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UNIVERSIDADE FEDERAL DE UBERLNDIA

FACULDADE DE ENGENHARIA MECNICA


NCLEO DE PROJETOS E SISTEMAS MECNICOS
LABORATRIO DE PROJETOS MECNICOS / LPM

Prof. Cleudmar Amaral Arajo


Fevereiro de 2013

UNIVERSIDADE FEDERAL DE UBERLNDIA / FEMEC


LABORATRIO DE PROJETOS MECNICOS - LPM
ANLISE EXPERIMENTAL DE TENSES
MDULO II: FOTOELASTICIDADE DE TRANSMISSO PLANA
Prof. Cleudmar Amaral Arajo

SUMRIO

INTRODUO

03

1.1
1.2
1.3
1.4

03
05
06
08

A NATUREZA DA LUZ

09

2.1

10

Relaes pticas na fotoelasticidade

INSTRUMENTOS PTICOS

11

3.1
3.2

11
12

Polariscpio plano ou linear


Retardadores de onda

POLARISCPIOS E SUAS CARACTERSTICAS

15

4.1
4.2

18
19

Polariscpio plano
Polariscpio circular

FOTOELASTICIDADE DE TRANSMISSO BIDIMENSIONAL

18

5.1
5.2
5.3
5.4

18
19
19
22
22
29
30
31
34

5.5
5.6
5.7

Fundamentos da fotoelasticidade
Fotoelasticidade de transmisso plana
Fotoelasticidade de transmisso tridimensional
Fotoelasticidade de reflexo

ndice de refrao
Luz polarizada
Lei de Brewster-Maxwell (Dupla refrao temporria)
Parmetros fotoelsticos
5.4.1
Medida dos parmetros fotoelsticos
Mtodo de compensao de Tardy
Materiais fotoelsticos
Mtodos de calibrao
5.7.1
Exemplo de um processo de calibrao

REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS

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1 INTRODUO
A especificao ou dimensionamento de peas e estruturas um dos problemas mais freqentes em engenharia. Neste caso, geralmente, deseja-se avaliar os gradientes de tenses oriundos da aplicao dos carregamentos. Por exemplo, em muitos casos de projetos de peas, h a
necessidade de que estas tenham variao de seo, furos, entalhes, ranhuras, etc. Todas essas
formas na pea so pontos concentradores de tenso, ou seja, as tenses nesses pontos so
maiores que a tenso nominal. Essas tenses mximas so proporcionais tenso nominal, e
o fator de proporcionalidade conhecido como fator de concentrao de tenso que depende
da geometria, dimenso do entalhe e natureza do esforo.
Vrias tcnicas experimentais so hoje utilizadas para a determinao da distribuio de tenses/deformaes em sistemas estruturais. Entre estas tcnicas pode-se destacar a fotoelasticidade, tcnica que, permite uma rpida anlise qualitativa do estado de tenso, atravs da
observao de efeitos pticos. Especificamente, a fotoelasticidade de transmisso pode ser
usada na soluo de problemas do estado plano ou tridimensional; para tanto necessria a
confeco de modelos. Existe tambm uma tcnica fotoelstica que determina a distribuio
de tenses em superfcies, a fotoelasticidade de reflexo, que dispensa a confeco de modelos.
No caso particular da tcnica fotoelstica de transmisso, um material plstico transparente
submetido a um estado de tenso/deformao exibe uma propriedade denominada dupla refrao ou anisotropia ptica. A luz polarizada que o atravessa, obtida por um aparelho denominado Polariscpio, permite a determinao das direes e dos gradientes das tenses principais atravs da interpretao dos parmetros pticos observados. Quando se utiliza luz
branca, os efeitos pticos se manifestam como franjas coloridas e com luz monocromtica h
uma srie alternada de franjas pretas e brancas. A ordem de franja em um ponto est relacionada com o estado de tenses no modelo, atravs da "Lei ptica das Tenses".
Como foi citado, na tcnica de fotoelasticidade de transmisso, h a necessidade da confeco de um modelo constitudo de um material transparente que possua propriedades de birefrigncia. Este modelo deve ento ser submetido aos carregamentos desejados sendo analisado em um Polariscpio de transmisso, pois somente sob luz polarizada podem-se observar
os fenmenos e os parmetros pticos necessrios para fazer a anlise das tenses.
1.1 Fundamentos da fotoelasticidade
A Fotoelasticidade uma tcnica experimental para anlise do campo de tenso/deformao
de estruturas que particularmente til em peas que possuem geometria complexa e/ou carregamentos complexos. Em tais casos, mtodos analticos podem ser de difcil execuo ou
impossveis de serem aplicados, e uma anlise experimental pode ser mais apropriada. Atualmente, a soluo de problemas bidimensionais elsticos e estticos so bem conhecidos
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atravs de mtodos analticos. Mtodos experimentais so atualmente adequados para a soluo de problemas com geometria 3D, montagens com mltiplos componentes, cargas dinmicas e materiais com comportamento inelstico. O nome fotoelasticidade reflete a natureza do
mtodo, ou seja, foto implica no uso da luz e tcnicas pticas, enquanto elasticidade relaciona-se com o estudo de tenses e deformaes em corpos elsticos. Utilizando a tcnica com
vernizes fotoelsticos possvel ampliar este estudo para corpos inelsticos. A tcnica fornece evidncias quantitativas de reas altamente tensionadas e picos de tenses em superfcies
ou pontos interiores de estruturas.
A tcnica da fotoelasticidade permite uma rpida anlise qualitativa do estado de tenso,
atravs da observao de efeitos pticos em modelos, alm de ser muito usada no monitoramento quantitativo de resultados obtidos por elementos finitos e em solues tericas aproximadas. Esta tcnica muito aplicada para localizar reas com altos nveis de tenso em
problemas de geometria plana e tridimensional, sendo uma tcnica recomendada tambm em
estudos de problemas de contato entre os corpos.
O mtodo baseado em uma propriedade nica de alguns materiais transparentes que o
efeito de anisotropia ptica. Quando o modelo tensionado e um raio de luz entra ao longo
das direes das tenses principais, a luz dividida em duas componentes de onda, cada uma
com seu plano de vibrao paralelo a uma das duas tenses principais. A luz viaja ao longo
destes dois caminhos com diferentes velocidades devido ao efeito de birrefringncia e que
depende da magnitude das duas tenses principais, conforme mostrado na Figura 1. Portanto,
a onda vai emergir do modelo com uma nova relao de fases ou retardao relativa, que a
diferena no nmero de ciclos dos dois raios viajando dentro do modelo.
Plano principal

Raio de
luz

Plano principal

Figura 1 Modelo sob luz polarizada plana.


Em um dos planos principais a figura mostra 3,75 ciclos da onda de luz e no outro plano
principal 3,5 ciclos da onda de luz, fornecendo uma retardao linear relativa de 0,25 (1/4).

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Para a utilizao da tcnica fotoelstica, materiais especiais devem ser usados, portadores de
caractersticas indispensveis tais como: ser transparente e livre de tenses residuais, apresentar uma boa resposta ptica, ser linear, ser homogneo e isotrpico e ter boa usinabilidade.
1.2 Fotoelasticidade de transmisso plana
A fotoelasticidade de transmisso plana utilizada em problemas de estado plano de tenses
e requer a confeco de modelos planos e sistemas de cargas que simulam adequadamente as
cargas reais impostas ao modelo real. A Figura 2 mostra um modelo fotoelstico feito de um
material base de resina epxi sem carregamento. A Figura 3-b mostra o mesmo modelo
posicionado em um sistema de carga e a Figura 4-b mostra os parmetros pticos observados
neste modelo quando sujeito aos carregamentos e observados no polariscpio de transmisso.

Figura 2 Implante dentrio com conexo do tipo hexgono interno fixado em um bloco
fotoelstico, analisado no Laboratrio de Projetos Mecnicos da FEMEC/UFU.

(a)

(b)

Figura 3 a) Sistema de carga montado em um polariscpio de transmisso pertencente ao


LPM. b) Implante dentrio com conexo do tipo hexgono interno posicionado no polariscpio no momento da aplicao da carga analisado no Laboratrio de Projetos Mecnicos da
FEMEC/UFU.
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Em geral, pontos crticos em modelos planos ocorrem em contornos livres (furos, entalhes,
filetes). A fotoelasticidade plana torna-se uma forma poderosa de determinao da distribuio de tenses ou fator de concentrao de tenses, associadas a esses problemas. Em pontos
no interior do modelo bidimensional, pode-se obter apenas a leitura da tenso cisalhante mxima, e os valores individuais das tenses principais s so obtidos com a utilizao de dados
suplementares ou emprego de mtodos numricos.

(a)

(b)

Figura 4 a) Modelo fotoelstico do implante dentrio com conexo do tipo hexgono interno sem carga. b) Padro de franjas observado no modelo fotoelstico do implante dentrio
com carga, analisado no Laboratrio de Projetos Mecnicos da FEMEC/UFU.
1.3 Fotoelasticidade de transmisso tridimensional
Os modelos utilizados na fotoelasticidade plana so carregados temperatura ambiente, e,
sendo elsticos, a configurao das franjas desaparece quando a carga retirada. Uma vez
que a luz precisa atravessar toda a espessura, a interpretao das configuraes das franjas s
possvel quando o modelo plano, gerando um estado plano de tenses considerando a distribuio das tenses praticamente uniforme ao longo da espessura.
Vrios polmeros, como por exemplo, aqueles base de resina epxi, quando carregados sob
altas temperaturas e em seguida resfriados, retm a configurao das franjas como se ainda
estivessem carregados em regime elstico. Este processo denominado de "congelamento de
tenses/deformaes". O congelamento de tenses em certos tipos de materiais pode ser entendido como se estes possussem uma forte estrutura elstica, ou rede molecular, que no
afetada pelo calor, com os espaos entre as ligaes preenchidos por uma massa de molculas
fracamente ligadas (cadeias secundrias), que amolecem com o aquecimento, como mostra a
Figura 5. Quando o modelo aquecido, atingindo a chamada "temperatura crtica do polmero", e carregado, a estrutura molecular elstica suporta a carga e deformada elasticamente
sem impedimento. No resfriamento, a massa malevel na qual a estrutura molecular est
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imersa se torna "congelada" e mantm a estrutura quase na mesma condio de deformao


quando a carga removida. Assim, a deformao substancialmente retida e no prejudicada pelo corte do modelo em fatias. Um modelo tridimensional pode ento ser cortado em
finas fatias, e cada uma delas pode ser examinada no polariscpio de transmisso, sendo que
as relaes pticas continuam sendo vlidas para qualquer plano retirado do modelo tridimensional. O estado de tenso que produziu o efeito ptico na fatia no plano, mas caracterizado pelas tenses principais secundrias no plano em considerao. Assim, pode-se examinar uma fatia interna ao modelo, com qualquer direo normal e espessura, de forma similar usada para modelos planos. A completa obteno dos valores individuais das tenses
tridimensionais em um ponto do modelo, pode ser feita combinando as equaes para trs
planos perpendiculares. Como estas seis equaes, duas para cada plano, no so linearmente
independentes, necessrio utilizar as equaes de equilbrio associadas a mtodos numricos, para a completa separao das tenses. A Figura 6 mostra um modelo 3D fundido e uma
das fatias retiradas do modelo. A Figura 7 mostra o padro de franjas desta fatia observada
em um polariscpio de transmisso. A Figura 8 mostra uma aplicao especfica para anlise
de um problema tridimensional utilizando o mtodo fotoelstico.

Figura 5 Esquema das ligaes primrias e secundrias de um material fotoelstico com


propriedades para congelamento de tenses.

Figura 6 Modelo fotoelstico de uma biela e uma fatia retirada do modelo.


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Figura 7 Fatia da biela analisada em um polariscpio de transmisso mostrando os padres


de franjas no modelo mesmo sem a aplicao da carga (congelamento das tenses).

Figura 8 Anlise fotoelstica 3D (transmisso) de um reator nuclear utilizando fotoelasticidade de transmisso 3D. Fonte: Measurements Group / Vishay Inc.
1.4 Fotoelasticidade de reflexo
A fotoelasticidade de reflexo uma tcnica experimental usada para a determinao de tenses/deformaes em superfcies planas ou irregulares. uma tcnica relativamente precisa e
tem como principal vantagem o fato de no ser necessria a confeco de modelos. Pode ser
utilizada em problemas envolvendo deformao elstica ou plstica, bem como em problemas
envolvendo materiais anisotrpicos. A obteno dos parmetros pticos pode ser feita diretamente na estrutura ou componente mecnico, quando estes esto sob efeito dos carregamentos reais. Nestes casos, o polariscpio de reflexo pode ser deslocado para o local de operao da estrutura.
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Esta tcnica consiste em colar na superfcie do espcimen uma camada de material fotoelstico com uma cola apropriada e que possui uma superfcie reflexiva na interface espcimen/camada. Quando o espcimen carregado, a deformao na superfcie do mesmo
transmitida para a camada fotoelstica e atravs da anlise dos fenmenos pticos que ocorrem no material fotoelstico, pode-se determinar as tenses/deformaes na superfcie do
espcimen. Existem vrios mtodos de separao das tenses principais, sendo que os mais
usados so o mtodo da incidncia oblqua e o mtodo da inciso.
Os materiais fotoelsticos usados nesta tcnica, alm de outras caractersticas, tm que ter
baixo mdulo de elasticidade, se comparado com o mdulo de elasticidade do espcimen,
para minimizar o efeito de reforo e dar alta resistncia relaxao ptica mecnica, garantindo uma estabilidade das medidas com o tempo. A Figura 9 apresenta um caso de aplicao
utilizando a fotoelasticidade de reflexo.

Figura 9 - Anlise fotoelstica utilizando a tcnica de reflexo em um suporte de motor.


Fonte: Measurements Group / Vishay Inc.
2 A NATUREZA DA LUZ
Newton (1642-1727) props a teoria corpuscular da luz, na qual a luz era visualizada atravs
do fluxo de pequenas partculas (ftons). Maxwell (1831-1879) props a teoria eletromagntica da luz indicando que a propagao da luz era feita de forma ondulatria atravs de um
vetor de campo eltrico e um vetor de campo magntico.
Os fenmenos pticos observados na fotoelasticidade so explicados atravs desta natureza
ondulatria da luz, basicamente, utilizando um de seus componentes de vibrao que o vetor de campo eltrico (E). Este vetor vibra em fase com o vetor de campo magntico (B) sendo mutuamente perpendiculares na direo de propagao. A Figura 10 mostra o esquema de
vibrao destes dois vetores.
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E
B
B

Fonte de luz

z
Figura 10 Luz propagando-se na direo Z vibrando em diversos planos.

2.1 Relaes pticas na fotoelasticidade


A teoria eletromagntica de Maxwell mostra que a luz uma perturbao eletromagntica
que pode ser expressa como um vetor que normal direo de propagao. Esta perturbao pode ser considerada como uma onda em movimento, o que possibilita expressar a amplitude do vetor luz em termos da soluo da equao de ondas unidimensional (Eq. 1).

E f ( z c t ) g( z c t )

(1)

Onde:

E : amplitude do vetor luz ou um de seus componentes;


z : posio ao longo do eixo de propagao;
t : tempo de propagao;
c : velocidade de propagao (cluz = 3 x 108 m/s no vcuo).

A maioria dos efeitos pticos de interesse na anlise experimental de tenses, mais especificamente na fotoelasticidade pode ser descrita como uma onda senoidal, propagando na direo positiva do eixo z, como mostrado na Figura 11. Ou seja:
E f ( z ct ) a sen

( z ct )

ou

E a cos

( z ct )

(2)

O tempo requerido para a passagem de dois picos sucessivos sobre algum valor fixo de propagao chamado perodo (T). A frequncia (f) definida pelo nmero de oscilaes de
amplitude por perodo, onde o comprimento de onda. Ento:
f

1 c

(3)

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Figura 11 - Forma do vetor luz em funo da posio, ao longo do eixo de propagao Z.


A cor reconhecida pelos olhos humanos determinada pela frequncia dos componentes do
vetor luz. As cores do espectro visvel vo do vermelho com entre 630 e 700 nm ao violeta com entre 400 e 450 nm. A luz que apresenta diferentes comprimentos de onda reconhecida pelo olho humano como uma luz branca. A Tabela 1 apresenta os comprimentos
de onda do espectro visvel. Destaca-se que a luz branca contm todos os com igual energia
e a luz monocromtica possui apenas um comprimento de onda.
Tabela 1 Comprimentos de onda dos espectros visveis (1A = 10-10 m).
Comprimento de onda
(nm)

Cor

400 450

Violeta

450 480

Azul

480 510

Azul-verde

510 550

Verde

550 570

Amarelo-verde

570 590

Amarelo

590 630

Laranja

630 700

Vermelho

3 INSTRUMENTOS PTICOS
3.1 Polarizador plano ou linear
So elementos pticos que absorvem os componentes do vetor de luz que no vibram na direo do eixo do polarizador. Os tipos mais utilizados so aqueles que utilizam folhas de polaride do tipo H que so cristais dicricos (duas cores) encapsulados por um filme plstico
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(Polivinil alcolico). Quando a luz atravessa um polarizador plano, ele a divide em duas
componentes de onda de luz vibrando em planos mutuamente ortogonais, como mostrado no
esquema da Figura 12.

Direo de polarizao
E

Luz incidente

Et

Luz emergente

Figura 12 Luz incidindo em um polarizador plano.


A componente paralela ao eixo de polarizao transmitida (Et) enquanto que a componente
perpendicular ao eixo absorvida (Ea) no caso de elementos do tipo polaride ou totalmente
refletida no caso de cristais de calcita (Prisma de Nicol). Nestes casos, tem-se:


E Et Ea
Et a cos t cos

(4)

3.2 Retardadores de onda


So elementos pticos que tem a caracterstica de decompor o vetor de luz em duas direes
ortogonais transmitindo-o com diferentes velocidades. Tais materiais possuem dupla refrao
sendo chamados materiais birrefringentes. Os tipos mais utilizados so aqueles que utilizam
folhas de polivinil alcolico laminados com substrato de celulose-acetato-butirato (Fabricados com 140, 200, 280 e 520 nm). Outros materiais podem ser utilizados, como por exemplo,
polmeros, celofane, vidro e cristais de quartzo. Estes elementos possuem dois eixos principais denominados eixo lento (eixo 1) e eixo rpido (eixo 2). Quando essa placa colocada em
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um campo de luz polarizada plana com o vetor de luz transmitido (Et) fazendo um ngulo
com o eixo rpido, este vetor decomposto em duas componentes transmitidas, Et1 e Et2, respectivamente. A Figura 13 mostra um esquema de um retardador de onda.

Luz incidente
Eixo 2
(lento)

h
E1
Atraso relativo ()

E1

E2

Eixo 1
(rpido)

E2

Figura13 - Esquema de um retardador de onda.


Por causa da diferena de velocidades ao longo destes dois eixos, as duas componentes
transmitidas emergiro da placa em tempos diferentes, ou seja, uma estar retardada com
relao a outra. Esta diferena de fase linear dada por:

2 1 h(n2 n1)

(5)

Onde:

1 h(n1 n)
(6)

2 h( n 2 n)
Nas Equaes (5) e (6), h a espessura da placa, n o ndice de refrao do ar e n1 e n2 so
os ndices de refrao nas direes dos eixos rpido e lento, respectivamente.
A diferena de fase angular pode ser obtida a partir da diferena de fase linear (), uma vez
que esta equivalente ao vetor de luz girando ao longo do eixo de propagao com uma frequncia angular , ou seja:
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h(n2 n1)

(7)

Quando a placa projetada para dar uma retardao angular de /2, ela chamada de placa
de de onda (quarter-wave plate). Isto conseguido, geralmente, apenas variando a espessura h da placa retardadora. Como pode ser visto na Figura 13, na sada da placa, as componentes do vetor de luz transmitidos ao longo dos eixos rpido e lento so:

Et1 k cos t cos


(8)

Et 2 k cos(t ) sen
Onde, k a cos
O mdulo do vetor de luz resultante ( Etr ) ser:

Etr Et21 Et22 k cos 2 cos 2 t sen 2 cos 2 (t )

(9)

O ngulo que este vetor de luz resultante faz com o eixo rpido dado por:

tan

Et1 cos(t )

tan
Et 2
cos t

(10)

Portanto, tanto a amplitude como a rotao da luz emergente podem ser controladas pela placa retardadora. Os tipos de polarizao que se pode obter nestes casos so, plana, circular ou
elptica. Os fatores que controlam estes tipos de polarizao so a diferena de fase relativa
e o ngulo de orientao . A seguir so apresentados estes trs casos possveis.
Caso 1: Luz polarizada plana
Para = 0 e qualquer no h efeito do retardador. Neste caso:

Etr k cos t = 0

(11)

Desde que o vetor de luz no gira ( = 0) ele passa atravs da placa retardadora e emerge como luz polarizada plana. Neste caso, o retardador apenas produz uma retardao na onda que
depende de sua espessura e do ndice de refrao associado com o eixo rpido. Resultado
similar obtido para = /2.
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Caso 2: Luz polarizada circular


Para = /4 (45 ) e = /2 (quarter-wave plate) tem-se que:
Etr k

2
e = t
2

(12)

A ponta do vetor de luz gira com uma velocidade angular constante no sentido anti-horrio e
uma magnitude constante formando um crculo emergindo com uma luz denominada luz polarizada circular.
Caso 3: Luz polarizada elptica
Para n/4 e = /2 (quarter-wave plate) tem-se que:
Etr k cos 2 cos 2 t sen 2 cos 2 t

(13)

tan tant tan

(14)

A ponta do vetor tem uma magnitude que varia com a posio angular formando uma elipse,
cuja forma e orientao so controlados pelo ngulo .
4 POLARISCPIO E SUAS CARACTERSTICAS
O equipamento utilizado na anlise fotoelstica plana e tridimensional o polariscpio de
transmisso, que pode ser um polariscpio de luz plana ou luz circular. A Figura 14 mostra
um modelo de polariscpio de transmisso pertencente ao Laboratrio de Projetos Mecnicos
da FEMEC/UFU. Na fotoelasticidade de reflexo o instrumento utilizado na medidas dos
parmetros fotoelsticos o polariscpio de reflexo.
O polariscpio serve para levar as ondas dentro de um plano comum causando uma interferncia ptica entre elas, sendo um instrumento que mede a diferena de fase que ocorre quando a luz polarizada passa atravs de um modelo fotoelstico tensionado. O modelo mais simples o polariscpio plano de campo escuro (trabalha com luz plana e o polarizador e o analisador possuem eixos cruzados). Utilizando duas placas de um quarto de onda possvel
obter o chamado polariscpio circular.

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Figura 14 Polariscpio de transmisso vertical do Laboratrio de Projetos Mecnicos da


Faculdade de Engenharia Mecnica da UFU.
4.1 Polariscpio plano
O polariscpio plano constitudo de uma fonte de luz, duas placas polarizadoras de luz sendo uma denominada polarizadora (P) e a outra, analisadora (A). A esta ltima, acoplado um
transferidor para a medida dos parmetros fotoelsticos. Um esquema do polariscpio plano
mostrado na Figura 15.

Figura 15 - Esquema de um polariscpio plano com modelo fotoelstico.


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4.2 Polariscpio circular


O polariscpio circular constitudo de uma fonte de luz, uma placa polarizadora e uma analisadora, e mais duas placas retardadoras de um quarto de onda, que fazem um ngulo de 45
com os eixos de polarizao das placas polarizadoras. As placas retardadoras de um quarto de
onda so usadas para gerar a partir da luz polarizada plana, luz polarizada circular possuindo
seo transversal uniforme composta de um cristal de determinada espessura. Esta espessura
determinante para produzir uma diferena de fase de um quarto de comprimento de onda
(/2) entre as ondas emergentes. A Figura 16 mostra um esquema do polariscpio circular.

Figura16 - Esquema de um polariscpio circular com modelo fotoelstico.


O esquema do polariscpio mostrado na Figura 16 consiste em uma fonte de luz, uma primeira placa polarizada de luz (P), duas placas retardadoras de l/4 de onda com dois eixos de polarizao (Ql e Q2), e uma segunda placa polarizadora de luz, chamada de placa analisadora
(A). Estas placas so arranjadas convenientemente em um sistema com aumento ou no de
imagem, escalas calibradas e com movimentos sincronizados das placas.
Os eixos rpido e lento dos retardadores podem ser cruzados ou paralelos, porm devem estar
a 45 com o polarizador para converter a luz polarizada plana para polarizada circular e voltar
para plana antes de entrar no analisador. Quando a luz passar pelo modelo tensionado a luz
polarizada circular converte-se em polarizada elptica.
Uma vez que no polariscpio circular existem duas placas polarizadoras e duas placas retardadoras de onda existem quatro possibilidades de arranjo destes elementos colocando-os com
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eixos cruzados ou paralelos. De acordo com um arranjo especfico pode-se obter luz polarizada em um campo escuro ou campo claro. De acordo com cada arranjo especfico pode-se
modificar os parmetros pticos nos modelos. A Tabela 2 mostra o resultado para as quatro
possibilidades de arranjo dos filtros.
Tabela 2 Arranjos dos elementos em um polariscpio circular.
Arranjo

Polarizadores

Retardadores

Campo Observado

cruzados

cruzados

escuro

cruzados

paralelos

claro

paralelos

cruzados

claro

paralelos

paralelos

escuro

5 FOTOELASTICIDADE DE TRANSMISSO BIDIMENSIONAL


5.1 ndice de refrao
A relao entre a velocidade de propagao da luz no vcuo e a velocidade de propagao da
luz em um material qualquer denominada ndice de refrao absoluto do material (Cluz/V).
A relao entre as velocidades de propagao da luz entre dois diferentes materiais (V1 /V2)
chamada ndice de refrao relativo do meio (2) em relao ao meio (1). Em um corpo homogneo e isotrpico este ndice constante e independente da direo de propagao ou
plano de vibrao.
Certos materiais, principalmente plsticos, comportam-se homogeneamente quando isentos
de tenses, mas tornam-se heterogneos quando so submetidos a uma tenso. A mudana no
ndice de refrao funo da tenso aplicada.
Quando um feixe de luz polarizada se propaga atravs de um modelo plstico transparente de
espessura b, com um determinado nvel de tenso, onde x e y so as direes das tenses
principais no ponto sob considerao, o vetor de luz se divide em dois feixes polarizados,
propagando-se nos planos x e y com velocidades diferentes, que dependem das tenses principais no ponto.
Se as deformaes especficas ao longo de x e y forem x e y , e as velocidades da luz segundo estas direes forem Vx e Vy , respectivamente, o tempo necessrio para cada uma das
componentes cruzar o material do modelo ser b/V e o atraso relativo ou fase () entre os
dois feixes de luz ser:

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b
C
b
C
Cluz
b luz luz b n x n y
Vy
Vx Vy
Vx

(15)

onde, nx e ny so os ndices de refrao absolutos em relao aos eixos x e y respectivamente.


5.2 Luz polarizada
A luz uma onda eletromagntica que vibra em todas as direes, sendo que esta vibrao
perpendicular direo de propagao e determinada atravs de sua frequncia. Uma fonte
de luz emite ondas contendo vibraes transversais direo de propagao. A luz branca, a
mais comum, caracterizada por apresentar diferentes comprimentos de onda. A polarizao
da luz nada mais do que a vibrao desta em um nico plano, ou seja, somente uma componente dessas vibraes ser transmitida. Isto feito com a introduo de um filtro polarizador
no caminho das ondas de luz, sendo que a componente da luz vibrar na direo paralela ao
eixo de polarizao do filtro. A luz pode ser completamente extinta, colocando-se outro filtro
polarizador na trajetria com o eixo de polarizao perpendicular ao anterior.
Com a introduo de um filtro Polarizador (p) no caminho das ondas de luz, somente uma
componente dessas vibraes ser transmitida, aquela paralela ao eixo de polarizao do filtro. Este feixe orientado chamado LUZ POLARIZADA.
5.3 Lei de Brewster-Maxwell (Dupla Refrao Temporria)
Muitos materiais transparentes no cristalinos so oticamente isotrpicos quando totalmente
livres de tenses, mas apresentam-se oticamente anisotrpicos quando solicitados. Este fenmeno denominado dupla refrao temporria. Este efeito foi observado por David Brewster em 1816. Maxwell desenvolveu os conceitos relativos a variao dos nveis das tenses
principais em funo dos ndices de refrao para um regime elstico linear, ou seja,

n1 n0 c1 1 c 2( 2 3)

n2 n0 c1 2 c 2( 1 3)
n3 n0 c1 3 c 2( 1 2)

(16)

Onde:
i : Tenses principais no ponto;
ni : ndices de refrao do material no ponto;
n0 : ndice de refrao do material descarregado;
ci : constantes pticas.
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Da Equao (16), pode-se escrever que:

n1 n2 (c1 c 2)( 1 2)

c( 1 2)

(17)

A Equao (7) mostrou que a diferena de fase angular pode ser escrita em funo da diferena de fase linear e do comprimento de onda da seguinte forma:

(18)

Portanto, utilizando as Equaes (18) e (17) pode-se escrever que:


1
1 2
2 c h

(19)

Definindo, a ordem de franja (N) e a constante ptica em termos de tenso (f) como,

N
2

(20)

(21)

Tem-se finalmente que,

1 2

N f
h

(22)

A principal caracterstica dos materiais fotoelsticos que estes materiais respondem s tenses/deformaes atravs de uma mudana nos ndices de refrao nas direes das tenses
principais. A diferena entre os ndices de refrao nos dois planos principais proporcional
diferena das tenses principais, como mostrado na Equao (19). Para facilitar a utilizao
da tcnica, esta equao foi reescrita sob a forma da Equao (22). Nesta, 1 e 2 so as tenses principais no ponto, f a constante ptica relativa s tenses que depende do material e
do comprimento de onda da luz utilizada, N a ordem de franja no ponto e h a espessura do
modelo. Com este mtodo consegue-se determinar a diferena das tenses principais nos pontos, e a direo destas tenses.
A tenso cisalhante mxima depende apenas da diferena das tenses principais, ou seja:
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max

1 2

(23)

Portanto, das Equaes (22) e (23) tem-se que:

max

1 2
2

Nf
2h

(24)

Portanto, a tenso cisalhante mxima pode ser determinada em toda a extenso do modelo
conhecendo-se as respectivas ordens de franja no ponto de interesse. Se o problema exigir
que se conheam as tenses normais mximas, necessrio que se aplique algum mtodo
para a separao de tenses.
De forma anloga, a relao observada na Equao 17 pode ser expandida em termos da diferena entre as deformaes principais, ou seja:
n1 n2 C (1 2)

(25)

Considerando as direes das deformaes principais, pode-se obter a relao bsica para
medida de deformaes usando tcnicas fotoelsticas:

1 2

N
f
h

(26)

Na Equao (26) f a constante ptica em termos de deformao, sendo dada por:


f

1
f
E

(27)

Onde:
E : mdulo de elasticidade do material;
: razo de Poisson do material.
As expresses das Equaes (22) e (26) so as relaes bsicas para medida de tenses usando fotoelasticidade. Devido ao atraso relativo (), as duas ondas no so mais simultneas
quando emergem do modelo. Se o modelo em questo estiver entre dois polarizadores o analisador transmitir somente uma componente de cada uma dessas ondas. Estas componentes
interferiro entre si e a intensidade de luz resultante que emergir, ser funo da fase e do
ngulo entre o eixo de polarizao do analisador e a direo das tenses principais.
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Para avaliar como se d esta interferncia as sees 5.4 e 5.5 apresentam as intensidades luminosas resultantes em modelos fotoelsticos carregados em um polariscpio plano e em um
polariscpio circular.
5.4 Parmetros fotoelsticos
Conforme definido anteriormente, a interferncia causada pela diferena de fase entre os feixes de luz propagando nas duas direes principais e o ngulo entre as direes principais e
os eixos de polarizao do polariscpio do origem a dois parmetros fotoelsticos que podem ser medidos, sendo conhecidos como isoclnicas e isocromticas.
A tcnica fotoelstica pode utilizar luz monocromtica ou luz branca. Utilizando luz monocromtica os efeitos pticos observados, ou seja, as franjas so pretas ou claras. Neste caso,
um modelo observado em um polariscpio plano possui as isoclnicas superpostas as isocromticas tornando difcil a anlise do modelo.
O uso da luz branca resolve este problema porque as franjas observadas so coloridas. No
caso particular, a franja de ordem zero de cor preta, facilitando portanto a observao e determinao do gradiente de tenses no modelo. A Figura 17 mostra as cores relativas as ordens de franja inteiras.
COR

PADRO DE CORES

ORDEM DE FRANJA

Vermelho/verde

Vermelho/azul/verde

Violeta

Preta

Figura 17 Padro de cores versus ordens de franjas observadas nos modelos fotoelsticos.
5.4.1 Medida dos parmetros fotoelsticos
A pergunta agora : Como determinar as isoclnicas (direo das tenses principais) e as
isocromticas (ordens de franja N) nos pontos de interesse?

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a) Determinao das isoclnicas


Conforme descrito nas sees anteriores, as isoclnicas podem ser definidas como sendo o
lugar geomtrico dos pontos do modelo que possuem a mesma direo das tenses principais,
e estas coincidem com as direes de polarizao do polariscpio. So curvas pretas (onde
ocorre a completa extino da luz) que aparecem no analisador de um polariscpio plano e
seu valor pode ser determinado, girando-se o conjunto polarizador/analisador em relao ao
modelo.
A Figura 18 apresenta o modelo de um disco sob compresso analisado em um polariscpio
plano utilizando luz branca. Neste caso mostrada a isoclnica a 0, ou seja, a direo das
tenses principais nos pontos mdios das curvas pretas (cruz) faz um ngulo de 0 com relao a direo de polarizao.

(a)

(b)

Figura 18 Disco sob compresso ao longo do dimetro vertical observado em um polariscpio plano: (a) em um polariscpio com campo escuro, (b) em um polariscpio com campo
claro. Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos/FEMEC/UFU.
As isoclnicas podem ser determinadas de duas maneiras:
Obteno das isoclnicas no campo completo do modelo. A famlia de curvas correspondentes sequncia de parmetros de 0o a 90o registrada em incrementos de
5o, mapeando-se assim o modelo com suas curvas isoclnicas.
Obteno da isoclnica individualmente nos pontos de interesse.
A Figura 19 mostra uma sequncia de isoclnicas observadas em um disco sob compresso
utilizando luz monocromtica.

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Figura 19 - Isoclnicas a 0, +20 e 20 em um modelo de disco sob compresso vertical.


Devem ser observadas as seguintes regras gerais sobre as isoclnicas:
Um isoclnica deve sempre coincidir com um eixo de simetria do modelo, caso ele
exista.
Todas as isoclnicas passam atravs de pontos de carga concentrada.
A tenso tangencial no contorno uma tenso principal e o parmetro da isoclnica
coincide com a inclinao do contorno no ponto de interseco. Ou seja, o parmetro da isoclnica determinado por esta inclinao.
Em eixos de simetria no existem tenses de cisalhamento; logo, so direes principais.
Os parmetros das isoclnicas podem ser utilizados para determinar as tenses de
cisalhamento em um plano arbitrrio definido por um sistema de coordenadas XY.
Ou seja:

xy
xy

1 2
2

1 2
2

sin2 2

sin2 1

N f
sin2 2
2h

N f
sin2 1
2h

(28)

(29)

Onde: 1 : ngulo entre o eixo X e a direo de 1;


2 : ngulo entre o eixo X e a direo de 2.
Todas as Isoclnicas devem passar por pontos isotrpicos ou singulares:
- Pontos isotrpicos: 1=2 (Estado hidrosttico de tenses) N = 0;
- Pontos singulares: 1=2=0.

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Algumas caractersticas gerais podem ser observadas com relao ao padro das isoclnicas.
A Figura 20 apresenta uma sequencia geral de vrios parmetros das isoclnicas para o modelo de um anel e a Figura 21 mostra um esquema geral destes parmetros. De uma forma geral,
podem ser destacadas as seguintes regras gerais:
A borda de uma placa um ponto singular negativo.
No contorno livre, pontos isotrpicos singulares indicam mudana de sinal nas tenses do contorno.
Pontos isotrpicos em sequencia (mais de um ponto singular) sero positivos e negativos.
Linhas isoclnicas no se interceptam umas com as outras exceto em pontos isotrpicos.
Pontos de carga concentrada no so pontos isotrpicos.
Pontos singulares de uma borda e canto livre de cargas sero negativos.
Se uma isoclnica passa em 02 pontos singulares na borda livre de uma placa, ele
passa tambm em um ponto isotrpico do interior.
As isoclnicas, linhas ao longo das quais as tenses principais tm uma inclinao
constante, d a direo das tenses principais. Estas podem ser apresentadas na
forma de um diagrama de trajetria de tenses chamado de isostticas, onde as tenses principais so tangentes ou normais s linhas isostticas em cada ponto.

Figura 20 Padro das isoclnicas para um anel circular sujeito a uma carga de compresso.
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Figura 21 Esquema da configurao das isoclnicas para o modelo do anel sob carga de
compresso.
compresso.
As isostticas so construdas da seguinte forma:
Inicia-se da isoclnica a 0, considerando-se pontos arbitrariamente espaados.
Definem-se linhas numeradas (1) conforme mostra a Figura 22, sendo orientadas a
0 com relao a normal.
As linhas (1) so divididas ao meio e o novo conjunto de linhas (2) desenhado inclinado de 10 com relao a vertical.
O processo segue e as linhas (3) so desenhadas a 20 com relao a vertical e assim sucessivamente.
Com o auxlio destas linhas so desenhadas as Isostticas.
As trajetrias das tenses so desenhadas tangentes s linhas construdas nos pontos de interseo com as isoclnicas.

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Figura 22 Procedimento para a determinao das linhas isostticas.


b) Determinao das isocromticas
As isocromticas podem ser definidas como sendo o lugar geomtrico dos pontos que apresentam o mesmo valor para a diferena entre as tenses principais. Este parmetro mais
facilmente identificado no polariscpio circular, que tem a propriedade de eliminar o parmetro da isoclnicas. Se a fonte de luz utilizada for monocromtica (somente um comprimento
de onda), as isocromticas se apresentam como faixas escuras (sem luz). Quando a fonte de
luz branca, as isocromticas so formadas por faixas luminosas de diferentes coloraes
dependendo da ordem de franja, N.
A Figura 23 mostra um disco sob compresso analisado em um polariscpio circular sob luz
branca. Observa-se que no existem as isoclnicas sobre o modelo. A Figura 24 mostra modelos de dentes de engrenagens observados em um polariscpio circular sob luz monocromtica
e luz branca.

Figura 23 Modelo de um disco sob compresso vertical analisado em um polariscpio


circular sob luz branca.
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(a)

(b)

Figura 24 Modelos de dentes de engrenagens observados em um polariscpio circular sob


luz monocromtica (a) e luz branca (b).
A tcnica pode ser aplicada a vrios tipos de modelos como o mostrado na Figura 25, sendo
que as ordens de franja em um ponto do modelo podem ser determinadas de duas formas:
Fotografando ou traando em papel as ordens de franjas inteiras que correspondem
a fases mltiplas do comprimento de onda de luz utilizada. No caso de luz branca o
espectro observado no analisador, apresenta coloraes tpicas para as ordens de
franja, conforme mostrado na Figura 17. Geralmente, para se determinar a ordem
de franja de pontos fora das franjas de ordem inteira faz-se uma interpolao ou extrapolao das isocromticas. Este procedimento s aconselhvel quando no se
necessita de medidas exatas ou o nmero de franjas muito grande.
Para se conseguir medidas mais precisas, ou seja, ordens de franja fracionrias, pode-se utilizar mtodos de compensao. Dentre os mtodos de compensao usuais, o mais utilizado o mtodo de compensao de Tardy, por ter aplicao
simples e no exigir o uso de equipamentos complementares.

Figura 25 Modelo fotoelstico de uma chave analisada em um polariscpio circular


sob luz branca.
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Devem ser observadas as seguintes regras gerais sobre as isocromticas:


A diferena das tenses principais (1 - 2) determinada pela Lei ptica das tenses em qualquer modelo fotoelstico.
Se 1 > 0 e 2 < 0 ento max=(1 - 2)/2 , ou seja, possvel obter a tenso cisalhante mxima.
Se 1 > 0 > 2 < 3 = 0 ou 1 > 2 > 3 = 0, a tenso cisalhante mxima no est
no plano do modelo. Portanto, possvel calcular apenas p. Para calcular max
preciso calcular as tenses principais individuais.
No contorno, se no houver carregamento, 1 = 0 ou 2 = 0, ou seja, a normal ao
contorno nula. Logo, possvel obter 1 ou 2.
Se o contorno no livre de carga, tem-se que a tenso tangencial ao contorno ser:

1 p

f N
h

(30)

Se o contorno no livre e a carga no conhecida deve-se aplicar tcnicas de separao de tenses.


5.5 Mtodo de compensao de Tardy
A seguir mostrada a sequencia para a determinao de ordens de franja fracionrias em um
ponto qualquer do modelo usando o mtodo de compensao de Tardy. A Figura 26 apresenta um desenho esquemtico do mtodo.

Np

0

Figura 26 Esquema para a determinao da ordem de franja fracionria segundo o mtodo


de compensao de Tardy.
Para aplicao adequada do mtodo, fundamental que o usurio saiba distinguir corretamente as ordens de franjas inteiras no modelo. O procedimento deve seguir os seguintes passos:

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[ 1 ] Ajusta-se o polariscpio para polarizao plana. A seguir, gira-se o conjunto polarizador/analisador at que uma isoclnica passe sobre o ponto em questo. Fixa-se o conjunto nesta posio. Os eixos de polarizao ficam assim alinhados
com a direo das tenses principais.
[ 2 ] Colocam-se as duas placas retardadoras de de onda fazendo um ngulo de
45o, com os eixos de polarizao, passando o ajuste do polariscpio de plano para circular. Com isto, desaparecem as isoclnicas, ficando somente as isocromticas.
[ 3 ] Observa-se o espectro, assinalando as ordens de franja de valores inteiros adjacentes ao ponto de interesse. Identificam-se assim as ordens de franjas prximas
ao ponto de interesse (por exemplo: na Figura 26 tem-se as ordens N1 = 2 e N2 =
3 no ponto de interesse.
[ 4 ] Gira-se o analisador, observando cuidadosamente o movimento das franjas, at
que uma das franjas de ordem inteira passe pelo ponto (no exemplo, a 2 ou a 3).
No transferidor do polariscpio l-se o ngulo de rotao (). Neste caso, se girar no sentido horrio a franja 2 caminhar para o ponto, consequentemente, girando no sentido anti-horrio quem vai caminhar para o ponto ser a franja de
ordem 3.
[ 5 ] Se a franja que se moveu em direo ao ponto for a de ordem menor (n1) tem-se
que a ordem de franja fracionria no ponto dada pela Equao 31 e se a franja
que se moveu for a de ordem mais alta (n2), o mesmo obtido pela Equao 32.
N p n1
N p n1

180

180

(medido em graus)

(31)

(medido em graus)

(32)

Deve-se ficar atento, pois ordens de franjas de trao e compresso so exatamente iguais.
Alm disso, nas superfcies livres, as direes das tenses principais so, respectivamente,
tangentes e perpendiculares superfcie. A tenso principal perpendicular superfcie nula,
se no existir carregamento. Portanto, em uma superfcie livre, se a franja de ordem superior
se mover em direo ao ponto, tem-se uma tenso de compresso neste ponto (negativa), e se
a franja de ordem menor se mover em direo ao ponto, tem-se uma tenso de trao (positiva).
5.6 Materiais fotoelsticos
Para a utilizao da tcnica fotoelstica, materiais especiais devem ser usados, portadores de
caractersticas indispensveis como:
material transparente;
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boa resposta ptica;


caractersticas lineares;
homogneo e isotrpico;
no deve exibir fluncia;
mdulo de elasticidade grande;
constante ptica (f) no deve alterar com a temperatura;

no deve exibir efeito de borda (Time edge effect);


fcil de ser usinado;
livre de tenses residuais;
baixo custo.

Com relao aos materiais fotoelsticos pode-se destacar ainda:


Para a fotoelasticidade tridimensional, alm das caractersticas acima, o material
deve apresentar caractersticas que possibilitem o congelamento das tenses, isto ,
este deve ter a propriedade de fixar a anisotropia ptica mediante tratamento trmico adequado.
Para a fotoelasticidade de reflexo, o material deve apresentar uma fase de cura intermediria, onde possvel moldar a camada fotoelstica no formato da pea
qual esta vai ser colada. Aps a moldagem, o material deve endurecer sem apresentar nenhuma anisotropia ptica.
Exemplos de materiais utilizados:
Fotoelasticidade Plana: Cr-39 - Columbia Resin (Carbonato)
H-100 - Homalite 100 (resina de polister)
Policarbonato
Resinas Epxi (Araldite)
Resinas Epxi com Aminas (Polipox)
5.7 Mtodos de calibrao
Conforme mostrado na Equao (22), a determinao da diferena das tenses principais
atravs da Lei ptica das tenses feita determinando-se a ordem de franja no ponto de interesse, devendo-se conhecer a espessura do modelo utilizado e uma propriedade ptica do material denominada de constante ptica. O valor desta constante ptica obtido atravs de processos de calibrao e deve ser efetuada sempre que se for utilizado um novo material fotoelstico ou outra amostra de um mesmo material.

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Para se fazer a calibrao do material, deve-se selecionar um modelo no qual a distribuio


de tenso conhecida. O modelo deve tambm ser fcil de ser usinado e possuir uma forma
simples para a aplicao da carga. Exemplos de modelos mais comumente utilizados em calibrao so: barras retas tracionadas e discos comprimidos.
No processo de calibrao, o modelo submetido a incrementos de carga e as respectivas
ordens de franja so determinadas. O procedimento repetido um nmero suficiente de vezes
para que se possa efetuar uma regresso e determinar a constante ptica (f).
a) Calibrao utilizando o modelo de barra tracionada
Neste caso, um modelo fotoelstico de uma barra tracionada, conforme mostrado na Figura
27, sujeito a uma carga axial de trao F.

cotas em mm

Figura 27 - Vistas no 3 diedro do corpo de prova utilizado para a obteno da Curva de Calibrao para a determinao da constante ptica (f). Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos.
A tenso da barra em qualquer ponto longe da aplicao da carga dada por:

F
A

(33)

A lei ptica das tenses foi definida na Equao (22). Como, neste modelo, a tenso 2
nula, tem-se que:

f
F
N
h
A

(34)

Logo, tem-se que:

A f
N
h

(35)
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Portanto, o coeficiente angular da reta formada pela fora versus a ordem de franja fornece a
constante ptica, uma vez que os parmetros geomtricos so constantes.
b) Calibrao utilizando o modelo de disco comprimido
Neste caso, um modelo fotoelstico de um disco, conforme mostrado na Figura 28 sujeito a
uma carga vertical de compresso F.

Figura 28 - Dimenses de modelo de um disco sob compresso para a obteno da Curva de


Calibrao para a determinao da constante ptica (f). Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos.
A Tenso no centro do disco dada por:

6P
2P
e 2
hD
hD

(36)

Utilizando a lei ptica das tenses e a Equao (36) pode-se obter a equao da reta de calibrao utilizando o modelo do disco sob compresso, ou seja:

Df
8

(37)

De forma anloga ao caso anterior, o coeficiente angular da reta formada pela fora versus a
ordem de franja fornece a constante ptica, uma vez que os parmetros geomtricos tambm
so constantes para o modelo do disco.

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5.7.1 Exemplo de um processo de calibrao


Por exemplificar o procedimento anteriormente comentado ser mostrado como feita uma
calibrao utilizando uma barra de material fotoelstico de seo retangular. Esta barra
normalmente utilizada em ensaios no Laboratrio de Projetos Mecnicos da FEMEC/UFU. A
Figura 29 mostra o aparato experimental utilizado para fazer a calibrao. Os seguintes materiais so necessrios:

barras feita de material fotoelstico;


dispositivo de aplicao de carga;
clula de carga;
polariscpio;
paqumetro;
polariscpio de transmisso vertical.

Figura 29 Aparato experimental utilizado para obter a constante fotoelstica de um material utilizando uma barra de seo transversal retangular. Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos.
Inicialmente, foram determinadas as dimenses da barra utilizando o paqumetro. A barra foi
fixada ao sistema de carga atravs dos furos feitos em suas extremidades. Foi aplicada uma
carga gradual na barra de 5 kgf em 5 kgf at prximo de 30 kgf. Para cada valor de carga
aplicado foi determinada a ordem de franja (N) correspondente na imagem observada no polariscpio circular de transmisso. Para a determinao destas franjas foi usado o mtodo de
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compensao de Tardy. Com os dados obtidos construiu-se uma tabela a fim de se obter a
curva de calibrao. A constante ptica do material foi obtida desta curva utilizando regresso linear (DALLY e RILLEY, 1978). A Tabela 3 mostra os resultados dos incrementos de
carga versus as ordens de franja medidas. As dimenses do corpo de prova so:
Largura (b) de 40.10 mm;
Espessura (h) de 6.45 mm;
Comprimento L de 200 mm.
Tabela 3 - Valores das ordens de franja medidas para diferentes incrementos de carga.
Calibrao
Carga (kgf)

Ordem de Franja

0
5.97
9.67
15.62
19.79
26.5
29.72

0
0.17
0.285
0.525
0.705
0.91
1.02

A constante ptica f pode ser calculada a partir da regresso linear que define a reta de calibrao, que dada por:

F * N
i

N *F
i

2
i

29,399

A * Ni
n

0,5895

Tem-se:
F N * b * f
y A* x B

A f * b
B0
xN
yF
f

A 29,399

7,33Kgf / cm
b
4.01
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Este resultado tambm pode ser obtido via regresso linear no programa Excel, ou em qualquer outro software de manipulao de dados ou, ainda, manualmente, utilizando papel milimetrado. A Figura 30 mostra a reta de calibrao obtida no programa Excel.
Curva de Calibrao
35
y = 28.218x + 0.7518
R2 = 0.9968
30

Fo ra(Kgf)

25

20

15
Calibrao
Linear (Calibrao)

10

0
0

0.2

0.4

0.6

0.8

1.2

Ordem de Franja

Figura 30 - Reta de calibrao obtida no Excel.

Do grfico, determina-se a equao de regresso y = 28,218 x + 0,7518. Ento, tem-se que:


F N * b * f
y A* x B

A f * b

B0
xN
yF
A 28,218
f
7,037 Kgf / cm
b
4.01

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UNIVERSIDADE FEDERAL DE UBERLNDIA / FEMEC


LABORATRIO DE PROJETOS MECNICOS - LPM
ANLISE EXPERIMENTAL DE TENSES
MDULO II: FOTOELASTICIDADE DE TRANSMISSO PLANA
Prof. Cleudmar Amaral Arajo

6 REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
ARAJO, C.A. Notas de Aula Curso Anlise Experimental de Tenses. Curso de PsGraduao em Engenharia Mecnica UFU, Uberlndia, 2004.
DALLY, J.W.; RILLEY, W.F. Experimental Stress Analysis. McGraw-Hill, 1978.
DOYLE, F.D. Manual on Experimental Stress Analysis. Society for Experimental Mechanics,
5.ed., 1985.
OLIVEIRA, S.A.G. Introduo Fotoelasticidade Plana. Apostila UFU, Uberlndia, 1995.
SHIGLEY, J.E. Mechanical Engineering Desing. MacGraw-Hill, 1997.
THEOCARIS, P.S.; GDOUTOS, E.E. Matrix Theory of Photoelasticity. SpringerVerlag.
New York, 1979.

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