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Papel original Publicados:25 de agosto de 2022

Análise comparativa da dimensão fractal

de filmes finos de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce
SC Shrivastava ,R. Shrivastava &Priyanka 

Jornal Indiano de Física  97 , 757–765 ( 2023 )

115 acessos Métricas

Abstrato

Filmes finos de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce são preparados

usando a técnica de deposição em banho químico (CBD).
Filmes finos foram preparados em substratos de vidro.
Uma visão 3D das imagens do Microscópio de Força
Atômica de amostras preparadas é mostrada, o que
indica que a espessura das amostras preparadas está na
faixa nanométrica. A análise dimensional fractal é muito
útil na caracterização de filmes finos. Neste trabalho, a
caracterização de filmes finos de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce
foi feita por análise dimensional fractal e análise de
rugosidade de imagens do Microscópio de Força Atômica.
A dimensão fractal de amostras preparadas foi calculada
por três métodos diferentes: Contagem de Caixas,
espectro de potência e método de triangulação. Verificou-
se que a dimensão fractal pode ser aumentada
misturando Zn e Ce no material de base CdS. que mostra
a estrutura mais complexa de CdZnS e CdZnS:Ce do que
o material de base CdS. Este é um estudo comparativo da
dimensão fractal e rugosidade de imagens do
Microscópio de Força Atômica por diferentes métodos de
análise de dimensão fractal. O valor de rugosidade das
imagens AFM de amostras preparadas foi calculado e
aumentou, o que mostra que as partículas presentes na
superfície diminuem de tamanho. Distorção da Superfície
(Ssk ) e Surface Kurtosis ( Sku ) são outros dois
parâmetros calculados a partir de diferentes imagens
AFM. Um valor positivo de Distorção da superfície ( Ssk)
indica a presença de vários picos na superfície das
imagens AFM. Um valor de curtose de superfície ( Sku ) é
igual ou superior a 3,0 e indica uma distribuição de
altura mais nítida. Uma imagem 2D Fast Fourier
Transformation fornece informações sobre a topografia
da superfície. Os picos na imagem transformada de
Fourier mostram a periodicidade das imagens AFM. As
regiões planas e inclinadas no gráfico PSD indicam que a
estrutura da superfície está na faixa de microescala e
nanoescala.

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1 Introdução

Compostos de cádmio e zinco atraíram o interesse de

muitos pesquisadores, pois suas aplicações são
encontradas como camadas de janelas adequadas de
células solares, filtros ópticos, fotodetectores, FET de
filme fino, sensores de gás, multicamadas em diodos
emissores de luz e aplicações em dispositivos
optoeletrônicos [ 1 , 2 , 3 , 4 , 5 , 6 , 7]. O band gap em
CdS é grande (2,40 eV), enquanto o band gap em ZnS é
pequeno (3,68 eV). Filmes finos de CdZnS são
conhecidos por terem propriedades entre CdS e ZnS. A
lacuna de banda neste material de base mista CdZnS está
entre as lacunas de banda de CdS e ZnS e pode ser
ajustada alterando a proporção de Cd para Zn no
material. Materiais semicondutores com um intervalo de
banda maior têm propriedades de luminescência mais
eficientes e são mais adequados como materiais de janela
em células solares. A propriedade de luminescência
também é aprimorada pela inclusão de Zn em CdS.
Verificou-se que o efeito da terra rara no material CdZnS
de banda proibida é diminuído [ 8]. A dimensão fractal é
o parâmetro chave usado para entender as propriedades
de rugosidade dos filmes. O método de contagem de
caixa, método de espectro de potência, método de
triangulação e outros métodos podem ser usados ​para
calcular a dimensão fractal de filmes finos [ 9 , 10 ]. A
robustez da rugosidade contra um baixo número de
elementos de imagem também foi investigada [ 11 , 12 ].
Com base nos dados obtidos por meio de microscopia de
força atômica (AFM) de filmes finos de nanocristais de
diamante [ 13 ], foi realizada a análise estereométrica de
microtexturas superficiais tridimensionais. Filmes finos
de alumínio (Al) AFM (microscopia de força atômica)
foram usados ​para caracterização [ 14]. A influência da
rugosidade da superfície na filtragem morfológica pela
ponta da sonda AFM foi investigada por Feng et al. [ 15 ]
e na extração de traços fractais de sinais
eletroencefalográficos foi investigado por Wang et al. [ 16
]. Muito trabalho tem sido feito na análise fractal de
superfícies de filmes finos [ 17 , 18 , 19 , 20 ].

2 Detalhes experimentais

Filmes finos de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce foram

preparados usando o método Chemical Bath Deposition
(CBD). Filmes finos foram preparados em lâminas de
vidro microscópicas de dimensão 24 × 75 mm. Acetato de
cádmio, tioureia, trietanolamina, soluções de cloreto de
cádmio, soluções de óxido de cério. O óxido de cério é
insolúvel em água, então a solução foi preparada com
ácido sulfúrico. Todos os produtos químicos utilizados
eram de grau analítico. O TEA é usado como agente
complexante. O valor do pH da solução foi mantido em 9
durante todo o experimento usando amônia aquosa. A
mistura é mantida em banho-maria por 1 h a uma
temperatura de 60 °C. Após a deposição, os filmes foram
pulverizados com água destilada para remover o
supercrescimento irregular de grãos na superfície e secos
ao ar livre à temperatura ambiente (RT). Os filmes finos
foram depositados em substratos de vidro microscópico
em banho-maria químico a 60 °C. Os filmes finos são
amarelados e têm boa aderência ao substrato de vidro
microscópico. As imagens AFM são tiradas de IUC,
Indore. Fractal Dimensional, rugosidade e análise PSD
são feitas com a ajuda do software WSxM e Gwyddion.

3 Resultados e discussão

3.1 Análise da dimensão fractal

Este trabalho tem como objetivo determinar a dimensão
fractal de imagens AFM de filmes de CdS e CdZnS pelos
métodos de contagem de caixas, espectro de potência e
triangulação. As imagens de entrada são as imagens AFM
originais. As Figuras  1 a, b e c representam vistas
tridimensionais dos filmes de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce,
respectivamente.

Figura 1
 ( a ) Visão 3D da imagem AFM do filme fino de CdS ( b )
Visão 3D da imagem AFM do filme fino de CdZnS ( c ) Visão
3D da imagem AFM do filme fino de CdZnS:Ce

A dimensão fractal (D) assume o valor entre 1 e 3. Uma

superfície com alta dimensão fractal apresenta estrutura
complexa de película fina com irregularidades na forma.
Neste artigo, o valor da assimetria da superfície foi
calculado e considerado positivo, o que indica que a
superfície é caracterizada principalmente por picos em
oposição a vales. Os picos da superfície são
excessivamente altos na natureza, evidenciados pelo
valor da curtose da superfície ≥ 3.

A análise dimensional fractal é feita com a ajuda do

software Gwyddion por três métodos diferentes.

3.1.1 Método de contagem de caixas

O método de contagem de caixas para dimensão fractal
foi criado por Voss em 1985. O método mais popular para
análise dimensional fractal é o Método de Contagem de
Caixas. Neste artigo, o cálculo da dimensão fractal é feito
pelo software Gwyddion. As etapas a seguir são
mencionadas abaixo.

(1) Uma rede cúbica com constante de rederé

sobreposto na superfície z.
(2) Uma rede de 8 cubos formada na superfície da
imagem AFM tomando a constante de rederigual a
metade do comprimento da aresta da superfície.
(3) Conte o número de cubosN formado em um pixel da
imagem.
(4) A constante de rederé então reduzido por um fator
de 2 e repete o processo atéré igual à distância entre
dois pixels adjacentes. A dimensão fractal( D )
 calculado pela inclinação de um gráfico del o g N
onde
N é o número de todos os cubos que contêm pelo
menos um pixel da imagem versusl o g onde
h hé o

inverso da constante de reder.

As Fig. 2 a, b e c mostram a análise dimensional fractal de

CdS, CdZnS e CdZnS:Ce pelo Método de Contagem de
Caixas

Figura 2

( a ) Gráfico plotado entre log N (ondeN

N é o número de todos

os cubos que contêm pelo menos um pixel da imagem) e log

 h (ondeh
hé o inverso da constante de reder
r ) para filmes finos

de CdS. ( b ) Gráfico plotado entre log N (ondeN

N é o número

de todos os cubos que contêm pelo menos um pixel da

imagem) e log h (ondeh
hé o inverso da constante de reder
r)

para filmes finos de CdZnS. ( c ) Gráfico plotado entre log N

(ondeN
N é o número de todos os cubos que contêm pelo

menos um pixel da imagem) e log h (ondeh

hé o inverso da

constante de rederr) para película fina de CdZnS:Ce

3.1.2 Método do espectro de potência

O método do espectro de potência é baseado na

dependência do espectro de potência do movimento
browniano fracionário. Os passos seguidos neste método
são:

(1) Uma imagem AFM transformada de Fourier é

formada.
(2) O espectro de potência do perfil de altura da linha é
avaliado.
(3) Pegue a média de todos esses espectros de potência.
(4) Um gráfico é traçado entrel o g W
el o g onde
k C é o

número de medições realizadas eké igual a1 / onde

r r

é o comprimento da escala de medição. Em um

gráfico log-log, ajuste a linha de regressão de
mínimos quadrados ao ponto de dados.
(5) A dimensão fractal D é calculada usando a
inclinação do gráfico,

7 Sl o p e
D = +
2 2

As Figuras  3 a, b e c representam a análise dimensional

fractal do método do espectro de potência de imagens
CdZnS.

Fig. 3
 ( a ) Gráfico plotado entre log W (C
C é o número de medições

realizadas) e logkk(ondekké igual a1 /rronderré o comprimento

da escala de medição) para películas finas de CdS. ( b )
Gráfico plotado entre log W (C
C é o número de medições

realizadas) e logkk(ondekké igual a1 /rronderré o comprimento

da escala de medição) para películas finas de CdZnS. ( c )
Gráfico traçado entre log W (C
C é o número de medições

realizadas) e logkk(ondekké igual a1 /rronderré o comprimento

da escala de medição) para filmes finos CdZnS:Ce

3.1.3 Método de triangulação

O Método da Triangulação, assim como o Método da

Contagem de Caixas, também se baseia na definição da
dimensão fractal da contagem de caixas. As etapas
envolvidas no método de triangulação são:
(1) Na superfície da imagem AFM do filme, uma grade
de dimensãorigual a 1/4 da área da superfície é
formado.
(2) A superfície é coberta por 32 triângulos.
(3) As áreas de todos os triângulos são calculadas e
somadas.
(4) O tamanho da grade é diminuído pelo fator 2 e
repete o processo até a constante de redertorna-se
igual à distância entre dois pontos de pixel
adjacentes.
(5) Um gráfico é traçado entrel o g onde
A Aé a soma das

áreas de todos os triângulos versuslog onde h é

( h ) _ _

igual a1 / .r
(6) A inclinação do gráfico dá o valor da dimensão
fractalD - 2 .

A análise dimensional fractal das imagens CdS, CdZnS e

CdZnS:Ce pelo método de triangulação é mostrada na
Fig.  4 a, b e c, e encontrou cerca de 2,32.

Fig. 4
 ( a ) O gráfico é traçado entreregistro
(onde
A Aé a soma das áreas

de todos os triângulos) versusregistro

ondehh é igual ao1 / para
r

filmes finos de CdS por ( b ) O gráfico é traçado entreregistro A

(ondeAé a soma das áreas de todos os triângulos) versusregistro h
ondehé igual ao1 / para
r filmes finos de CdZnS por ( c ) O
gráfico é plotado entreregistro
(onde
A Aé a soma das áreas de

todos os triângulos) versusregistro

ondehh é igual ao1 / para
r

filmes finos de CdZnS:Ce por

3.2 Análise de rugosidade

O histograma de profundidade Fig.  5 a, b e c mostra a
densidade da distribuição de pontos de dados na
superfície. No caso de rugosidade da superfície, um
gráfico de barras de histograma é plotado entre a
rugosidade da superfície em uma faixa específica de
valores no eixo X e o número de amostras que se
enquadram nessa faixa no eixo Y. O desvio padrão para
as amplitudes da superfície é calculado usando a
rugosidade Root Mean Square (RMS).
−−
1
2
Sq = √ ∬ z ( x , y) dx dy
A

Fig. 5
 ( a ) Histograma de rugosidade da superfície de imagens
AFM de filme fino de CdS ( b ) Histograma de rugosidade de
superfície de imagens AFM de filme fino de CdZnS ( c )
Histograma de rugosidade de superfície de imagens AFM de
filme fino de CdZnS:Ce

Altura máxima é a altura entre o pico mais alto e o vale

mais profundo. Média de rugosidade é a rugosidade
média da superfície dada por:

1
Sa = ∬ | z ( x , y) | dx dy
A

A altura média é a altura entre o pico mais alto e o plano

médio. Distorção da superfície ( Ssk ) e Curtose da
superfície ( Sku ) são outros dois parâmetros calculados a
partir de diferentes imagens AFM. Ambos os parâmetros
são números adimensionais e reais. A assimetria da
superfície descreve a simetria da distribuição de altura.
Uma superfície com um planalto e vales profundos e
finos apresenta Ssk negativo . Superfície com muitos
picos em um plano é denotada por Ssk positivo . A Tabela
2 mostra claramente que o valor Ssk é positivo, indicando
a presença de vários picos na superfície das imagens
AFM.

1 1
3
Ss k = [ ∬ z ( x , y) dx dy]
3
Sq A

A planicidade da distribuição de altura é qualificada por

outro parâmetro conhecido como curtose, Sku . Um valor
menor de (Sku) indica uma distribuição de altura mais
ampla.

1 1
S k voc ê =
4
[ ∬ z
4
( x , y) dx dy]
Sq A
Se o valor da curtose superficial (Sku) for igual ou
superior a 3,0, indica uma distribuição de altura mais
nítida. Pela Tabela 2 , fica claro que o valor da rugosidade
dos filmes finos aumenta, o que mostra que as partículas
presentes na superfície diminuem de tamanho. À medida
que o tamanho das partículas diminui, a rugosidade da
superfície aumenta. Comparando as Tabelas 1 e 2 ,
concluímos que a rugosidade da superfície aumenta com
o aumento da dimensão fractal. Maior dimensão fractal
significa uma estrutura cristalina complexa com um
tamanho de partícula reduzido.

Tabela 1 Dimensão fractal de amostras de CdS,

CdZnS e CdZnS:Ce por diferentes métodos

Tabela 2 Parâmetros diferentes de diferentes

amostras de CdZnS

3.3 Densidade espectral de potência da imagem AFM

A análise de densidade espectral de potência (PSD) de
imagens AFM de filmes de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce é
mostrada na Fig.  6 a, b e c. Todas as curvas PSD têm as
mesmas curvas características. A curva log-log PSD
versus frequência para todas as amostras consiste em um
platô e uma inclinação inversa em frequências espaciais
baixas e altas, respectivamente. A região do platô ilustra a
densidade do espectro de potência constante com
frequência e é conhecida como região de 'ruído branco'
na tecnologia de processamento de sinal. A região de
inclinação representa uma região altamente
correlacionada dos perfis PSD, que descreve os modelos
fractais ou (lei inversa). A existência das duas regiões em
PSD indica a coexistência de estrutura de superfície em
microescala e nanoescala.

Fig. 6
 ( a ) Perfil PSD para filme fino de CdS ( b ) Perfil PSD para
filme fino de CdZnS ( c ) Perfil PSD para filme fino de
CdZnS:Ce

O espectro de potência da imagem AFM foi calculado

para analisar a distribuição lateral da rugosidade da
superfície. A Figura  7 a, b, c, d, e e f mostra a saída do
processo 2D FFT (magnitude e fase) para os filmes CdS,
CdZnS e CdZnS:Ce. As imagens de fase 7(a), 7(c) e 7(e)
contêm informações sobre a posição de diferentes
características da microestrutura, enquanto a imagem de
magnitude mostra a energia das frequências da imagem
original. As características periódicas na superfície dos
filmes finos são representadas como picos na imagem da
transformada de Fourier. Figura  7b, d e f mostram
diferenças significativas. A mancha branca no centro da
imagem FFT é mais intensa e circular em CdZnS e
CdZnS:Ce do que em filmes finos de CdS e CdZnS. Isso
indica contrastes acentuados no arranjo lateral das
estruturas de superfície. A linha branca central em (f)
aparece mais brilhante, indicando a predominância de
estruturas de superfície orientadas horizontalmente em
filmes finos de CdZnS e CdZnS:Ce do que em CdS.
Também indica uma distribuição lateral uniforme de
estruturas de superfície em filmes finos de CdZnS:Ce.
Linhas brancas horizontais e verticais centrais nítidas e
uma região escura na imagem FFT de CdZnS:Ce,
indicando contraste acentuado na distribuição lateral da
estrutura da superfície.

Fig. 7
 ( a ) Transformada rápida de Fourier 2D de FFT de fase de
filme fino de CdS ( b ) Transformada rápida de Fourier 2D de
magnitude FFT de filme fino de CdS ( c ) Transformada
rápida de Fourier 2D de FFT de fase de filme fino de CdZnS (
d ) Transformada rápida de Fourier 2D de FFT de magnitude
de filmes finos de CdZnS ( e ) Transformada rápida de
Fourier 2D de fase FFT de filme fino de CdZnS:Ce ( f )
Transformada rápida de Fourier 2D de FFT de magnitude de
filme fino de CdZnS:Ce

Na Fig.  7 f, o fundo escuro está claramente separado da

região radial branca, o que indica maior rugosidade
lateral de CdZnS:Ce em comparação com os filmes finos
de CdS e CdZnS.

4 Conclusões

A análise dimensional fractal de diferentes imagens AFM

de diferentes amostras de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce é feita
com a ajuda do software WSxM e Gwyddion por três
métodos diferentes. A dimensão fractal e o valor de
rugosidade de filmes finos são aumentados pela mistura
de Zn e Ce em CdS, o que mostra tamanho de partícula
reduzido. A dimensão fractal e o valor da rugosidade
também indicam que o tamanho de partícula presente na
superfície está na faixa nano. O valor de Surface
Skewness ( Ssk) é positivo e indica a presença de vários
picos na superfície das imagens AFM. Uma curtose de
superfície ( Sku) é igual ou superior a 3,0 e indica uma
distribuição de altura mais nítida. A imagem 2D FFT
fornece interpretações muito importantes da topografia
da superfície. As regiões planas e inclinadas no gráfico
PSD indicam que a estrutura da superfície está na faixa
de microescala e nanoescala.
Referências
[1] J Herrero, MT Gutierrez, C Guillen et al Thin Solid
Films 361 28 (2000)

[2] ME Calixto, P..J. Sebastian, RN Bhattacharya e

outros Materiais de energia solar e células solares
59 75 (1999)

[3] U Pal, R Silva-Gonzalez, G Martinez-Montes e

outros Thin Solid Films 305 345 (1997)

[4] JH Schon, O Schenker e B Batlogg Thin Solid Films

385 271 (2001)

[5] J Levinson, RF Shepherd, PJ Scanlon e outros

Journal of Applied Physics 53 1193 (1982)

[6] T Hayashi, T Nishikura, T Suzuki et al Journal of

Applied Physics 64 3542 (1988)

[7] TL Chu, SS Chu, C Ferekides et al Journal of Applied

Physics 70 7608 (1991)

[8] S Soumya, MS Swapna, R Vimal et al. Eur. Física J.

Plus 132 551 (2017)

[9] MF Madaraka, AE Titilayo e OO Philip Photoenergy

and Thin Film Materials 379 12 (2019)

[10] S Solaymani, S Ţalu, NB Nezafat et al AIP

Advances 10 045206 (2020)
[11] F Feng, XS Zhang, TM Qu, BB Liu, JL Huang, J Li,
SZ Xiao, ZH Han e PF Feng Appl. Surf. ciência 437
287 (2018)

[12] FM Mwema, ET Akinlabi, OP Oladijo e S Krishna

Cogent Engineering 7 1765681 (2020)

[13] VN Barhate, KS Agrawal, VS Patil e AM Mahajan

Rare Metals 40 1835 (2021)

[14] YL Kong, SV Muniandy e FK Sulaiman Thin Solid

Films 623 147 (2017)

[15] F Feng, JL Huang, XH Li, TM Qu, BB Liu, WM

Zhou, X Qian e PF Feng Tecnologia de Superfícies
e Revestimentos 363 436 (2019)

[16] SC Wang, JF Zhang, F Feng, X Qian, LQ Jiang, JL

Huang, BB Liu, J Li, YS Xia e PF Feng IEEE Acesso
7 89265 (2019)

[17] O Dinner, Y Paz e GS Grader Thin Solid Films 661

108 (2017)

[18] RB Tokas, S Jena, S Thakur e outros Filmes sólidos

finos 609 42 (2016)

[19] M Senthilkumar, NK Sahoo, S Thakur e RB Tokas

Applied Surface Science 252 1608 (2005)

[20] S Hosseinabadi e M Shirazi Topografia de

Superfície Metrologia e Propriedades 7 035007
 (2019)

Informação sobre o autor

Autores e Afiliações

Departamento de Matemática, Rungta College of

Engineering & Technology, Bhilai, Chhattisgarh,
Índia
SC Shrivastava & Priyanka

Departamento de Física, Government Naveen

College, Risali, Durg, Chhattisgarh, Índia
R. Shrivastava

autor correspondente
Correspondência para R. Shrivastava .

Informações adicionais

Nota do editor
A Springer Nature permanece neutra em relação a
reivindicações jurisdicionais em mapas publicados e
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aplicável.

Reimpressões e permissões

Sobre este artigo

Citar este artigo
Shrivastava, SC, Shrivastava, R. & Priyanka Análise comparativa
da dimensão fractal de filmes finos de CdS, CdZnS e CdZnS:Ce.
Indian J Phys 97 , 757–765 (2023). https://doi-
org.ez48.periodicos.capes.gov.br/10.1007/s12648-022-02443-8

Recebido Aceitaram Publicados

11 de fevereiro de 26 de julho de 2022 25 de agosto de
2022 2022

Data de emissão
março de 2023

DOI
https://doi-org.ez48.periodicos.capes.gov.br/10.1007/s12648-
022-02443-8

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Palavras-chave
Deposição de banho químico Filmes finos

dimensão fractal Rugosidade

microscópio de força atômica

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