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Universidade Federal de Santa Catarina

Blumenau
Engenharia de Materiais

Comportamento Mecnico de Filmes Finos

Allan Marciel Doring

Bruno Henrique Ristov
Guilherme Dias Zarur

Blumenau
2017
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Allan Marciel Doring

Bruno Henrique Ristov
Guilherme Dias Zarur

Comportamento Mecnico de Filmes Finos

Monografia apresentada como exigncia

para obteno do grau de Tecnologia em
Engenharia de Materiais da Universidade
Federal de Santa Catarina.

Orientador: Wanderson Santana da Silva

Blumenau
2017
 2

RESUMO

Ainda hoje, a engenharia de superfcie pouco estudada. Buscando-se

entender as propriedades finais de filmes finos como efeitos de aderncia e a
resistncia ao desgaste microabrasivo, fez-se o presente estudo bibliogrfico. So
possveis, com poucas fontes, notar que as propriedades mecnicas de filmes finos
so muito diferentes se comparados aos materiais no estado bulk devido
principalmente alta influncia dos efeitos de interfaces e da microestrutura
material.

Nesta linha de materiais, tm-se aplicaes diversas com propriedades

existentes de forma especfica conforme necessidade. Tal como feita a nitretao
por plasma (mistura de ons, tomos, molculas e eltrons), que se trata de um
processo que altera a superfcie do material para criar uma camada protetora que
aumenta a vida til do material estudado. Este mtodo ocorre diferentemente para
cada pea em funo da constituio do material, da aplicao de esforos
especficos a que este ser submetido e tambm do tratamento trmico
caracterstico que sofreu previamente, e estes parmetros promovem um maior
controle de trabalho, possibilitando que se determine a espessura desta camada
branca (filme fino) formada durante este tratamento, sendo aplicvel na grande parte
dos aos ferramentas.

Palavras-chave: Filmes finos, propriedades mecnicas, microestrutura, nitretao,

plasma, tratamento trmico, aos ferramenta.
 3

ABSTRACT

Even nowadays, surface engineering is little studied. In order to understand

the final properties of the thin films as adhesion effects and resistance to
microabrasive wear, the present bibliographic study was carried out. Its possible,
with the use of few study sources, to realize that the mechanical properties of thin
films are very different compared to materials in the bulk state due mainly to the high
influence of the effects of interfaces and the material microstructure.

In this line of materials, there are several applications with existing properties
of specific form as needed. As it's done in plasma nitriding (mixture of ions, atoms,
molecules and electrons), corresponds to a process that changes the surface of the
material to create a protective layer that increases the life cycle of the studied
material. This method occurs differently for each piece depending on the constitution
of the material, the application of specific stresses to which it will be subjected and
also of the characteristic heat treatment that has undergone previously, and these
parameters promotes a greater control of work, making possible to determine the
thickness of the white layer (thin film) formed during this treatment, being applicable
in the great part of the tools steels.

Key-words: thin films, properties, microstructure, nitriding, plasm, heat treatment,

tool steels.
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LISTA DE FIGURAS

Figura 1- Plasma constitudo de uma mistura de N2-H2 envolvendo as peas no forno

(https://ansion005.wordpress.com). ..................................................................................... 12
Figura 2- Processo do tratamento superficial feito por Nitretao a plasma
(http://www.moldesinjecaoplasticos.com.br/metaisaplasma.asp). ........................................ 13
Figura 3- Influncia do carbono no crescimento da camada branca ( esquerda) e da zona
difusa ( direita). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E
AISI H13, So Paulo, 178p. ................................................................................................. 14
Figura 4- Processo de PAPVD. Fonte:Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 16
Figura 5-Modelo de Thorton para formao do filme fino em PAPVD. Fonte: Franco Junior,
Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A
PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.
............................................................................................................................................ 17
Figura 6- Camada de filme DLC sobre um substrato metlico. Fonte:
https://tribology.asmedigitalcollection.asme.org/article.aspx?articleID=2470744 .................. 19
Figura 7- Diagrama de fases ternrio para o a-C. Fonte: Donnet, C. Erdemir, A. Tribology of
Diamond-like Carbon films; Springer, 2008, p 14. ................................................................ 20
Figura 8- Tabela de algumas caractersticas estruturais e propriedades de materiais a base
de Carbono. ......................................................................................................................... 21
Figura 9- Modelo de nanodurmetro para investigao do filme fino. Fonte:
http://www.fischer-technology.com/en/united-states/products/material-testing/microhardness-
and-mechanical-properties/hm2000-s/ ................................................................................. 22
Figura 10- Grfico da carga (mN) contra a profundidade de penetrao (nm). Fonte: Franco
Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO
A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003,
178p..................................................................................................................................... 23
Figura 11- Trincamento do ao e exposio do substrato. Fonte: Franco Junior, Adonias
Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E
PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............. 24
Figura 12- Montagem experimental do equipamento (imagem adaptada). Fonte: Franco
Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO
A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003,
178p..................................................................................................................................... 25
Figura 13- Cratera de desgaste de microabraso: Y, dimetro da calota interna. X, parte
externa da calota (superfcie da amostra que no sofreu abraso) ...................................... 25
Figura 14- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao (5%
de N2 a 520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E
AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. ....................................................................................... 29
Figura 15- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao
(10% de N2 a 520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
 5

FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 29

Figura 16- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao
(20% de N2 a 520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 30
Figura 17- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos
com 5% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 30
Figura 18- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos
com 10% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 31
Figura 19- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos
com 20% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE
REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS
FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p. .............................................. 31
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LISTA DE TABELAS

Tabela 1- Tipos de Aos Ferramentas (AISI/ SAE- imagem adaptada) ................................ 28

Tabela 2- Composio qumica de elementos ligantes do ao AISI D2 (AISI/SAE imagem
adaptada, disponvel em: http://www.favorit.com.br/produtos/acos-ferramenta/aco-aisi-d2) 28
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SUMRIO

1- INTRODUO 8
2- OBJETIVO 10
3- REVISO BIBLIOGRFICA 11
3.1- Filmes Finos 11
3.1.1 Nitretao a Plasma 11
3.1.1.2 Propriedadas das Camadas Nitretadas a Plasma 15
3.1.2 Deposio Fsica de Vapor Assistida por Plasma (PAPVD) 15
3.1.2.2 Propriedades dos filmes depositados via PAPVD 17
3.1.3 FILMES FINOS DE DIAMOND-LIKE CARBON (DLC) 18
3.1.3.1 CLASSIFICAO DOS FILMES DE a-C 19
3.1.3.2. PROPRIEDADES MECNICAS DOS FILMES DE DLC 21
4- DETERMINAO DAS PROPRIEDADES DE INTERESSE 22
4.1 Ensaio no nanodurmetro 22
4.2 Aderncia Rockwell 23
4.3. Microabraso 24
5 - A APLICAO DE FILMES FINOS 27
5.1 - Aos Ferramenta 27
5.2 Aplicao em AISI D2 28
5.2.1 Variao da dureza com o tempo de nitretao e concentrao de N2 28
6- CONCLUSO 32
7- REFERNCIAS 33
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1- INTRODUO

O estudo da vida til de materiais que desenvolvem em sua superfcie

primordial (antes de sofrer algum tratamento/processo) defeitos que ocasionam
perda material gerando gasto para o retrabalho, ou da forma de falha material;
tornou-se fundamental em diversas aplicaes industriais. E para tanto foram
desenvolvidas vrias tcnicas de tratamento superficial que promovessem certa
melhora das propriedades de superfcie dos materiais. Os tratamentos de superfcie
permitem transformar materiais visto como convencionais em materiais com
propriedades especiais, especficas para seu trabalho promovendo uma melhora de
vida til e diminuindo o gasto do processo de retrabalho.
Para serem feitos tratamentos de superfcie em ligas metlicas, observado o
uso de tcnicas que utilizam feixe de eltrons, laser, plasma e deposio qumicas e
fsicas de vapor, que fazem assim uma substituio para as formas comuns como,
por exemplo, a nitretao gasosa, galvanoplastia, cementao; que utilizam em seu
processo substncias que agridem ao meio ambiente. Para a modificao de
superfcies via partculas ionizadas, faz-se de duas formas, sendo a 1 a implantao
inica, que consistem em um processo de feixes inicos onde tomos ou molculas
so ionizados, acelerados em um campo eltrico e implantados num material alvo [1-
Implantao Inica Por Angela Emilia de Almeida Pinto e Manfredo H. Tabacniks-
http://www2.if.usp.br/~lamfi/implanta.htm]. E a 2 forma sendo a deposio assistida
por plasma, cujo processo feito pela introduo de gases reagentes entre eletrodos
paralelos, e assim os o acoplamento capacitivo entre os eletrodos excita os gases
reagentes em um plasma, o qual induz uma reao qumica e o resultado desta
reao depositado no substrato. A 2 forma tambm conhecida como
implantao inica por imerso em plasma.
Um processo que utiliza o processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical
Vapor Deposition, deposio qumica de vapor assistida por plasma), a nitretao
por plasma. Este se trata de um tratamento fsico-qumico ativado termicamente que
acarreta num endurecimento da superfcie material devido deposio do
nitrognio. Durante este tratamento ocorrem trs processos sendo estes Ocorrem
trs processos especficos na nitretao a plasma:

Sputtering: processo que causa a remoo de tomos de uma superfcie pela

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incidncia de ons ou partculas neutras;

Adsoro: processo de adeso de tomos e molculas da atmosfera em uma
superfcie e;
Dessoro: processo de sada de tomos e molculas aderidas em uma superfcie
para a atmosfera.
Diferentemente dos outros processos de nitretao (a gs convencional, em
sais fundidos), a nitretao a plasma apresenta um maior controle das
caractersticas finais da camada formada tais como, por exemplo, a profundidade da
nitretao, a microestrutura material e a espessura desta camada. Alm destas
caractersticas, o meio inico apresenta um menor consumo de energia e trabalha
em temperaturas mais baixas.
Como a aplicaes finais para os materiais ps-tratamento so em condies
de exigncia boa resistncia mecnica e alta resistncia ao desgaste, faz-se
necessrio o estudo das alteraes microestruturais nas camadas nitretadas nos
aos ferramentas industriais devido variao do tempo de tratamento. Estas
modificaes microestruturais so responsveis pelo endurecimento superficial, de
forma a influenciar diretamente na resistncia ao desgaste.
 10

2- OBJETIVO

O objetivo deste trabalho foi efetuar o estudo das propriedades mecnicas de

filmes finos, entendo sua deposio, composio, e como estas propriedades podem
ser aplicadas.
 11

3- REVISO BIBLIOGRFICA

3.1- Filmes Finos

Consideram-se filmes finos materiais que tem uma dimenso (a espessura)

muito menor que as outras duas. A espessura destes pode variar de fraes de
nanmetros at micrometros.
O desenvolvimento destes materiais representa grande avano tecnolgico
uma vez que atravs da aplicao destes filmes possvel atingir excelentes
propriedades pticas, eltricas e at mecnicas. De fato, estes filmes so
amplamente aplicados nas reas pticas, em placas para efeitos fotovoltaicos, e em
revestimentos que buscam melhorias de propriedades mecnicas, como dureza e
resistncia ao desgaste.
Os principais meios para aplicao destes filmes podem ser divididos em
deposio qumica e a deposio fsica. A deposio fsica consiste na criao de
um filme slido contnuo envolvendo a superfcie sem grandes interaes com a
mesma. A deposio qumica realizada com interao entre superfcie e filme,
alterando composio e estrutura do material. As principais tcnicas de aplicao
destes filmes, as suas propriedades e como mensur-las so abordadas a seguir.

3.1.1 Nitretao a Plasma

Denomina-se nitretao o tratamento fsico-qumico ativado termicamente que

promove um endurecimento da superfcie material devido deposio do nitrognio,
a uma dada temperatura, at uma determinada profundidade. Esse processo,
normalmente, utilizado com objetivo de aumentar a resistncia ao desgaste,
corroso e fadiga.

A nitretao a plasma ou assistida por plasma tem como diferencial ser um

processo termoqumico que, em sua realizao, se utiliza uma mistura gasosa de
nitrognio e, usualmente, hidrognio.
 12

O tratamento se caracteriza pelo ensaio em baixa presso (133 a 1333 Pa- 1

a 10 Torr) em cmara hermtica, onde uma tenso de no mnimo 300 V entre os
eletrodos da cmara aplicada entre a pea a ser estudada e a parede do forno.
Esse parmetro importante para fornecer durante todo o processo ons 2 +, 2 +,
e eltrons que, atravs destes e da diferena de potencial (d.d.p) gera uma corrente
eltrica com densidades variveis de carga. Essa densidade atualmente
controlada por sistemas eletrnicos visando uma maior densidade de carga, pois
esta mais favorvel para nitretao, e evitando criao de arcos voltaicos que
poderiam danificar a pea. Devido a esses fatores ocorre uma visvel descarga
luminescente (figura 1), que o gs ionizado, que se situa ao redor da superfcie,
que ento bombardeada ons, liberando nitrognio ativo na superfcie, devido
decomposio dos nitretos formados durante esta etapa. De acordo com ALVES
JUNIOR, Clodomiro (2001, p. 19):
Para presses baixas a descarga possui um brilho de cor rsea de pequena
intensidade que caracterstico do material do catodo (geralmente ao) e do gs. medida que se
aumenta a presso, este brilho vai ficando mais intenso e mais localizado em torno do catodo, at
que se atinge uma condio de descarga propcia nitretao.

Figura 1- Plasma constitudo de uma mistura de N2-H2 envolvendo as peas no forno

(https://ansion005.wordpress.com).

Devido a este mecanismo, a cobertura superficial facilmente realizada

cobrindo-se as reas de interesse com uma manta metlica. O tratamento de
nitretao a plasma permite a modificao superficial de acordo com as
propriedades de interesse, podendo gerar camadas e perfis de dureza apropriados
ao se personalizar a mistura gasosa para etapa inicial. Segundo CHIAVERINI,
Vicente (1996, p. 144, grifo nosso):
 13

Os ons positivos do nitrognio, produzidos no interior da ''descarga

incandescente'' (Momento que o gs excitado e ionizado), so atrados em direo s peas,
carregadas negativamente; eles chocam-se com as superfcies das peas, ficando, pois, sua
passagem obstruda. As peas so, assim, aquecidas at a necessria temperatura de difuso do
nitrognio.

Estudos sobre modelagens tericas do mecanismo de deposio do filme fino

por nitretao a plasma ainda so realizados pois ainda no se tem completa
compreenso do fenmeno. Entretanto trs modelos tericos abordam de forma
satisfatria este mecanismo: O sputerring ou vaporizao no qual tomos da
amostra so expulsos do corpo de prova por interaes com nitretos ou outras
partculas, dando origem a defeitos cristalogrficos que auxiliam no aderimento do
filme; o impacto de ons na amostra de forma a de fato inserir o nitrognio na pea,
sendo este impacto fruto da acelerao dos ons pelos campos eltricos gerados
conforme citado anteriormente; e a absoro do nitrognio em si. A figura 2 ilustra
esquematicamente estes mecanismos ocorrendo simultneamente.

Figura 2- Processo do tratamento superficial feito por Nitretao a plasma

(http://www.moldesinjecaoplasticos.com.br/metaisaplasma.asp).

A diferena notvel entre estruturas nitretadas a plasma ou

convencionalmente obtida apenas em escala microscpicas, ou seja,
macroscopicamente ambas as camadas so parecidas. Devido ao fcil controle dos
 14

parmetros de ddp, quantidade de nitrognio e outros, o mtodo a plasma oferece

melhor controle quanto s camadas formadas quando comparados a nitretao a
gs, controlando assim o crescimento da microestrutura. Percebe-se tambm que
este crescimento determinado tambm pela difuso, de modo que o crescimento
da camada se d pelo coeficiente de difuso do nitrognio, que tem menor
coeficiente em nitretos, indicando que conforme o crescimento da camada nitretada,
a velocidade de crescimento da mesma tende a diminuir. Alm disso, o carbono
quando em quantidades suficientes retarda o crescimento da camada.
Nota-se que formado uma camada de compostos nitretados seguido por
uma camada de difuso, na qual o nitrognio difundido e reage com elementos da
liga. A cama de compostos tambm chamada de camada branca, e pode ser
formada por nitretos de diferentes estruturas, como a fase (4 ) e a fase
(23 e outras interaes com elementos de liga. J a zona de difuso a zona
onde o nitrognio penetra na amostra, precipitando em nitretos na ferrita, gerando
tenses residuais, levando a um rearranjo do carbono em soluo que migra para
regies sem tenses, de modo que a zona formar descarbonetada. A influncia do
carbono no tamanho da camada nitretada exibida na figura 3.

Figura 3- Influncia do carbono no crescimento da camada branca ( esquerda) e da zona

difusa ( direita). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI
H13, So Paulo, 178p.
 15

3.1.1.2 Propriedadas das Camadas Nitretadas a Plasma

As propriedades dos filmes so dependentes da capacidade de aderncia do

filme no componente, tambm denominado como resistncia ao desgaste. onde as
superfcies so ligadas por foras de valncias, mecnicas ou ambas. Uma vez que
estas camadas esto unidas, ambas se comportam como um nico componente
mecnico reagindo a solicitaes externas. Neste sentido, caso ocorra o rompimento
de alguma das camadas, o componente perde sua funcionalidade, podendo ocorrer
falhas do tipo coesiva ou adesiva. Falhas coesivas ocorrem quando h uma
diferena muito grande entre a dureza dos filmes, gerando falhas no substrato ou no
revestimento, j as adesivas ocorrem quando h uma similaridade de propriedades,
promovendo falhas na interface entre os filmes.
Nos filmes nitretados a plasma, observa-se a formao de camadas com de
interface composta, onde a interao entre substrato e revestimento gera tenses
devido a transformao volumtrica resultante das transformaes qumicas, tendo
estas camadas uma aderncia satisfatria. Alm disso, esta camada seguida por
uma interface de difuso, resultando numa transio gradual das propriedades do
filme para o componente em si, o que aumenta a aderncia revestimento-substrato.
Outro fator importante a rugosidade do substrato e o mtodo de aplicao
do revestimento. Devido a aplicao do nitreto via plasma direcionado, com auxlio
de uma temperatura favorecendo a mobilidade do substrato, a camada formada tem
menor rugosidade.
Em sntese, camadas nitretadas a plasma tm boa profundidade de
endurecimento, melhores resistncias fadiga e alta dureza.

3.1.2 Deposio Fsica de Vapor Assistida por Plasma (PAPVD)

Neste processo, a deposio do filme feita a partir do mecanismo de

sputtering ou vaporizao, o qual foi abordado na nitretao a plasma, atuando
neste mecanismo de forma similar, expulsando tomos da matriz via ons incidentes,
que so impregnados na amostra.
Desta forma, no necessrio utilizao de altas temperaturas para
promover a vaporizao e a decomposio, sendo realizado em faixas entre 200C e
 16

600C. Porm, sendo este processo uma deposio fsica, faz se necessrio a

utilizao de um alto vcuo (103torr = 1,3210 6 atm), contando com descargas

eltricas entre 3 a 10 KV. Utiliza-se isto para que os tomos e gases percorram no
menor tempo possvel trajetrias retilneas o caminho entre a fonte e a pea a ser
revestida. Neste sentido, percebe-se grande facilidade em tratar componentes
planos, lisos, sendo este processo dificultado em geometrias complexas, alm de
existir certa dificuldade do controle do tamanho da camada criada.
Pode-se descrever o mecanismo de PAPVD da seguinte forma: antes do
processo em si, o bombardeamento de ons limpa a pea de qualquer xido ou gs
adsorvido, fazendo com que o revestimento tenha aderncia otimizada; durante a
deposio, o bombardeamento remove qualquer elemento fracamente ligado,
enquanto a energia trmica fornece aos ons mobilidade para formao de uma
camada mais aderente e regular, gerando tenses internas compressivas na
amostra, que aumentam propriedades como dureza e resistncia ao desgaste. A
figura 4 ilustra o processo de PAPVD.

Figura 4- Processo de PAPVD. Fonte:Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE

REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA
AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.
 17

3.1.2.2 Propriedades dos filmes depositados via PAPVD

As propriedades destas podem ser controladas pelo potencial no substrato e

temperaturas controlam o crescimento da camada. Pode-se relacionar o crescimento
da camada com a relao entre a razo da temperatura do substrato e a
temperatura de fuso material depositado. De acordo com o modelo de Thorton,
quando esta razo menor do que 0,1 tem-se a zona 1, onde a difuso no
importante, tendo uma morfologia de gros alongados e pequenos com pequena
interao, fornecendo uma porosidade longitudinal para o filme. Na zona dois os
efeitos da difuso so mais pronunciados, pois a temperatura do substrato aumenta,
formando uma estrutura mais densa e as colunas citadas anteriormente tem maior
interao entre si, lembrando contornos de gro. Por fim, a zona 3 tida como a
zona onde se obtm gros axiais por recristalizao. A figura 5 exibe
esquematicamente o modelo de zonas de Thorton.

Figura 5-Modelo de Thorton para formao do filme fino em PAPVD. Fonte: Franco Junior,
Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E
PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.

Neste sentido, em termos de propriedades mecnicas, almeja-se a formao

de camadas da zona 3, sendo estas a mais coesa, menos rugosa e com menor
probabilidade de falha.
J o potencial do substrato influencia nas presses internas geradas na
amostra, pois impacto do bombardeio diretamente ligado diferena de potencial
do substrato, de forma que maiores impactos implicam em maiores tenses
compressivas geradas. Deve-se cuidar com estas tenses, pois um excesso de
tenses pode produzir desprendimento espontneo do filme.
De modo resumido, as filmes criados por PAPVD dependem destes
parmetros de controle e do tipo de material que est sendo depositado, e
 18

normalmente apresentam caractersticas como alta resistncia ao desgaste,

resistncia ao calor e alta dureza.

3.1.3 FILMES FINOS DE DIAMOND-LIKE CARBON (DLC)

O diamante tem aplicaes incrveis na rea de engenharia, devido ao seu

comportamento mecnico elevado, tais como dureza, mdulo de elasticidade e
menor compressibilidade entre os materiais de engenharia. Essas propriedades
caractersticas do diamante so intrnsecas ao tipo de ligao entre os tomos de
carbono que esto hibridizados com orbitais do tipo sp 3. O fator limitante de uma
ampla utilizao deste material seu custo, o qual bastante elevado devido a sua
raridade na natureza e s elevadas condies de temperatura e presso necessrias
para sintetiz-lo artificialmente.

Pensando em uma soluo para conseguir as propriedades do diamante e

evitar os custos elevados associada compra deste material, cientistas tentaram
sintetizar o diamante a baixas presses, em condies nas quais este material
metaestvel. Conseguiram sintetizar filmes policristalinos de diamante, mas a uma
invivel taxa de crescimento de apenas algumas dezenas de nanmetros por hora.
Continuando os esforos e as pesquisas, chegaram a taxas de crescimento bem
maiores, de dezenas de micrmetros por hora, e, alm disso, descobriu nesta
pesquisa uma classe inteira de novos materiais, denominada de carbono tipo
diamante (mais conhecida pelo termo em ingls diamond-like carbon, que d origem
sigla DLC).

Os filmes de DLC apresentam estrutura similar do diamante, no entanto so

predominantemente amorfos (ou eventualmente microcristalinos), enquanto o
diamante apresenta estrutura cristalina. Ainda assim, apresentam diversas
propriedades interessantes do ponto de vista industrial e semelhantes s do
diamante, tais como baixo coeficiente de atrito, elevada estabilidade trmica e
elevada resistividade eltrica. Isto se deve ao fato de que os filmes de DLC contm
inmeras ligaes de tipo sp, assim como o diamante. No entanto, estes filmes
tambm podem apresentar ligaes sp, de forma que se torna possvel estimar as
propriedades e caractersticas de um filme de DLC atravs do clculo da razo
sp/sp, em que sp representa o perfil diamante e sp, o grafite. O carter
desejado para o filme depende da aplicao, que abrange desde dispositivos opto
eletrnicos e melhoria das propriedades qumicas e/ou tribolgicas de componentes,
at a melhoria de ferramentas e de peas para setor automobilstico e revestimento
para moldes, matrizes e prteses (biomateriais).
 19

Figura 6- Camada de filme DLC sobre um substrato metlico. Fonte:

https://tribology.asmedigitalcollection.asme.org/article.aspx?articleID=2470744

3.1.3.1 CLASSIFICAO DOS FILMES DE a-C

O a-C um hbrido das estruturas do diamante e do grafite e, sendo assim, possui

propriedades intermedirias entre as duas primeiras formas cristalinas. Alguns tipos
de a-C so extremamente duros e compostos principalmente por carbonos sp 3,
enquanto que outros so macios devido grande presena de carbonos sp 2,
normalmente arranjados na forma de anis aromticos.

As diferentes estruturas e composies qumicas de materiais base de a-C so

comumente apresentadas em um diagrama ternrio de fases, conforme o que est
apresentado na Figura 6. Ele exibe os domnios especficos das vrias formas de a-
C que compem toda a famlia de revestimentos DLC, em relao quantidade de
carbonos com hibridizaes sp2 e sp3 e com o contedo de hidrognio.
 20

Figura 7- Diagrama de fases ternrio para o a-C. Fonte: Donnet, C. Erdemir, A. Tribology of
Diamond-like Carbon films; Springer, 2008, p 14.

Ao longo do eixo mais esquerdo do diagrama ternrio da Figura 7, possvel

observar algumas formas de DLC livres de hidrognio. O carbono graftico, tambm
chamado de carbono vtreo, est localizado no canto inferior deste eixo, e apresenta
basicamente carbonos sp2, no sendo classificado como DLC. Este material pode
ser obtido pelo processo de evaporao por deposio fsica a vapor (PVD). Em
seguida, observa-se o sputtered a-C, uma forma de a-C sem hidrognio com uma
frao de carbonos sp3 maior do que o carbono vtreo. Porm, a presena de
carbonos sp2 ainda dominante nesse material, pois a maior parte dos ons
produzidos durante a deposio de baixa energia. O sputtered a-C obtido atravs
da tcnica PVD de pulverizao catdica (conhecida tambm por magnetron
sputtering MS), onde um plasma de ons de argnio (Ar) utilizado para remover
tomos de carbono de um alvo de grafite puro por transferncia de momento, e criar
um fluxo de ons de carbono que devem se depositar sobre o material de interesse.
Se gs hidrognio for adicionado durante o processo (MS reativo), pode-se obter o
sputtered a-C:H, representado no diagrama da Figura 7 como uma rea de domnio
que se estende do eixo mais esquerdo em direo ao centro do diagrama.
Aumentando-se ainda mais o contedo de carbonos sp 3, possvel obter-se o
carbono amorfo tetradrico (ta-C) justamente porque a elevada frao de carbonos
sp3 permite formar uma estrutura tetradrica. Esse material pode ser obtido pelas
seguintes tcnicas: deposio por laser pulsado (PLD); deposio por feixe de ons
de massa selecionada (MISB); deposio por arco catdico; entre outras. Nesses
processos, um feixe de ons de carbono com energia bem definida, prxima a 100
eV, produzido e acelerado em direo ao substrato, formando um filme com uma
elevada frao de carbonos sp3.
 21

A segunda regio de interesse do diagrama da Figura 7 est representada no

canto inferior direito. Nessa regio, a quantidade de hidrognio to grande que
impede o material de formar uma rede totalmente conectada, impossibilitando a
formao de filmes e dando origem a molculas de gases. Uma linha limite divide
essa regio com a terceira e ltima regio de interesse do diagrama, que compe os
filmes de DLC hidrogenados. O carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) normalmente
obtido atravs da tcnica de deposio qumica a vapor assistida por plasma
(PECVD), pela decomposio inica de um hidrocarboneto, sendo o metano e o
acetileno os precursores mais utilizados. Esse material encontra-se na regio central
do diagrama, e por isso, apresenta em sua composio um misto de carbonos sp 3,
carbonos sp2 e hidrognio. Os filmes de a-C:H podem ainda ser modificados pela
incorporao de elementos qumicos metlicos (Ti, W) e no metlicos (B, O, N, F,
Si), dando origem s formas conhecidas como a-C:H:Me e a-C:H:X,
respectivamente.

3.1.3.2. PROPRIEDADES MECNICAS DOS FILMES DE DLC

Devido s propriedades de baixo coeficiente de atrito, alta dureza, alta

resistncia ao desgaste e inrcia qumica, entre outras, os filmes de a-C possuem
inmeras aplicaes nas indstrias automotiva, aeroespacial, biomdica e da
microeletrnica.

As propriedades de alta dureza e resistncia ao desgaste esto diretamente

relacionadas com a frao de carbonos sp3 presentes no DLC, e provm de fortes
ligaes entre seus orbitais. A tabela a seguir mostra as propriedades de
diferentes tipos de DLC comparados com o diamante, grafite e polietileno.

Figura 8- Tabela de algumas caractersticas estruturais e propriedades de materiais a base de

Carbono.
 22

4- DETERMINAO DAS PROPRIEDADES DE INTERESSE

4.1 Ensaio no nanodurmetro

No nanodurmetro, pode ser medido o mdulo de elasticidade, dureza vickers

e grau de recuperao elstica. O mtodo consiste em, uma ponta piramidal de
diamante penetra na superfcie do material. O nanoindentador, equipamento que
realiza os ensaios, mede continuamente a carga, o deslocamento e o tempo.
Relacionando-se essas grandezas, atravs de um algoritmo prprio da mquina de
ensaio, determina-se dureza e o mdulo de elasticidade.
Com esse ensaio so permitidas algumas caractersticas como, por exemplo,
controle das taxas de carregamento e descarregamento at a carga mxima;
manuteno a carga mxima por longos ou curtos tempos de espera e ensaios em
sequncia.
Deve-se observar certa distncia entre as indentaes, pois a deformao do
material pode alterar propriedades dos arredores da amostra de forma a prejudicar
medidas realizadas em regies prximas.

Figura 9- Modelo de nanodurmetro para investigao do filme fino. Fonte: http://www.fischer-

technology.com/en/united-states/products/material-testing/microhardness-and-mechanical-
properties/hm2000-s/

Para determinao do mdulo de elasticidade utiliza-se em geral indentadores

vickers, o qual pressionado contra a mostra o deformando e, aps certo tempo em
contato, tem sua carga removida em uma dada taxa. O carregamento e a
profundidade de indentao so compilados em um grfico, que exibido na figura
10.
De acordo com o modelo de Oliver e Pharr, esse descarregamento obedece a
uma equao potencial descrita como:
= ( )^

Nesta equao P a carga de ensaio, A e m constantes experimentais, hf a

profundidade de penetrao residual, e h a profundidade elstica.
 23

Figura 10- Grfico da carga (mN) contra a profundidade de penetrao (nm). Fonte: Franco
Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A
PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.

A derivada desta funo define o mdulo de rigidez, de modo que:

= / = ( )^( 1)

Para determinao do mdulo de elasticidade em si deve-se obter a rea de

contato entre penetrador e amostra (Ac), identificar via tabelas o coeficiente
necessrio para a equao do mdulo de elasticidade reduzido (), e conhecer o
mdulo de elasticidade do indentador (Ei) Por fim, calcula-se este mdulo pela
relao de hertz, onde

Sendo que o mdulo de elasticidade reduzido dado pela equao abaixo:

Alm disto, pode-se aferir a dureza do composto via dureza vickers, que
relaciona as diagonais deixadas na amostra com a carga inferida. De modo geral, a
dureza vicker tida como:
= ( 1,85)/^2

Sendo d o dimetro das diagonais impressas na pea, P a carga, e 1,85 uma

constante obtida em funo da diagonal mdia.

4.2 Aderncia Rockwell

Este ensaio permite verificar a carga no qual ocorre a falha do revestimento,

 24

atravs de indentaes Rockwell, utilizando indentador cnico de diamante com

cargas variadas.

O teste realizado como um ensaio de dureza Rockell C, utilizado para

materiais de alta dureza. Neste sentido, a realizao do teste consiste na aplicao
de uma carga pelo indentador na amostra, essa aplicao crescente at se atingir
o patamar requerido, o qual mantido constante por cerca de 10 segundos, e por
fim remove-se a carga. Este processo deixa a amostra com uma cratera e, atravs
de anlises microscpicas pode-se verificar em qual carga houve o rompimento do
filme fino.

A figura 10 exibe aspectos observados na falha do revestimento conforme o

aumento da aplicao de carga. Nota-se o torneamento radial na regio prxima a
indentao, que so mais severas em maiores cargas, e uma formao mais anelar
em regies mais afastadas da penetrao. A unio destes dois trincamentos
promove um tipo de falha conhecido como lascamento ou escamao, e
comumente observado em filmes depositados em substratos com baixa capacidade
de absoro de carga.

Figura 11- Trincamento do ao e exposio do substrato. Fonte: Franco Junior, Adonias

Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN
EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.

Nota-se a importncia das propriedades do substrato, sendo que quanto

maior o valor de recuperao elstica do mesmo, melhor a aderncia com o filme
por evitar falhas como a de lascamento. Isto, pois, como citado anteriormente,
quando o substrato e o filme apresentam durezas muito diferentes ocorre a chamada
falha coesiva. Essa falha que resulta no lascamento aumentada em regies de
maior dobramento, como nas regies da borda da indentao.

4.3. Microabraso

O Ensaio permite determinar a espessura do revestimento e avaliar o seu

 25

comportamento quanto abraso. Apresenta como grande vantagem possibilidade

de medir simultaneamente a resistncia ao desgaste do revestimento e do substrato.
O mecanismo de teste exibido na figura X, na qual se pode observar que a
amostra fixada em um aparato mecnico, de forma a ficar em contato direto com a
esfera que rotaciona em um mesmo ponto da amostra, gerando desgastes da
superfcie da amostra. A esfera rotacionada pelo giro da barra ligado ao motor, e
adiciona-se de tempos em tempos, normalmente em faixas de 2 a 5 segundos, uma
soluo abrasiva entre a esfera e a amostra. A carga do ensaio dada pelo peso da
esfera, e a inclinao da mesa e do eixo.

Figura 12- Montagem experimental do equipamento (imagem adaptada). Fonte: Franco Junior,
Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E
PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.

Observa-se um microscpio ptico embutido no aparato, sendo este utilizado

para medir com maior preciso aspectos da cratera formada na amostra devido ao
desgaste. A figura 13 ilustra aspectos tpicos desta cratera formada pela amostra
conforme a anlise de microscopia ptica.

Figura 13- Cratera de desgaste de microabraso: Y, dimetro da calota interna somada

diferena dos raios. X, parte externa da calota (superfcie da amostra que no sofreu abraso)
 26

possvel notar o aspecto da cratera criada, tendo uma parte mais escura,
sendo a parte mais desgastada pela esfera, e a parte mais clara com alguns riscos
mais aprofundados, representando a parte do revestimento que no sofreu abraso.
Atravs desta anlise podem-se obter parmetros para determinar a

espessura do filme fino, de acordo com a equao: = na qual e espessura, x

e y medida visvel na ilustrao acima, e D o dimetro da amostra.

Outro dado importante obtido por esse ensaio so os coeficientes de desgastes
do filme (Kf) e do substrato (Ks), sendo este parmetro importantssimo para
aplicao de filmes finos, uma vez que quanto menor este coeficiente, maior ser a
durabilidade do material por apresentar menor perda por desgaste. Estes fatores so
calculados pela formula apresentada na figura X, sendo L e F a distncia de
deslizamento, F a fora normal superfcie da amostra, e b o dimetro externo da
rea clara afetada pelo desgaste. .

Nota-se que Kf e Kc so determinados simultaneamente. F ajustado de

acordo com o ngulo entre amostra e esfera, relacionando o peso da esfera, e L
calculado pela forma exibida abaixo, onde n o nmero de voltas do eixo.
 27

5 - A APLICAO DE FILMES FINOS

5.1 - Aos Ferramenta

Aos ferramentas fazem parte de um conjunto de aos que so utilizados para

fabricao de ferramentas industriais (mecnicas e manuais). So em sua maioria
de alta qualidade, ou seja, apresentam poucas incluses ou segregaes. Os
primeiros aos ferramentas tinham o carbono como o principal elemento, no
apresentando elementos de liga, eram classificados como aos W (temperveis em
gua, W- water). E visando atender outras exigncias de severidade em seu servio
alm da diminuio da formao de trincas no tratamento trmico e um maior
controle dimensional passou-se a adicionar elementos a fim de atender as
propriedades finais.

De acordo com as normas (AISI/ SAE) os aos ferramentas so classificados

em famlias conforme mostra a Tabela 1:

TIPO DESIGNAO APLICAES

O Aos ferramentas para Trabalhos a frio

trabalho a frio-tempervel em
leo (Oil)
A Aos ferramentas para Trabalhos a frio
trabalho a frio-tempervel ao
ar (Air)
M Aos rpidos ao molibdnio Usinagem
(Molibden)
W Aos ferramentas para Trabalho a frio
trabalho a frio- tempervel
em gua (Water)
D Aos ferramentas para Trabalho a frio
trabalho a frio (Deep)-
tempervel ao ar
H Aos ferramentas para Trabalho a quente
trabalho a quente (Hot)
 28

T Aos rpidos ao tungstnio Usinagem

(Tungsten)
P Aos para moldes (Plastics) Molde para injeo de plsticos
S Resistentes ao choque Trabalho a quente ou a frio
(Shock)- tempervel em leo
Tabela 1- Tipos de Aos Ferramentas (AISI/ SAE- imagem adaptada)

5.2 Aplicao em AISI D2

O ao AISI D2 altamente utilizado para a fabricao de ferramentas de corte

a frio e conformao, pois este combina suas propriedades mecnicas e resistncia
ao desgaste. O controle destas propriedades finais do material estudado depende de
fatores particulares do ao relacionados sua microestrutura primordial, tamanho,
forma e distribuio de carbonetos e seus ciclos tratamento trmico (alvio de
tenses, tmpera, revenimento, tratamento sub-zero, nitretao). A composio
qumica de elementos ligantes deste ao apresentada na tabela 2:

C Mn P max. S max. Si Cr Mo V max.

1,40 - 0,150- 0,030 0,030 0,15- 11,00- 0,70- 1,10

1,60 0,60 0,60 13,00 1,20

Tabela 2- Composio qumica de elementos ligantes do ao AISI D2 (AISI/SAE imagem

adaptada, disponvel em: http://www.favorit.com.br/produtos/acos-ferramenta/aco-aisi-d2)

O ao estudado muito utilizado no segmento de ferramentas para corte e

conformao de metais por apresentar uma excelente combinao entre resistncia
mecnica e resistncia ao desgaste, para aplicaes como, por exemplo, matrizes
para estampagem, ferramentas para dobramento, repuxo, extruso, pentes
laminadores para roscas, centro para tornos.

5.2.1 Variao da dureza com o tempo de nitretao e concentrao de N2

Os valores representam uma mdia de cinco indentaes. A microdureza na

superfcie da camada nitretada aumenta com o aumento do tempo de tratamento
 29

atingindo 1426,4 HV a 360 minutos. Com o aumento do tempo, h uma maior

concentrao de Nitrognio em soluo slida que leva a maiores distores na
matriz, promove o aumento da dureza. Em tempos menores, o aumento da dureza
menor, mas significativo em relao ao material no tratado.

Os grficos a seguir mostram como a dureza varia com o tempo de nitretao

para diferentes concentraes de N2 no meio reacional.

Figura 14- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao (5% de
N2 a 520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX
POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So
Paulo, 2003, 178p.

Figura 15- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao (10% de
N2 a 520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX
POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So
Paulo, 2003, 178p.
 30

Figura 16- Variao da dureza no topo da camada nitretada com o tempo de nitretao (20% de N2 a
520C). Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR
NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So Paulo, 2003, 178p.

Tambm podemos fazer a seguinte comparao, a variao da dureza com a

profundidade de nitretao para diferentes concentraes de N 2 no meio reacional e
tambm em tempos diferentes de nitretao. Os grficos a seguir mostram esses
resultados.

Figura 17- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos com
5% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI
H13, So Paulo, 2003, 178p.
 31

Figura 18- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos com
10% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI
H13, So Paulo, 2003, 178p.

Figura 19- Perfis de dureza das camadas obtidas aps nitretao por diferentes tempos com
20% de N2 a 520C. Fonte: Franco Junior, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS
DPLEX POR NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI
H13, So Paulo, 2003, 178p.
 32

6- CONCLUSO

Diversos tratamentos para melhorar as propriedades mecnicas so

empregados industrialmente, dentre estes a criao de filmes finos. Atravs deste
artifcio pode-se, por exemplo, endurecer um componente mecnico e deix-lo mais
resistente ao desgaste.
Sendo esse processo de deposio de filmes uma aplicao em grandes
escalas, e conhecendo as apelaes e vantagens para se utilizarem de meios
menos poluentes, preciso buscar escolher aqueles que so mais eficientes e
menos agressivos a natureza, como a nitretao assistida por plasma.
A nitretao a plasma oferece uma grande vantagem pela facilidade de criar
estes filmes sendo um processo que no necessite altas presses e temperaturas de
ensaio. Esta consiste na aplicao de uma camada branca sobre a superfcie
material a fim de produzir um acrscimo na dureza e ciclo de vida da pea, podendo
assim gerar menos gastos em retrabalho ou at mesmo a reduo de falhas
catastrficas/ou no. O tratamento termoqumico feito a plasma, ao ser comparado
com os demais tipos que utilizam o nitrognio como base- nitretao por sais
fundidos e a gs, de acordo com OBRIEN, 1991; BELL et al, 2000, tem-se
constataes de que no h produo de dejetos ou gases txicos; no h risco de
exploso; no gera poluio, significativa, sonora, sujeira ou calor (gerao de
calor); baixo consumo de energia
 33

7- REFERNCIAS

ALVES JUNIOR, Clodomiro. Nitretao a plasma: fundamentos e aplicaes. Natal:

EDUFRN, 2001.

BELL, T. Gaseous and Plasma Nitrocarburizing of Steels. ASM Metals Handbook: Heat
Treating, v. 4, p. 432, 1991.

CHIAVERINI, V. Aos e Ferros Fundidos, 7 . ed., So Paulo: ABM, 2005. p. 136-148.

DONNET, C. Erdemir, A. Tribology of Diamond-like Carbon films; Springer, 2008, p. 14.

FIGUEROA, C. A. Nitretao de metais a plasma: princpios, comparaes com as

tcnicas convencionais e aplicaes. REVISTA
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FRANCO JUNIOR, Adonias Ribeiro. OBTENO DE REVESTIMENTOS DPLEX POR

NITRETAO A PLASMA E PVD-TiN EM AOS FERRAMENTA AISI D2 E AISI H13, So
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Hanaor, D; Triani G.; Sorrell C.C.; (2011). "Morphology and photocatalytic activity of
highly oriented mixed phase titanium dioxide thin films". Surface and Coatings
Technology:. 205 (12): 36583664. doi:10.1016/j.surfcoat.2011.01.007

OBRIEN J. M.; GOODMAN D. Plasma (Ion) Nitriding of Stells. ASM Metals Handbook:
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PINTO, A. E. D. A.; TABACNICKS, M. H. Implantao Inica. Disponvel em:

http://www2.if.usp.br/~lamfi/implanta.htm . Acesso em: 15 de maio de 2017.

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