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Eletrodeposição de Níquel 2015
Eletrodeposição de Níquel 2015
Finalidades e Aplicações
2. Células Eletrolíticas
2H2O(l) + 2e- H2 (g) + 2OH-(aq) E0= -0,83V Ni0 (s) Ni2+(aq) + 2e- E0 = 0,23 V
Dessa forma, seria possível concluir que nesse processo eletrolítico ocorrerá a
corrosão do anodo de níquel e formação de hidrogênio gasoso no catodo. Contudo,
devido a questões cinéticas a semirreação de formação de hidrogênio é desfavorecida,
e a eletrodeposição de níquel é possível mesmo em presença de H+(aq). Há, contudo,
uma redução na eficiência de corrente catódica devido a essa reação.
A célula de Hull
A célula de Hull constitui uma ferramenta simples, porém muito útil para avaliar
o efeito da densidade de corrente em uma eletrodeposição. Ela é constituída por uma
caixa trapezoidal de material não condutor, com um anodo e um catodo em forma de
placas não-paralelas, conforme mostra a Figura 3. O ângulo do catodo é de 37,5o.
3. Solução Eletrolítica
Sulfato de Níquel
O sulfato de níquel é utilizado como a principal fonte de íons de níquel, pois ele
possui alta solubilidade (570g/l a 50ºC), não é volátil, é relativamente barato,
comercialmente disponível (encontrado com alta pureza) e é uma fonte de íons não
complexa. Entretanto, é evidente que certa quantidade de associação de íons ocorre
em soluções muito concentradas, pois íons com cargas opostas são mantidos juntos
devido às forças de atração. Isso reduz a concentração de íons livres e a sua atividade
na medida em que mais íons são associados. Nas soluções eletrolíticas de níquel, a
atividades dos íons de níquel é ditada pela concentração de sais de níquel na solução,
seu grau de dissociação e a natureza e concentração de outros componentes na
solução. Se a concentração de Ni+2 disponível para a eletrodeposição é baixa, depósitos
“queimados” serão produzidos a uma densidade de corrente relativamente baixa,
impossibilitando a utilização de densidades de correntes maiores. Por essas razões, a
concentração de íons livres de níquel deve ser alta.
Cloreto de Níquel
A utilização do cloreto de níquel possui dois efeitos principais: auxilia na corrosão
do anodo (a quantidade de cloreto de níquel a ser adicionada varia principalmente com
o pH e com a composição dos anodos) e aumenta o coeficiente de difusão dos íons de
níquel, permitindo, dessa maneira, aumentando a densidade de corrente limite (valor
máximo de corrente que pode ser adotado nos processos de eletrodeposição para
obtenção de depósitos de qualidade aceitável). O cloreto de níquel também aumenta a
condutividade do banho e aumenta o rendimento do processo.
Alguns estudos mostraram que o limite de densidade de corrente no cátodo em
uma solução de cloreto é cerca de duas vezes a da solução de sulfato.
Ácido bórico
O ácido bórico é usado para manter o pH do cátodo em um valor pré-
determinado, assim, o parâmetro mais importante num banho de níquel é o pH. O ideal
nos banhos de níquel, é que o pH gire em torno de 3,5 a 3,8, onde há grande atividade
dos íons de hidrogênio, havendo a possibilidade de deposição de hidróxido de níquel e
aumento do pH devido a isso. O ácido bórico mantém o pH baixo e evita essa deposição
do hidrogênio. As melhores propriedades do depósito serão obtidas mantendo-se a faixa
de pH abaixo de 4.
Durante a eletrodeposição de níquel, invariavelmente, ocorre a formação de gás
hidrogênio no cátodo, de acordo com a seguinte reação:
2H+ + 2e ↔ H2
4. Condições de Eletrólise
5. Anodos
6. Aplicações na Engenharia
1. <http://www.substech.com/dokuwiki/doku.php?id=nickel_electroplating> Acessado em
15/06/2015;
2. <http://www.tutorvista.com/content/chemistry/chemistryii/electrolysis/electroplating.php>
Acessado em 14/06/2015;
4. <http://www.miningweekly.com/article/nickel-institute-calls-for-more-research-to-
improve-vehicle-fuel-efficiency-slash-emissions-2008-05-30> Acessado em 10/06/2015;