Chemical Vapor

Deposition
CVD

CTFF:
Jose Humberto Dias da Silva - Professor
Felippe Folegatti - Aluno
Introdução

● CVD(Chemical Vapor Deposition)

● Capítulo 7 no livro do Smith

● Tema amplo e complexo

Tópicos a serem discutidos:

1 Sobre e tipos de CVD

2 Diferenças do PVD para o CVD

3 Aplicações do CVD na indústria eletrônica

4 Conclusão
Sobre CVD

● O que é CVD?

● Onde ocorre o CVD?

● O que é preciso para fazer

CVD em casa
casa?
Sobre CVD

● Deposição de materiais por

vapor de reação

● Serve para F.F, slabs de

materiais(bulk) entre outros

● Diferentes condições, diferentes

características(F/T/Q/C)
Sobre CVD

● Source gas(Vapor do Precursor)

● Gaseous P.

● Carrier gas(fluxo de gás)

● Energia sob o sistema(Estímulo)

Sobre CVD
Sobre CVD
Tipos de CVD

● Muitos tipos de CVD

Estímulo

● Variações das variáveis

principais do processo
Pressão

Source
 Pressão Pressão

● Atmospheric pressure CVD (APCVD) ● Low-pressure CVD (LPCVD)

● Ultrahigh vacuum CVD

(UHVCVD)(10−6 Pa ∼ 10−8 torr)
 Source

● Atomic layer CVD (ALCVD) or ALD

● Direct liquid injection CVD (DLICVD)

 Estímulo

● Plasma Enhanced CVD(PECVD)

● Photo-Initiated CVD(PICVD)
PVD vs CVD
PVD vs CVD
PVD vs CVD

● Superfícies muito mais uniformes

● Menos porosidade

● Formatos complexos

● Possibilita ALD
CVD na indústria eletrônica
CVD e indústria eletrônica

● Condutores ● Heat sink

● Camadas de passivação ● Células solares

● Crescimento epitaxial ● Diamantes

● Deposição padronizada
*Deposição de óxidos de Si em redes plásticas
Conclusão

● Alta aplicabilidade ● Novas possibilidades

● Grande Complexidade ● Qualidade

● Lucrativo ● Tecnologia
Bibliografia e referências

Jan-Otto Carlsson, Peter M. Martin, Chapter 7 - Chemical Vapor Deposition,Editor(s): Peter M. Martin,
Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings (Third Edition),William Andrew
Publishing,2010,Pages 314-363,ISBN 9780815520313, https://doi.org/10.1016/B978-0-8155-2031-3.00007-7.
(https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/B9780815520313000077)

Milton Ohring,Chapter 6 - Chemical Vapor Deposition,Editor(s): Milton Ohring,Materials Science of Thin

Films (Second Edition),Academic Press,2002,Pages 277-355,ISBN
9780125249751,https://doi.org/10.1016/B978-012524975-1/50009-4.(https://www.sciencedirect.com/science/a
rticle/pii/B9780125249751500094)