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: Fernando S
Fsica Industrial Farmacutica
Universidade de Braslia
gua na Indstria
Farmacutica
Tipos e mtodos de filtrao
Cotaminantes
Contaminantes Particulados
Contaminantes Inorgnicos
Contaminantes Orgnicos
TOC
Contaminantes Microbiolgicos
gua Bruta
gua Potvel
gua Purificada (PW)
gua para Injetveis (WFI)
Segundo a FB V
gua Potvel
gua Reagente
gua Purificada (AP)
Principais parmetros: condutividade de 0,1 a 1,3 mS/cm a 25,0 C (resistividade > 1,0
MW.cm) e COT < 0,50 mg/L, endotoxinas < 0,25 UI de endotoxina/mL e contagem total de
bactrias < 100 UFC/mL, a no ser que especificado de forma diferente.
Tecnologias de Purificao
Os projetos de instalaes para purificao das guas so similares
Variaes em parmetros como nvel de endotoxinas e mtodos de
preparao
Pr-filtrao
Filtrao de profundidade ou inicial
Remoo de particulados na faixa de 5 a 10 m
Protege os sistemas de filtrao seguintes
Filtros de areia
Reduo qumica
Remoo de agentes oxidantes
Cloro livre
Afeta outras tecnologias
Aditivos Qumicos
Ajuste de pH
Remoo de carbonatos e amnia
Oznio
Micro-organismos
Metabissulfito
Alternativa ao carvo vegetal ativado
Abrandao e abrandadores
Processo utilizado em guas duras
Resinas de troca inica
ons Clcio e Magnsio por ons Sdio
Deionizao
Remoo de sais orgnicos dissolvidos
Deionizao >>> AP para uso rotineiro
Resinas de troca inica especficas para ctions ou nions
Necessita de regenerao
Eletroionizo Contnua
Combina:
Resinas de catinicas e aninicas
Membranas semipermeveis
Aplicao de campo eltrico
Osmose Reversa
Tecnologia de membranas semi-permeveis
Remoo de ons, micro-organismos e endotoxinas bacterianas
Ultrafiltrao
Remoo de endotoxinas
Membranas especiais retm por peso molecular e estereoqumica
Cut off = 10000 Da (filtro para endotoxinas)
Radio UV
Utilizam-se dois comprimentos de onda:
185 nm + 254 nm Oxidao de compostos orgnicos e consequente reduo
de sua concentrao, para atender aos limites da AP, AUP e API;
254 nm Ao germicida nos diversos pontos da sequncia de purificao,
onde necessrio reduzir a contagem microbiana.
Destilao
gua de alimentao requer controles diferentes dos outros sistemas
CQ para silicatos devido ao vapor