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1. Uma amostra de silício possui ND = 5,02x1016 cm-3 e NA = 5,01x1016 cm-3 (T=300 K). Dados
μn = 1200 cm2V-1s-1 e μp = 400 cm2V-1s-1 , determine a condutividade desta amostra.
2. Calcular “built-in voltage” Vbi para um diodo de junção p-n de silício com concentrações NA
= 1,0x1016 cm-3 e ND = 1,0x1015 cm-3 (T = 300 K).
3. Região p de um diodo com junção abrupta de certo semicondutor possui resistividade de 0,1
Ω.cm e a região n - resistividade de 1,0 Ω.cm. Calcular “built-in voltage” Vbi deste diodo,
considerando μp = 1.700 cm2V-1s-1, μn = 3.600 cm2V-1s-1 e ni = 2,5x1013 cm-3 (T = 300 K).
5. Um diodo de junção p+-n de certo semicondutor possui tensão de ruptura de 500 V. O campo
elétrico crítico é de 2x105 V/cm e a constante dielétrica relativa εr = 8. Para T = 300 K calcular:
a) ND.
b) A espessura da camada de depleção para a polarização de ruptura.