4. Aprimoramento: revestimentos com condutividade eltrica e trmica
aprimorados, soldabilidade, reflexividade, etc.
 19

4. METODOLOGIA

4.1. CONFECO DOS ELETRODOS

Os eletrodos utilizados como substrato para a eletrodeposio dos xidos ainda no

especificados sero de prata e alumnio. Um fio de cobre ser conectado a uma das
faces servindo como contato eltrico.

Ser utilizado como catodo um eletrodo auxiliar de platina de formato quadrangular e

rea de 2 cm no qual a lmina de platina conectada a um fio de platina e esse fio
conectado a uma haste de cobre recoberta por um tubo de vidro.

Em todos os experimentos eletroqumicos que sero feitos, ser o utilizado eletrodos

de calomelano saturado (ECS), como eletrodos de referncia. Para evitar a
formao de bolhas de ar, o corpo do eletrodo de ser preenchido com uma soluo
saturada de KCI.

4.2. SOLUES ELETROLTICAS UTILIZADAS NA ELETRODEPOSIO DE

XIDOS

As solues utilizadas para a obteno da camada de xido de alta dureza e alta

aderncia ainda no foram especificadas, ficando para uma anlise mais
aprofundada dos estudos j feitos nessa rea e estudos futuros.

4.3. PROCEDIMENTO PARA ELETRODEPOSIO

Os xidos sero obtidos sem agitao, pela eletrodeposio na superfcie da prata e

do alumnio sob controle no intervalo de 25 a 100 mA cm -2 e nas condies de
temperaturas provavelmente de 30, 50 e 70 C.

Ser utilizada uma fonte de tenso na prpria UFPE no laboratrio qumico.

4.4. CARACTERIZAO MORFOLGICA DOS REVESTIMENTOS

A morfologia superficial da camada de xido depositada ser utilizada o microscpio

eletrnico de varredura (MEV). A figura 4 ilustra o aparelho para o MEV
 20

FIGURA 4: MISCROSCPIO ELETRNICO DE VARREDURA QUE SER UTILIZADO

4.5. ENSAIO DE ADERNCIA

Para a anlise da aderncia da camada de xido, um dos mtodos utilizados para

medida de adeso o definido pela norma ASTM-D3359, Standard Methods for
Measurinf Adhesion by Tape Test, teste este designado para revestimentos na faixa
de adeso at 6 MPa. Onde o mtodo consiste em na marcao de um padro com
corte em X sobre o revestimento, sobreposto por uma fita adesiva posteriormente
arrancada com um nico golpe. Ainda sero definidas as fitas utilizadas para o
teste descrito.
 21

5. RESULTADOS ESPERADOS

O Projeto em questo permitir a avaliao da camada de xido depositada de alta

dureza e alta aderncia nas ligas de prata e alumnio. esperada a obteno de
uma camada uniforme por toda a superfcie do substrato e que se consiga uma
mudana na colorao original do metal por meio de refrao de luz. O intuito
produzir materiais com diferentes coloraes sem a utilizao de tinta, onde se teria
um material com baixa aderncia. Utilizando a deposio do xido de alta dureza se
teria uma camada resistente a certos tipos de esforos, onde se teria um material
colorido e resistente. A princpio ser feita uma mudana para a colorao mais
simples de se obter que a preta, onde teremos apenas que impedir a reflexo de
luz do material. Aps isso ser feita uma anlise da possibilidade de produzir uma
palheta de cores atravs da espessura da camada depositada.
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6. CRONOGRAMA

No quadro 1, abaixo, tem-se as atividades e cronograma previstos para o

desenvolvimento deste projeto ao longo de 10 meses:

QUADRO 1: CRONOGRAMA E ATIVIDADES DO PROJETO

ATIVIDADES

MAR/17

AGO/17
ABR/17

NOV/17
OUT/17
JUN/17

DEZ/17
SET/17
JUL/17
MAI/17
Reviso da Literatura

Reunies com o Orientador

Aquisio dos materiais

Desenvolvimento das metodologias de obteno

das camadas de xidos desejadas

Aplicao das camadas de xidos no Ag e Al

Avaliao da aderncia das camadas

eletrodepositadas
Avaliao de desgaste das camadas
depositadas
Elaborao e entrega do relatrio final
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7. REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS

ASTM INTERNACIONAL . ASTM . ASTM Designation: D 3359 97: Standard Test

Methods for Measuring Adhesion by Tape Test. [S.l.: s.n.], 2007. 7 p. Disponvel em:
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COMO funciona a eletrodeposio: A eficincia do processo de eletrodeposio

depende da concentrao de metal existente na soluo. Disponvel em:
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Acesso em: 19 jun. 2017.

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sertations>. Acesso em: 19 jun. 2017.
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Technology. Dehradun, p. 700-703. 5 mar. 2015.

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2006. 3640 p. v. 1. Disponvel em:
<http://chem1.eng.wayne.edu/~yhuang/Papers/Book_Plating_ECHP.pdf>. Acesso
em: 15 jun. 2017.

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de Camadas de Ni-Mo-P. 2009. 71 f. Dissertao (Mestre em qumica )-
Universidade Federal do Cear , Fortaleza, 2009.

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https://www.911metallurgist.com/blog/what-gives-gold-different-colours>; Acesso em:
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