Polimeros TINTAS

Minicursos CRQ-IV - 2010
polmeros na formulao de tintas

Conselho Regional de Qumica IV Regio (SP) Apoio: Caixa Econmica Federal
POLMEROS
NA FORMULAO DE TINTAS
LUIZ ANTONIO PEREIRA MARTINHO
Setembro 2010
PREMISSAS DESTA APRESENTAO
NO EXISTE A VERDADE ABSOLUTA
Erro de interpretao qumica no uma teoria absoluta.
Teoria versus experincia caso da glicerina.
ENFATIZAR A IMPORTNCIA DO POLMERO NA TINTA
Quatro pilares bsicos de uma tinta
Se faz uma tinta sem solvente.
Se faz uma tinta sem aditivo.
Se faz uma tintas sem pigmento.
No se faz uma tinta sem polmero.
ANLISE MENTAL
Pensar quimicamente e no alquimisticamente.
Apresentao pensando na estrutura qumica e no em formulas e processos.
AGENDA - PARTE 1
POLMEROS
Consideraes tericas.
Cronograma de desenvolvimento.
Concluses iniciais.
Terminologias e definies.
Funcionalidade
Peso molecular
POLIMERIZAO
Polimerizao por condensao.
Polimerizao por adio.
AGENDA - PARTE 1
LEOS GLICRIDOS
Frmula qumica.
Classificao.
Composio.
Grupos funcionais
Modificao de leos.
AGENDA PARTE 1
RESINAS ALQUDICAS
Surgimento
Perfil das resinas alqudicas.
Principais reaes envolvidas.
Resinas alqudicas: curta, mdia e longa em leo.
Alqudicas oil free
Alqudicas modificadas;
Alqudicas uretanizadas.
Alqudicas acriladas.
Alqudicas breu/fenol.
Formulao de uma alqudica usando a Planilha de Clculo.
RESINAS FENLICAS
AGENDA PARTE 1
POLISTERES SATURADOS
Perfil das resinas polisteres.
Principais reaes envolvidas.
Formulao de um polister usando a Planilha de Clculo.
AGENDA PARTE 1
RESINAS DE CURA POR RADIAO
Epoxi-acrilado.
Polister acrilado.
Polister insaturado.
Monmeros acrilados.
RESINAS ACRLICAS
Termoplstica
Termocurvel
RESINAS AMNICAS
AGENDA PARTE 1
RESINAS ACRLICAS EM EMULSO
RESINAS POLIURETNICAS
RESINAS EPOXI
BIBLIOGRAFIA
Martinho, Luiz.
DNA O PROLONGAMENTO DA VIDA DE UMA REA TCNICA
Artigo publicado na Revista Paint Pintura
Edio Setembro / Outubro 2008.
Este tema teve como referncias:
Um artigo publicado em 21/5/2008, na Revista VEJA, edio 2061, pgina 18. O autor
deste artigo Stephen Kanitz.
E a letra da msica - Another Brick in the Wall pt 2 (Roger Waters). The Wall
Columbia CBS Records Pink Floyd.
BIBLIOGRAFIA
Martinho, Luiz.
Filosofia de Formulao de Tintas de Cores Lisas por Computador
Artigo Tcnico publicado no Informativo CRQ IV
Edio Janeiro / Fevereiro 2007.
Xia Cao, M.S. The Ohio State University,
Integrated Analysis of Low Profile Unsaturated Polyester and Vinyl ester Resins cured
at low temperatures
February, 2002.
Martinho, Luiz.
Basecoat Automotivo
Artigo Tcnico publicado na Revista Paint Pintura
Edio Novembro / Dezembro 2008.
Martinho, Luiz.
ENTENDENDO OS MECANISMOS DAS REAES DE ALCOLISE E ESTERIFICAO
NA PREPARAO DE RESINAS ALQUDICAS.
Artigo Tcnico a ser publicado na Revista Paint Pintura
Edio Maro / Abril 2009.
BIBLIOGRAFIA
Companion, Audrey
Ligao Qumica
Editora Edgard & Blucher Ltda
1970
Stille, John
Qumica Orgnica Industrial
1970
Stewart, Ross
A Investigao de Reaes Orgnicas
1969
Shreve, R. Norris
Indstria de Processos Qumicos
Editora Guanabara
4 Edio 1973
BIBLIOGRAFIA
Payne, Henry Fleming
Organic Coating Technology
John Wiley & Sons,Inc
1 Edition - 1954
ABRAFATI
Tintas e Vernizes Cincia e Tecnologia
2 Edio 2004
Mahan, Bruce
Qumica um Curso Universitrio
2 Edio Revisada 1972
BIBLIOGRAFIA
Martinho, Luiz.
POLMEROS MODIFICADOS COM VT
2006
Martinho, Luiz.
FORMULATION GUIDE OF UNSATURATED POLYESTER RESINS
FOR USE IN FIBER REINFORCED POLYMERIC COMPOSITES
2008
Martinho, Luiz.
AUTO SUFICIENCIA EM POLMEROS DE CURA POR RADIAO ULTRAVIOLETA
GUIA PRTICO DE FORMULAO
2008
Martinho, Luiz.
UNSATURATED POLYESTER AND VINYLESTER RESINS TO FORMULATE LOW
COST UV COATINGS
2007
BIBLIOGRAFIA
Martinho, Luiz.
VINYL TOLUENE MODIFIED POLYMERS TO FORMULATE PAINTS
LATIN COAT - 2007
Martinho, Luiz.
UTILIZAO DE POLMEROS MODIFICADOS COM VINIL TOLUENO
NA FORMULAO DE TINTAS EM GERAL
FEITINTAS 2007
P
O
L
P
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Z
A

O
Unidades
Estruturais
ligadas
entre si
por Ligaes
Covalentes.
Unidades
Estruturais
ligadas
entre si
por Ligaes
Covalentes.
Macromolcula
=
Repetio de
Unidades
Estruturais.
Macromolcula
=
Repetio de
Unidades
Estruturais.
Onde
Compostos Qu micos
de baixo peso
molecular
(Monmeros)
reagem entre si
para formar uma
Macromolcula
Onde
Compostos Qu micos
de baixo peso
molecular
(Monmeros)
reagem entre si
para formar uma
Macromolcula
Obtidas
pela
reao
denominada
Polimerizao
Obtidas
pela
reao
denominada
Polimerizao
Substncias
Qumicas
de alto
peso
molecular
Substncias
Qumicas
de alto
peso
molecular
POLMEROS
POLMEROS
CONSIDERAES TERICAS
Condensao
Condensao
Adio
ou
Cadeia
Adio
ou
Cadeia
Classificao
em duas
grandes
Categorias:
Classificao
em duas
grandes
Categorias:
CAROTHERS
EM
1929
CAROTHERS
EM
1929
POLMEROS
POLMEROS
CONSIDERAES TERICAS
CRONOGRAMA DE DESENVOLVIMENTO
1907 RESINAS FENLICAS
1913 FENLICAS MODIFICADAS COM BREU
1920 LACAS NITRO
1923 ALQUDICAS E MALEICAS
1934 TINTAS EMULSIONADAS LEOS VEGETAIS
1936 ACRLICOS TERMOCURVEIS
1937 RESINAS POLIURETNICAS
1940 MELAMINAS
1942 LEOS VEGETAIS ESTIRENADOS E ACRILADOS
1947 RESINAS EPXI
1948 EMULSES AQUOSAS (ACETATO DE POLIVINILA)
1950 POLISTERES INSATURADOS
1952 EMULSES ACRLICAS AQUOSAS
1955 SISTEMAS AQUOSOS TERMOCURVEIS
1956 LACAS E ESMALTES ACRLICOS
1960 TINTA EM P TERMOCURVEL
1961 ELETRODEPOSIO ANDICA
1966 SISTEMAS DE CURA POR UV E POR FEIXE ELETRNICO.
1970 ELETRODEPOSIO CATDICA
1975 OLIGMEROS (ACRLICOS,POLISTERES, URETANOS) PARA ALTO SLIDOS
1975 SISTEMAS DUPLA CAMADA
CONCLUSES INICIAIS CONCLUSES INICIAIS
TINTAS
Uma das aplicaes mais importantes dos polmeros
MATERIAIS POLIMRICOS EMPREGADOS
Alqudicas
Polisteres
Acrlicas
Vinilicas
Epxis
Epxi-acriladas
Maleicas
Melamnicas & Uricas
Poliuretnicas.
SECAGEM
Cura de uma tinta tambm (na maioria das vezes) um PROCESSO DE
POLIMERIZAO.
TERMINOLOGIAS E DEFINI TERMINOLOGIAS E DEFINI ES ES
POLMERO
Constitudo pela repetio de pequenas unidades qumicas, ligadas
entre si, por ligaes covalentes.
MONMERO
Pequena unidade qumica.
POLIMERIZAO
Reao qumica de transformao de monmeros em polmeros.
DMEROS
Molculas formadas pela combinao de dois monmeros,idnticos ou
no.
Diciclopentadieno = duas molculas de ciclopentadieno.
OLIGMERO
Polmero constitudo por um nmero pequeno de unidades repetitivas.
Geralmente de 5 a 15 unidades.
Sistemas alto-slidos
Sistemas de cura por irradiao.
De
Estrutura
Tridimensional
De
Estrutura
Tridimensional
Resultando
num
Sistema
Polimrico
Resultando
num
Sistema
Polimrico
Atravs
de
Grupos
Funcionais
Atravs
de
Grupos
Funcionais
Outro
oligmero
reticulante
Outro
oligmero
reticulante
Processo
de
Cura
Oligmeros
Processo
de
Cura
Oligmeros
T
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S
E
S
HOMOPOLMERO
Polmero resultante de uma nica espcie monomrica.
Cadeia constituda por uma nica unidade estrutural repetitiva.
Exemplos:
Polietileno
Poli(cloreto de vinila)
Poliestireno
COPOLMERO
Obtido pela polimerizao de duas espcies monomricas.
Exemplos:
Copolmero de estireno acrilato de butila
Copolmero de acetato de vinila acrilato de etila.
COPOLIMERIZAO A e B = SEGUINTES TIPOS DE POLMEROS:
- A A B A B B - A B A A A A B
(a) Estrutura ao acaso maioria dos copolmeros usados em tintas
- A B A B A B A B A B A B A B
(b) Estrutura alternada Raro na indstria de tintas
- A A A A B B B - B A A A A B B B B -
(c) Estrutura de blocos - polimerizao aninica
- A A A A A A A A A A
| |
B B
| |
B B
| |
B B
| |
(d) Estrutura ramificada polmero de enxerto
Alqudicas Estirenadas:
Epox - Acrilados
TERPOLMERO
Resultante da polimerizao de trs espcies monomricas.
Exemplos:
Terpolmero de metacrilato de metila- acrilato de butila cido
acrlico.
Terpolmero de acetato de vinila etileno cido acrlico.
Responsvel
por uma
propriedade
especfica.
Responsvel
por uma
propriedade
especfica.
Terceiro
Monmero
(em menor
quantidade)
Terceiro
Monmero
(em menor
quantidade)
Responsveis
pelas
propriedades
mais
caractersticas
Responsveis
pelas
propriedades
mais
caractersticas
Geralmente
resultantes da
polimerizao
de duas
espcies
monomricas
Geralmente
resultantes da
polimerizao
de duas
espcies
monomricas
TERPOLMERO
TERPOLMERO
HPMA
GRUPO
OH
REATIVO
HPMA
GRUPO
OH
REATIVO
BA
MONMERO
PLASTIFICANTE
BA
MONMERO
PLASTIFICANTE
MMA OU
ESTIRENO
RESPONSVEL
DUREZA
MMA OU
ESTIRENO
RESPONSVEL
DUREZA
ACRLICO
TERMO-
CURVEL
ACRLICO
TERMO-
CURVEL
T
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Monmeros
com
Grupos
Funcionais
Distintos
Monmeros
com
Grupos
Funcionais
Distintos
GRUPOS
FUNCIONAIS
mnimo
igual 2
GRUPOS
FUNCIONAIS
mnimo
igual 2
POLIMERIZAO
por
ADIO
atravs
da insaturao
entre
CARBONOS
POLIMERIZAO
por
ADIO
atravs
da insaturao
entre
CARBONOS
Conceito
muito
importante
na
POLIMERIZAO
por
CONDENSAO
Conceito
muito
importante
na
POLIMERIZAO
por
CONDENSAO
POLIMERIZAO
Atravs
dos
Grupos
Funcionais
POLIMERIZAO
Atravs
dos
Grupos
Funcionais
Monmeros
possuem
Grupos
Funcionais
Monmeros
possuem
Grupos
Funcionais
FUNCIONALIDADE
FUNCIONALIDADE
CH2 = CH COOH
ACIDO ACRLICO
POLIMERIZA POR ADIO
(RADICAIS LIVRES) ATRAVS DA
DUPLA E POR
CONDENSAO ATRAVS
DO GRUPO OH
ACRILATO DE GLICIDILA POLIMERIZA POR
ADIO ATRAVS DA DUPLA E POR
CONDENSAO ATRAVS DO GRUPO
GLICIDILA.
H2C = CH C O CH2 HC CH2
|| \ /
O O
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Resultando
pesos
moleculares
diferentes
Resultando
pesos
moleculares
diferentes
Unidades
Estruturais
Iguais
mas em
quantidades
diferentes.
Unidades
Estruturais
Iguais
mas em
quantidades
diferentes.
Repetio
de
Unidades
Estruturais
Iguais
Repetio
de
Unidades
Estruturais
Iguais
MISTURA
DE
MACRO-
MOLCULAS
MISTURA
DE
MACRO-
MOLCULAS
PESO
MOLECULAR
DE UM
POLMERO
PESO
MOLECULAR
DE UM
POLMERO
PESO MOLECULAR DE UM POL PESO MOLECULAR DE UM POL MERO MERO
CONCEITO DE PESO MOLECULAR PARA OS COMPOSTOS QUMICOS
CONVENCIONAIS
Cada espcie qumica corresponde a um determinado PM.
Uria ter sempre o PM de 60,06.
CONCEITO DE PESO MOLECULAR PARA OS POLMEROS
Um polmero no tem um PM exato e definido.
Poliestireno pode apresentar diferentes PMs.
5000, 80000, 500000 ou qualquer outro valor.
Poliestireno PM MDIO = 180000
PESO MOLECULAR MDIO NUMRICO POLMEROS USADOS EM TINTAS
25.000 350.000 ACRLICAS TERMOPLSTICAS EM SOLUO
500.000 2.000.000 ACRLICAS TERMOPLSTICAS EM EMULSO AQUOSA
1.000 2.000 ACRLICA TERMOCURVEL /OLIGMERO
350 4.000 EPXI
2.500 5.000 ALQUDICAS
Mn POLMERO
POLIMERIZA POLIMERIZA O POR CONDENSA O POR CONDENSA O O
BISFENOL + EPICLORIDINA EPOXI
POLIISOCIANATOS + POLIOIS POLIURETANOS
URIA + FORMOL URICAS
MELAMINA + FORMOL MELAMINICAS
POLICIDOS + POLILCOOIS POLISTERES
FENOL + FORMOL FENLICAS
REAO BSICA POLMERO
Premissas B Premissas B sicas da Polimeriza sicas da Polimeriza o por Condensa o por Condensa o o
(1) Ocorre em etapas
(2) Reao de grupos
funcionais diferentes.
(4)Todos os monmeros so
convertidos rapidamente
em:
Dmeros
Trmeros
Tetrmeros
Oligmeros
(3) Uma s reao
responsvel pela
polimerizao.
(5) Macromolculas vo
ser formando atravs da
reao de:
Monmeros
Dmeros
Trmeros
Tetrmeros
Oligmeros
(10) Qualquer instante da
polimerizao:
Alta concentrao de
cadeias em crescimento.
Baixa concentrao de
monmeros.
(6) Formao de
produtos secundrios:
gua
Retirada durante o
processo
(7) Pesos moleculares moderados :
Inferiores a 20.000
(8) Cadeia polimrica forma-se
vagarosamente:
Horas ou dias
(9) Reao qumica com
alta energia de ativao:
Reao feita em altas
temperaturas
O mesmo
vlido
para o
Trmero
O mesmo
vlido
para o
Trmero
Tetrmero
pode reagir
com qualquer
das espcies
presentes
Tetrmero
pode reagir
com qualquer
das espcies
presentes
Dmero
pode reagir
com um
Monmero
formando
Trmero
Dmero
pode reagir
com um
Monmero
formando
Trmero
Dmero
pode reagir
com outro
Dmero
formando
Tetrmero
Dmero
pode reagir
com outro
Dmero
formando
Tetrmero
Reao
de dois
Monmeros
formando
um
Dmero
Reao
de dois
Monmeros
formando
um
Dmero
ESQUEMA
DA
POLIMERIZAO
POR
CONDENSAO
ESQUEMA
DA
POLIMERIZAO
POR
CONDENSAO
EXEMPLOS DE POL EXEMPLOS DE POL MEROS POR CONDENSA MEROS POR CONDENSA O O
HO R OH + HOCO R - COOH
HO ( -R OCO R COO)
n
H + H20
- C -
||
O
POLISTER
REAO DE POLIMERIZAO LIGAO QUMICA
CARACTERSTICA
TIPO
HO R OH + OCN R NCO
-(O R OCO NH R NH CO )
n
-
- O C N
|| |
O H
POLIURETANO
CARACTERSTICA
TIPO
H2N CO NH2 + H2C = O
- ( HN CO NH CH2 )-
n
+ H20
-NH CH2 - URIA FORMOL
CARACTERSTICA
TIPO
POLIMERIZA POLIMERIZA O POR ADI O POR ADI O O
OU OU
POLIMERIZA POLIMERIZA O EM CADEIA O EM CADEIA
Polimerizao por radical livre = veculos (sistemas) para:
Indstria automotiva
Repintura
Tintas ao latex (produtos arquitetnicos).
POLIMERIZA POLIMERIZA O POR RADICAL LIVRE O POR RADICAL LIVRE
Polimerizao por radical livre caracterizada pela:
Adio de um monmero uma espcie qumica ativada que
pode ser:
Um monmero ativado
Uma cadeia polimrica em crescimento.
Polimerizao que necessita:
Catalisador ou iniciador.
Polimerizao que envolve:
Radicais livres
n CH2 = CH - CH2 CH (unidade repetitiva) e/ou
| | (forma com radicais livres)
X X n
EXEMPLOS DE POLMEROS POR ADIO ENVOLVENDO RADICAIS LIVRES
- CH2 - CH2
|
CH2 = CH2
|
POLIESTIRENO
- CH2 - CH -
|
OCOCH3
CH2 = CH OCOCH3 POLI (ACETATO DE VINILA)
- CH2 - CH -
|
CL
CH2 = CH -CL POLI (CLORETO DE VINILA)
- CH2 - CH2 - CH2 = CH2 POLIETILENO
CH3
|
- CH2 - C -
|
CO2CH3
CH3
|
CH2 = C
|
CO2CH3
POLI (METACRILATO DE METILA)
UNIDADE REPETITIVA MONMERO TIPO
A polimerizao por radical livre ocorre atravs C = C localizada na
extremidade do monmero.
A velocidade da polimerizao depende do tipo de substituinte em um dos
carbonos ligados a dupla ligao.
X
/
H
2
C = C
\
Y
Na maioria dos monmeros X ou Y hidrognio.
A natureza dos substituintes em X e Y podem retardar ou inibir o tipo de
polimerizao.
Os acrilatos polimerizam mais rapidamente que os metracrilatos porque no
acrilato o substituinte H enquanto no metacrilato o substituinte CH3.
H
2
C = CH - CO R H
2
C = C - CO R
|| | ||
O CH
3
O
O estireno polimeriza mais rapidamente que o alfa-metil estireno.
H2C = CH H2C = C CH3
| |
( Grupo fenila)
GERA GERA O DE RADICAIS LIVRES O DE RADICAIS LIVRES
Iniciadores tipo perxido e azo-
composto so os mais usados nos
processos de gerao de
polimerizao por radicais livres.
Utilizao de iniciadores tipo
perxido.
TRIGONOX B/ TRIGONOX C
DECOMPOSIO TRMICA DE
COMPOSTOS ORGNICOS
ADEQUADOS
Usado nos processos de cura
(formao de estrutura tri-
dimensional) de acabamentos UV.
Utilizao de foto-iniciador
BENZOFENONA
DAROCUR 1173/IRGACURE 184
IRRADIAO COM ENERGIA
RADIANTE (ULTRA-VIOLETA)
Na prtica este processo no
usado industrialmente porqu de
difcil controle
Monmeros vinlicos e acrlicos
aquecidos ocorre a formao de
radicais livres.
AO DE CALOR
Necessidade de formao de
radicais livres em temperaturas
baixas.
POLIMERIZAO EM MEIO
AQUOSO
PBO (Perxido Benzoila)
+DIMETIL ANILINA
PROCESSO REDOX
UTILIZAO DO PROCESSO MTODO PROCESSO TIPO
INIBIO
OU
RETARDAMENTO
INIBIO
OU
RETARDAMENTO
TERMINAO
COMBINAO
DESPROPORO
TERMINAO
COMBINAO
DESPROPORO
PROPAGAO
PROPAGAO
INICIAO
INICIAO
FORMA
SIMPLIFICADA
DO
MECANISMO DE
POLIMERIZAO
POR RADICAIS
LIVRES
FORMA
SIMPLIFICADA
DO
MECANISMO DE
POLIMERIZAO
POR RADICAIS
LIVRES
FORMA SIMPLIFICADA DO MECANISMO FORMA SIMPLIFICADA DO MECANISMO
Iniciao:
X X
| |
R- + H
2
C = C R H
2
C C -
| |
Y y
Propagao:
X X X X
| | | |
R- H
2
C - C- + n H
2
C C R- H
2
C C - H
2
C C -
| | | |
Y y Y n Y
Terminao por combinao e no por desproporcionamento:
X X X
| | |
2 - H
2
C C- -H2C C C CH2 -
| | |
Y Y Y
Polmero
Polmero Polmero
P
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C
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V
R
E
FORMA SIMPLIFICADA DO MECANISMO FORMA SIMPLIFICADA DO MECANISMO
Iniciao:
X X
| |
R- + H
2
C = C R H
2
C C -
| |
Y y
Propagao:
X X X X
| | | |
R- H
2
C - C- + n H
2
C C R- H
2
C C - H
2
C C -
| | | |
Y y Y n Y
Terminao por desproporcionamento e no por combinao:
X X X
| | |
2 - H
2
C C- -H2C CH + CH = C
| | |
Y Y Y
Polmero Polmero Polmero
P
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C
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V
R
E
TERMINAO & AGENTES DE TRANSFERNCIA DE CADEIA
TERMINO CRESCIMENTO DE UMA CADEIA:
Combinao
molculas saturadas
Desproporcionamento
dupla remanescente final da cadeia afeta a durabilidade do polmero.
Meios de diminuir o desproporcionamento:
Agentes de transferncia de cadeia
Uma forma de terminao do crescimento da cadeia
Forma de regular o peso molecular polimrico.
H H H H
- C C- + RSH C C H + RS-
H H H H
H H H
RS- + H2C = C RS C C-
X H X
RSH= Agente de transferncia de cadeia = n-Butil Mercaptana
Polmero Polmero
INIBIO E RETARDAMENTO
DIMINUIO DA VELOCIDADE DE POLIMERIZAO POR ADIO:
Pode ser diminuda drasticamente
Atravs de inibidores
Substncias que reagem com os radicais iniciadores e propagadores.
Tornando-os espcies inativas.
.
+ Z -> + Z
.
O radical formado Z
.
- no tem capacidade de reagir com o monmero.
Principais inibidores:
BENZOQUINA
NITROBENZENO
HIDROQUINONA
T- BUTIL CATECOL
Casos classicos de inibio:
Polimerizao de polisteres insaturados e estireno.
Estocagem de monmeros
Monmero Monmero
RESINAS PARA TINTAS BASE SOLVENTE
CONTROLE EFICIENTE DA POLIMERIZAO
REPRODUTIBILIDADE
PROCESSO RPIDO
EMULSES AQUOSAS.
VECULOS BSICOS PARA LATEX.
PROCESSO RPIDO.
PERMITE OBTENO DE POLMEROS DE ALTO PM
CONTROLE EFICIENTE DA POLIMERIZAO
POLIMERIZAO EM SOLUO
POLIMERIZAO EM EMULSO.
COMENTRIOS TIPO DE PROCESSO
PROCESSOS DE POLIMERIZA PROCESSOS DE POLIMERIZA O POR ADI O POR ADI O O
USADO EM TINTAS USADO EM TINTAS
1. POLIMERIZAO ENTRE MONMEROS, DMEROS,
TRIMEROS,OLIGOMEROS.
2. MACROMOLCULA COM CRESCIMENTO LENTO
3. O AUMENTO DO PM OCORRE DURANTE O CURSO
DA REAO. O ALTO PM OCORRE NO FINAL.
4. TEMPO LONGO DE PROCESSO.
5. BSICAMENTE UM S ESTGIO DE PROCESSO:
ESTERIFICAO.
1. REAO ENTRE O MONMERO E A ESPCIE
EM CRESCIMENTO NICA.
2. FORMAO QUASE QUE INSTANTNEA DA
MACROMOLCULA
3. CENTRO REATIVO FORMADO CRESCE
RPIDAMENTE AT ALTO PM.
4. TEMPO CURTO DE PROCESSO.
5. TRS ESTGIOS DE PROCESSO:
INICIAO
PROPAGAO
TERMINAO
6. C = C SER TRANSFORMADA EM -C C-
REAO EXOTRMICA .
CONDENSAO RADICAL LIVRE (CADEIA OU ADIO)
DIFEREN DIFEREN AS ENTRE AS POLIMERIZA AS ENTRE AS POLIMERIZA ES POR RADICAL LIVRE E CONDENSA ES POR RADICAL LIVRE E CONDENSA O O
Mecanismos totalmente distintos Mecanismos totalmente distintos

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I
C

R
I
D
O
S
R
I
D
O
S
Apesar do advento dos
polmeros modernos.
leos glicridos ainda so muito
importantes na Indstria de
Tintas.
Origem renovvel
LEOS GLIC LEOS GLIC RIDOS RIDOS
Matria prima usada na preparao de
vrias resinas para uso em tintas.
Alqudicas
leos modificados
steres de Epxi
Tintas
Esmaltes Sintticos secagem ao ar.
Esmaltes Emulsionados
Lacas Nitro
leos Uretanizados
Esmaltes Alqudico - Melamina
8 C constantes
duplas ativas
Cauda do
cido
graxo com
nmero
varivel de
carbonos
CH2 O C R
1
||
O
CH - O - C R
2
Onde R
1
, R
2
e R
3
so radicais graxos
||
O
CH2 - O C R
3
||
O
ACIDO GRAXO =90% GLICERINA = 10%
FRMULA
QUMICA
DO
LEO
GLICRIDO
CLASSIFICAO
Os leos so classificados em trs
categorias principais:
Secativos
Semi-secativos
No-secativos.
CLASSIFICAO
Classificao em funo do ndice Iodo:
Maior 150 = secativos
100 150 = semi-secativo
Abaixo 100 = no secativo

CLASSIFICAO
Classificao em funo
Tipo de cido graxo predominante
Secagem caracterizado pelo ndice Iodo

COMPOSI COMPOSI O DOS O DOS LEOS GLIC LEOS GLIC RIDOS RIDOS
C
18
H
32
O
2
25 Dieno Conj
81 -91 No secativo C
18
H
34
O
3
87 Ricinoleico MAMONA CRU
C
16
H
32
O
2
9 Palmtico
C
14
H
28
O
2
17 Miristico 7,5 - 10,5 No secativo
C
12
H
24
O
2
48 Laurico
COCO
C
18
H
34
O
2
33 Oleico
125-136 Semi secativo
C
18
H
32
O
2
59 Linoleico
GIRASSOL
C
18
H
34
O
2
28 Oleico (DI)
C
18
H
32
O
2
54
Linoleico
(DNC)
SOJA
C
18
H
32
O
2
60
Linoleico
(DNC)
DCO
140-160 Secativo C
18
H
28
O
3
78 Licnico (DC) Oiticica
160-175 Secativo C
18
H
30
O
2
80
Eleosterico
DC
TUNGUE
C
18
H
32
O
2
17
Linoleico
DNC
C
18
H
34
O
2
22 Oleico (DI) 155-205 Secativo
C
18
H
30
O
2
51
Linolnico
DNC
LINHAA
NDICE DE IODO CLASSIFICAO FRMULA QUMICA
%
MDIA
TIPO
SECATIVIDADE CIDOS GRAXOS PREDOMINANTES
LEO
90 100 15 85 150 135 170 180 130 - - NDICE IODO
4 0,6 11 1 3 1 - 1 1 - - OUTROS
- - - - - - 80 - - 3 18
ELEOSTERICO -
DC
- - - - 78 - - - - 3 18 LICNICO (b) -DC
- - - - - - 3 66 9 3 18
LINOLNICO -
DNC
16 28 2 3 - 60 4 26 50 2 18 LINOLEICO -DNC
- - - - - 25 - - - 2 18 DIENO CONJ
- - - 86 - 3 - - - 1 18 RICINOLEICO (a)
64 50 12 6 6 8 8 15 25 1 18 OLEICO
2 3 3 3 5 - 1 4 4 0 18 ESTERICO
14 18 9 1 7 - 4 - 11 0 16 PALMTICO
- 0,4 16 - - - - - - 0 14 MERSTICO
- - 45 - - - - - - 0 12 LAURICO
OLIVA ARROZ BABASS CASTOR CRU OITICICA DCO TUNGUE LINHAA SOJA
N
DUPLAS
N
CARBONOS ACIDOS GRAXOS
GLICRIDOS - COMPOSIO MDIA DOS PRINCIPAIS CIDOS GRAXOS
(a) um hidroxi-acido (cido 12 hidroxi-oleico) (b) um cido com grupo cetnico
COMPOSI COMPOSI O DOS O DOS LEOS GLIC LEOS GLIC RIDOS RIDOS
CH2 O C R
1
CH2 OH HO C - R
1
|| ||
O O
CH - O - C R
2
+ 3 H2O CH OH + HO C R
2
|| ||
O O
CH2 - O C R
3
CH2 OH HO C - R
3
|| ||
O O
HIDRLISE DO GLICRIDO = REAO OPOSTA A ESTERIFICAO
BASE PARA OBTENO CIDOS GRAXOS E GLICERINA
HIDRLISE
DO
GLICRIDO
MODIFICA MODIFICA O DE O DE LEOS GLIC LEOS GLIC RIDOS RIDOS
DESIDRATAO DO LEO DE MAMONA
Grupo Funcional: cido 12 hidroxi-oleico
13 12 11 10 9
H
3
C (CH
2
)
4
CH
2
CH CH
2
CH = CH (CH
2
)
7
COOR
H+
|
OH
13 12 11 10 9
H
3
C (CH
2
)
4
CH
2
CH = CH
2
CH = CH (CH
2
)
7
COOR (Estrutura 1 =30%)
13 12 11 10 9
H
3
C (CH
2
)
4
CH
2
= CH CH
2
CH = CH (CH
2
)
7
COOR (Estrutura 2 = 70%)
M
O
D
I
F
I
C
A
M
O
D
I
F
I
C
A

O

D
E

O

D
E

L
E
O
S

L
E
O
S

G
L
I
C
G
L
I
C

R
I
D
O
S
R
I
D
O
S
MALEINIZAO
Glicridos com duplas conjugadas ( adio de DIELS-ALDER)
1 2 3 4 5 6
R CH
2
CH = CH CH
=
CH - CH
2
R
1
+ HC C = 0
\
O
/
HC C = O
1 2 3 4 5 6
R CH
2
CH - CH = CH CH - CH
2
R
1
| |
HC CH
| |
O = C C = O
O
FORMA DE PREPARAR RESINAS SOLVEIS OU DILUVEIS EM
GUA (INCLUINDO ELETROFORESE ANDICA).
cido Fumrico
Anidrido Maleico
M
O
D
I
F
I
C
A
O

D
E

L
E
O
S

G
L
I
C
R
I
D
O
S
MALEINIZAO
Glicridos com duplas no conjugadas
1 2 3 4 5 6 7
R CH
2
CH = CH CH
2 -
CH = CH CH
2
- R
1
+ HC C = 0
\
O
/
HC C = O
1 2 3 4 5 6 7
R CH
2
CH = CH CH
-
CH = CH CH
2
- R
1
|
HC C = O
\
O
/
H2C C = O
FORMA DE PREPARAR RESINAS SOLVEIS OU DILUVEIS EM
GUA (INCLUINDO ELETROFORESE ANDICA).
cido Fumrico Anidrido Maleico
PROCESSO DE INCORPORAO DE VINIL TOLUENO EM
ALQUDICAS E LEOS MODIFICADOS.
Copolimeriza atravs das duplas ligaes existentes na estrutura das resinas alqudicas ou
do leo a ser copolimerizado e provenientes dos cidos graxos insaturados.
A modificao atravs das insaturaes ocorre de forma diferente, dependendo do tipo
de duplas ligaes:
Duplas conjugadas Processo de radicais livres:
Incorporao de VT:
Horas: 3 + 1 +1
4% TB sobre VT
Adio recipientes separados
Duplas ligaes no conjugadas:
Uso de um iniciador com capacidade de abstrao de hidrognio a uma substncia que tenha
hidrognios lbeis na sua estrutura permite iniciar uma cadeia polimrica nessa substncia
ALQUDICAS E LEOS MODIFICADOS.
Incorporao de VT:
Horas: 3 + 1 +1
4% TB sobre VT
LEO URETANIZADO
Alcolise: monoglicrido (grupo reativo -OH)
Enxerto de TDI: Tolueno di-isocianato
Enxerto de H12MDI: Ciclo-aliftico di-isocianato
CH
2
O - C R CH
2
- OH
||
O
CH - O C R + 2 CH - OH -OH
||
O
CH
2
- O C R CH
2
- OH
||
O
Tri-glicrido Glicerina
-OH + OCN R NCO + HO-
- O C - N R N C - O
|| | | ||
O H H O
Mono-glicrido
Mono-glicrido Mono-glicrido
Mono-glicrido
Mono-glicrido
2,8 Excesso OH
Z6 Viscosidade
71,27% Solidos
VALORES ESPECIFICAO
100,00% Total
28,7224% Aguarrs
18,1467% TDI 80/20
0,0328% Neocat Ltio
6,6479% Glicerina
46,4502% Soja
% em peso Composio
leo Uretanizado leo Uretanizado
R
E
S
I
N
A
S

A
L
Q
U
R
E
S
I
N
A
S

A
L
Q
U

D
I
C
A
S

&

A
L
Q
U
D
I
C
A
S

&

A
L
Q
U

D
I
C
A
S

D
I
C
A
S

M
O
D
I
F
I
C
A
D
A
S

&

P
O
L
I
M
O
D
I
F
I
C
A
D
A
S

&

P
O
L
I

S
T
E
R
E
S
S
T
E
R
E
S
RESINAS ALQU RESINAS ALQU DICAS DICAS
Termo-
plasticidade
(amolecimento
com o
calor)
Termo-
plasticidade
(amolecimento
com o
calor)
Amarelecimento.
Amarelecimento.
Baixo
resistncia
intempries
Baixo
resistncia
intempries
Secagem
lenta
Secagem
lenta
Melhorar
propriedades
fsico- qumicas
dos leos
Melhorar
propriedades
fsico- qumicas
dos leos
SURGIMENTO
1923
SURGIMENTO
1923
Modificadas: Alm dos constituintes da alqudica pura:
Resinas fenlicas
Resinatos de breu
Poliuretanos
Poliacrilicas
Poliestirnicas
Introduo na estrutura das alqudicas de outras resinas ou monmeros.
Introduo de natureza qumica modificadores incorporados
quimicamente na cadeia polimrica.
Alqudicas com melhores propriedades
Puras: resultado da polimerizao de uma composio que contm:
policidos: polialcoois; monocidos e, eventualmente,monolcoois.
CLASSIFICADAS EM
DOIS
GRUPOS
ALQUDICA ISENTA DE LEO refere-se aos polisteres saturados sem cidos graxos na sua
composio.
POLIMERIZAO POR CONDENSAO
Alqudicas so polisteres modificados por cidos graxos.
Polisteres que so modificados por leos e/ou cidos graxos.
PALAVRA ALQUDICA = INGLS ALKYD (Alcohol and Acid) e se refere:
PERFIL DE RESINAS ALQU PERFIL DE RESINAS ALQU DICAS DICAS
Nitro
Acabamentos PU.
Primers e esmaltes estufa. MAMONA
Alguns primers e esmaltes estufa.
Mistura com soja para esmaltes ao ar, longo em leo. DCO
Geral SOJA
Esmaltes Estufa, cores claras
Acabamentos PU, cores claras COCO
2-TIPOS DE LEO
Tintas serigraficas e flexogrficas
Esmaltes secagem ao ar Longa Acima de 60
Esmaltes secagem ao ar Mdia 46-60
Primers Estufa
Nitro e Esmaltes Estufa Curta 36-45
Fundos e Acabamentos PU
Esmaltes Estufa
Esmaltes e Vernizes PU Curta 25-35
1 - COMPRIMENTO DE LEO
PERFIL DE RESINAS ALQU PERFIL DE RESINAS ALQU DICAS DICAS
PERFIL DAS RESINAS ALQU PERFIL DAS RESINAS ALQU DICAS DICAS
Solvel em solventes
aromticos.
Utilizado em vrios sistemas
em estufa combinada com
melaminas.
Coco, mamona cru 40 ou menos No secativo
Solvel em solventes
alifticos- aromticos.
Geralmente utilizado como
plastificante para polmeros
termoplsticos.
Coco, mamona cru 40 a 60 No secativo
Solvel em solventes alifticos
ou alifticos- aromticos. Boa
secagem, durabilidade e brilho.
Linhaa, soja, girassol 45 a 60 Secativo ou semi
Solvel em solventes
alifticos. Pelculas so
flexveis com brilho e
durabilidade razovel
Linhaa, soja 60 ou mais Secativo ou semi
PROPRIEDADES LEO COMPRIMENTO DE LEO TIPO LEO
R
E
S
I
N
A
S

R
E
S
I
N
A
S

A
L
Q
U
A
L
Q
U

D
I
C
A
S
D
I
C
A
S
ETAPAS DE PREPARAO
CH
2
O - C R CH
2
- OH
||
O
CH - O C R + 2 CH - OH HO - CH
2
CH - CH
2
- OH
|| |
O O
CH
2
- O C R CH
2
- OH |
|| C = O
O |
R
Tri-glicrido Glicerina Mono-glicrido
R
E
S
I
N
A
S

R
E
S
I
N
A
S

A
L
Q
U
A
L
Q
U

D
I
C
A
S
D
I
C
A
S
ETAPAS DE PREPARAO
Esterificao: polimerizao propriamente dita
HO - CH
2
CH - CH
2
OH + 2 - OOC - CO -
|
O
|
C = O
|
R
Mono-glicrido Anidrido Ftlico C
6
H
4
(CO)
2
O
OOC - CO - O - CH
2
CH - CH
2
OOC - CO - + H
2
O
|
O
|
C = O
|
R
n
R
E
S
I
N
A
S

A
L
Q
U
D
I
C
A
S
ETAPAS DE PREPARAO
CH
2
O - C R CH
2
OH CH2 O C - R
|| || CH2OH
O O |
CH - O C R + HO -H
2
C C CH
2
- OH CH OH + R C OH2C C CH2O C - R
|| || | ||
O O CH2OH O
CH
2
- O C R CH
2
- OH CH
2
- OH
||
O
Tri-glicrido Penta Mono-glicrido Di -glicrido
ETAPAS DE PREPARAO
PENTA VERSUS GLICERINA
Maior viscosidade
Secagem mais rpida
Maior dureza
Brilho inicial mais alto e superior reteno do mesmo
Melhor resistncia qumica
Menor tendncia ao amarelamento
Maior resistncia ao intemperismo
Alqudicas com maior comprimento de leo maior evidncia de uso

MATRIAS PRIMAS
Glicridos:
J visto anteriormente.
Poliis mais usados:
Glicerina Alqudica partindo de glicridos.
Penta Alqudica partindo de glicridos.
TMP/ TME Alqudicas especiais curadas com melamina
NPG/TMPD (Trimetilpentanodiol) Tinta em p termocurvel e acabamentos

automotivos (original e repintura).
MATRIAS PRIMAS
Policidos mais usados:
AF Alqudicas partindo de glicridos
cidos isoftlicos e tereftlicos - polisteres para tinta em p.
cido isoftlico maior comprimento de leo na mesma viscosidade e slidos.
cido isoftlico baixa solubilidade na poliesterificao maior tempo de

processo.
Anidrido maleico e cido fumrico casos especiais pequenas quantidades.
Reagem com as insaturaes dos leos.
Anidrido trimeltico funcionalidade 3; alqudicas e polisteres diluveis em

gua.
MATRIAS PRIMAS
Solventes mais usados:
Aromticos Toluol, Xilol, Solvesso 100
Alifticos (N PARAFINAS) AGUARRS e NAFTA ALIFTICA.
Iniciadores de reao mais usados:
Octoato de ltio catalisador
Soda caustica catalisador
cido fosfrico catalisador
Trifenil fosfito
TESTES MAIS COMUNS
Compatibilidade
No volteis
Acidez
Viscosidade Gardner
Cor Gardner
ndice de OH
FORMULAS DE
FORMULAS DE
ALQU
ALQU
DICAS
DICAS
60% 55% 39% leo
2654 2520 3727 PM
1,9%
60+-2
Z4 Z6
100,000
-
39,085
1,458
24,003
0,004
13,246
22,204
CURTA
1,3%
70+-2
Z6+
100,000
27,311
-
1,344
22,131
0,008
11,520
37,686
MDIA
2,0% % OH em soluo
70+-2 Slidos
Z2 - Z3 Viscosidade
100,000 TOTAL
27,864 Aguarrs
- Xileno
1,068 REFLUXO
17,588 Anidrido Ftlico
0,008 POLICATIO LITIO
11,952 (*) Glicerina
41,520 Soja
LONGA COMPOSIO
RESINAS ALQU RESINAS ALQU DICAS TRADICIONAIS DICAS TRADICIONAIS
Processo de Produo de Resinas Alqudicas
(1) Carregar
leo +
Glicerina +
Iniciador
(3)Manter at
atingir alcolise
(2) Aquecimento
250C
(4) Aps Mono,
abaixar para
180C e
carregar AF +
solvente refluxo
(7) Resfriar para
115 120C e
iniciar diluio
((5) Aquecer para
250C sob
refluxo e N2
(6) Manter at
atingir
viscosidade e
acidez
desejadas
RESINAS ALQU RESINAS ALQU DICAS TRADICIONAIS DICAS TRADICIONAIS
(8) Descarregar
ALQU ALQU DICAS MODIFICADAS DICAS MODIFICADAS
ALQUDICAS URETANIZADAS
Polimerizao em dois estgios:
Resina alqudica com excesso de hidroxilas - (grupo reativo -OH)
Enxerto de TDI: Tolueno di-isocianato
Enxerto de H12MDI: Ciclo-aliftico di-isocianato
-OH + OCN R NCO + HO-
- O C - N R N C - O
|| | | ||
O H H O
Enxerto do TDI = 2 horas a 80C reao de alta exotermia.
Resina Alqudica
Resina Alqudica
Resina Alqudica
Resina Alqudica
Duplas ligaes no conjugadas:
Uso de um iniciador com capacidade de abstrao de hidrognio a uma substncia que tenha
hidrognios lbeis na sua estrutura permite iniciar uma cadeia polimrica nessa substncia
ALQUDICAS MODIFICADOS.
Incorporao de VT:
Horas: 3 + 1 +1
4% TB sobre VT
ALQU ALQU DICAS E DICAS E LEOS MODIFICADOS LEOS MODIFICADOS
Alqu Alqu dica dica vinilizada vinilizada processo p processo p s s viniliza viniliza o o de uma resina pronta de uma resina pronta
ALQU ALQU DICA VT DICA VT PROCESSO P PROCESSO P S S
100,000 Total
3,1530 Perda
0,8124 Xileno
0,3453 Trigonox B (*)
8,9857 Vinil Tolueno
35,1296 Xileno
2,0325 Xileno
21,4975 Anidrido Ftlico
0,0060 LIOH
12,3774 Glicerina
21,9666 Soja
% EM PESO COMPOSIO
Mximo 8 Cor
Mximo 10 ndice de Acidez
Z Z1 Viscosidade
Xileno Voltil
15
Contedo de Vinil Tolueno (%)
35,4 Comprimento de leo (%)
0,96+-0,02 Peso Especfico
62 % Slidos
VALORES ESPECIFICAO
(*) DI-TERT-BUTYL PEROXIDE
MODIFICAES COM BREU:
O breu participa da poliesterificao.
Constituinte do breu o cido abitico - C
19
H
29
COOH.
Vantagens:
Secagem mais rpida
Maior dureza
Desvantagens:
No pode ser usado em tintas brancas
MODIFICAES
COM
BREU
E
COM
RESINAS
MALEICAS
ETAPAS DE PREPARAO
CH
2
O - C R CH
2
- OH
||
O
CH - O C R + 2 CH - OH HO - CH
2
CH - CH
2
OH + CH
2
CH - CH
2
|| | l l l
O O O OH O
CH
2
- O C R CH
2
- OH | l l
|| C = O C = O C = O
O | l l
R R R
Tri-glicrido Glicerina Mono-glicrido Di-glicrido
A
L
Q
U
D
I
C
A
M
O
D
I
F
I
C
A
D
A

C
O
M

B
R
E
U
A
L
Q
U
A
L
Q
U

D
I
C
A

D
I
C
A

M
O
D
I
F
I
C
A
D
A

M
O
D
I
F
I
C
A
D
A

C
O
M

B
R
E
U
C
O
M

B
R
E
U
CH
2
C - R
l ||
C
19
H
29
COOH + HO - CH
2
CH - CH
2
OH + - OOC - CO - + HO - CH O
| l
O CH
2
O C - R
| ll
C = O O
|
R
cido Abitico + Mono-glicrido + Anidrido Ftlico + Di-glicrido
C
6
H
4
(CO)
2
O
O
ll
CH
2
C - R
l
C
19
H
29
CO -O-CH
2
CH-CH
2
OOC - CO-O - CH + 2 H
2
0
l l
O CH
2
O C - R
| ll
C = O O n
l
R ETAPAS DE PREPARAO
Esterificao: introduo do breu
PROPORCIONA:
Revestimentos com superior resistncia qumica.
Melhor dureza
DESVANTAGEM:
Amarelecimento
FORMA DE MODIFICAO
Geralmente com tipo RESOL
Fenol + formol (excesso)
Obtidas a partir de fenis alquilados em para:
P-t-butil fenol
P-t-amil fenol
P-t-nonil fenol
Modificao feita durante a esterificao
Ainda no esclarecido se h algum tipo de ligao qumica nesta
modificao .
MODIFICAES COM
RESINAS
FENLICAS
(ALQUDICA/
BREU/FENOL)
ALQU ALQU DICA MODIFICADA COM BREU FENOL DICA MODIFICADA COM BREU FENOL
O
ll
CH
2
C - R
l
C
19
H
29
COOH + HO - CH
2
CH - CH
2
OH + - OOC - CO - + HO - CH
| l
O CH
2
O C - R
| ll
C = O O
|
R
cido Abitico + Mono-glicrido + Anidrido Ftlico + Di-glicrido
C
6
H
4
(CO)
2
O
O
ll
CH
2
C - R
l
C
19
H
29
CO -O-CH
2
CH-CH
2
OOC - CO-O - CH + 2 H
2
0
l l
O CH
2
O C - R
| ll
C = O O n
l
R
ETAPAS DE PREPARA ETAPAS DE PREPARA O O
Esterifica Esterifica o: o: introdu introdu o do BREU o do BREU
Introdu Introdu o do RESOL: o do RESOL: Intera Intera o com a o com a insatura insatura o o do BREU do BREU
CH3 COOH
CH2OH
CH3 CH3 + HO C(CH3)3
CH
CH3
BREU GRUPO METILOL EM ORTO DERIVADO DO PTBF
CH3 COOH
CH2
C(CH3)3
O
CH3 CH3
CH
CH3
Introdu Introdu o do RESOL: o do RESOL: Intera Intera o com a o com a insatura insatura o o do do LEO LEO
OH
CH2OH + CH3 (CH2)7 CH = CH (CH2)7 COOCH3
C(CH3)3
GRUPO METILOL EM ORTO DERIVADO DO PTBF INSATURAO DO LEO
O O
CH (CH2)7 COOCH3 CH (CH2)7 CH3
l + l
CH (CH2)7 CH3 CH (CH2)7 COOCH3
CH2 CH2
(CH3)3C (CH3)3C
100,000 Total
16,361 Xileno (g)
8,934 AGUARRAS (g)
9,150 Toluol (f)
3,714
XAROPE FENLICO (e)
1,292
Anidrido Maleico (d)
9,634
Anidrido Ftlico (d)
8,773 PENTA (c)
0,161
POLICATIO LITIO (b)
21,959 BREU (a)
20,022 Soja (a)
% EM PESO COMPOSIO
Mximo 10 Cor
1. Carregar A e deixar fundir com mexedor parado.
2. Ligar mexedor e adicionar B e C. Aquecer lentamente
para 240C. Manter at alcolise.
3. Alcolise OK, adicionar D e E e com +- 180C adicionar F.
4. Subir para 240C e fazer refluxo at especificaes.
5. Especificaes OK, esfriar e diluir com G.
Mximo 25 ndice de Acidez
Z3 Z5 Viscosidade
0,96+-0,02 Peso Especfico
70+-2 % Slidos
VALORES ESPECIFICAO
RESINAS RESINAS
FEN FEN LICAS LICAS
RESOL E NOVOLAC RESOL E NOVOLAC
RESINAS FEN RESINAS FEN LICAS LICAS
Vantagens
em relao
produtos
naturais
Vantagens
em relao
produtos
naturais
Indstria de
Tintas:
Resinas
FENLICAS
modificadas
com BREU
Indstria de
Tintas:
Resinas
FENLICAS
modificadas
com BREU
Laminados
Laminados
Impregnao
de
Papel
Impregnao
de
Papel
Isolantes
Eltricos
Isolantes
Eltricos
Produo
grande
variedade
de
Resinas
Produo
grande
variedade
de
Resinas
SURGIMENTO
1910
BAEKELAND
BAKELITE
SURGIMENTO
1910
BAEKELAND
BAKELITE
RESINAS FEN RESINAS FEN LICAS LICAS
Primeiros
Polmeros
Sintticos
com utilizao
Industrial
Primeiros
Polmeros
Sintticos
com utilizao
Industrial
Agente
Reticulao
para outros
Polmeros
(Epoxi)
Agente
Reticulao
para outros
Polmeros
(Epoxi)
Tintas:
Modificao
de outros
Polmeros
(Alqudicas)
Tintas:
Modificao
de outros
Polmeros
(Alqudicas)
Adesivos
Adesivos
Laminados
Laminados
Compostos
Para
Moldagem
Compostos
Para
Moldagem
PRINCIPAIS
USOS
PRINCIPAIS
USOS
RESINAS FENLICAS
FORMOL
(excesso)
FENOL
pH
alcalino
RESOL
Reativa
RESINA RETICULADA
pH
cido
FENOL
(excesso)
FORMOL
NOVOLAC
No reativa
Calor e/ou
catalisador
cido
Calor +
agente de
cura
REPRESENTAO SIMPLIFICADA DA POLIMERIZAO
RM = 1:2
RM = 1,25 :1
P
O
L
I
P
O
L
I
S
T
E
R

S
A
T
U
R
A
D
O
S
T
E
R

S
A
T
U
R
A
D
O

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Minicursos CRQ-IV - 2010

polmeros na formulao de tintas

Maior 150 = secativos

100 150 = semi-secativo

Abaixo 100 = no secativo

Tipo de cido graxo predominante

Secagem caracterizado pelo ndice Iodo

Secagem mais rpida

Brilho inicial mais alto e superior reteno do mesmo

Melhor resistncia qumica

Menor tendncia ao amarelamento

Maior resistncia ao intemperismo

Alqudicas com maior comprimento de leo maior evidncia de uso

Poliis mais usados:

Glicerina Alqudica partindo de glicridos.

Penta Alqudica partindo de glicridos.

TMP/ TME Alqudicas especiais curadas com melamina

NPG/TMPD (Trimetilpentanodiol) Tinta em p termocurvel e acabamentos

Policidos mais usados:

AF Alqudicas partindo de glicridos

cidos isoftlicos e tereftlicos - polisteres para tinta em p.

cido isoftlico maior comprimento de leo na mesma viscosidade e slidos.

cido isoftlico baixa solubilidade na poliesterificao maior tempo de

Anidrido maleico e cido fumrico casos especiais pequenas quantidades.

Reagem com as insaturaes dos leos.

Anidrido trimeltico funcionalidade 3; alqudicas e polisteres diluveis em

Solventes mais usados:

Aromticos Toluol, Xilol, Solvesso 100

Alifticos (N PARAFINAS) AGUARRS e NAFTA ALIFTICA.

Iniciadores de reao mais usados:

Octoato de ltio catalisador

Soda caustica catalisador

cido fosfrico catalisador

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