silk lmpadas para gravao

A influncia das
lmpadas na gravao
Uma boa gravao garante a qualidade da impresso
e a durabilidade da matriz. Veja como as lmpadas
influenciam esse processo
Por Mrcio Moraes dos Santos, da Vision-Cure UV & IR Technology

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Silk-Screen - fevereiro 2008

Emulses
As emulses de gravao de matrizes
so substncias sensveis luz, que se
polimerizam na presena de determinada dosagem e intensidade de emisso ultravioleta. Sua funo delimitar as reas da matriz por onde a tinta
passar, para ento ser depositada sobre o substrato.

Polimerizadas, as emulses tero sua

organizao molecular alterada, o que as
endurece para que no sejam removidas
no processo de revelao da tela, que
ocorre aps a exposio.
A qualidade e a definio da impresso variam conforme o tipo de
trama do tecido. Atualmente, a tecnologia das emulses desenvolvidas
consegue, por exemplo, gerar texturas

e efeitos visuais de alta qualidade na

impresso, alm de efeitos de relevo
simples. Tambm j existem emulses
de alta resoluo.
Aspectos como a definio e a ancoragem da emulso devero ser bem definidos na escolha do fotopolmero utilizado na revelao da matriz, sob pena
de perder os detalhes e as linhas mais
finas na impresso.

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Emisses UV e o positivo
Outro aspecto a ser controlado no
processo de gravao a qualidade
da sombra. Quando exposto emisso
UV, o positivo ir criar uma sombra sobre a emulso.
Os raios da emisso UV no podem ser difusos, devendo ser o mais
paralelos possveis e sempre perpendiculares superfcie emulsionada.
Somente assim possvel garantir
boa qualidade e resoluo na gravao que se deseja fazer.
A opacidade do positivo tambm
um fator relevante, pois ela garantir o
bloqueio da emisso UV que polimeriza
a emulso. As reas escuras do positivo

bloquearo a luz e as transparentes permitiro sua passagem.

Sistema tico de projeo

dos raios UV
To importante quanto a lmpada o sistema tico de projeo dos raios UV. Esse
sistema, normalmente, contm:
- Refletor: composto por material
que reflete de forma eficiente os raios
UV. responsvel por 80% da emisso
projetada sobre a emulso. Deve ser
elaborado de modo que os raios mantenham o maior paralelismo possvel.
Eventualmente, alguns equipamentos
utilizam lminas refletivas dicricas,

cujo objetivo dispersar o calor infravermelho gerado pela lmpada em

funcionamento. Apesar de cumprir este
objetivo, tais sistemas acabam dispersando os raios UV, de modo que eles
no atravessam o tecido de forma perpendicular, causando sombras indesejadas e, conseqente, baixa qualidade
na impresso.
Os refletores devem ser limpos periodicamente, para que se evite depsito de poeira ou outros contaminantes.
Uma vez ao ano, devem ser substitudas as lminas refletoras, pois perdem
sua capacidade de refletir a emisso UV.
A inspeo visual no garante a qualidade da reflexo dos raios UV, pois o olho
humano apenas consegue inspecionar
luz visvel. A melhor forma de avaliar a
emisso de um sistema UV com o uso
do radimetro.
- Obturador: tem a funo de controlar o tempo de exposio da emulso radiao ultravioleta emitida
pela lmpada.
Uma emisso insuficiente causa
subcura, e a emulso fica amolecida. A
emisso excessiva de luz causa sobrecura e deixa a emulso extremamente rgida, o que reduz a vida da matriz.

Cuidados com a lmpada

relevante ainda comentar que a
emisso UV provoca queimaduras
na pele e nos olhos. Assim, o sergrafo no deve permitir qualquer
vazamento de luz que possa atingir
algum durante o processo.

Lmpada Halgena

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O tempo adequado de exposio obtido mediante sucessivos testes, pois pode
variar segundo o tipo de emulso e em virtude da espessura da camada.

Fatores para a escolha correta

da lmpada
No se pode falar em um nico fator essencial da lmpada em um sistema de gravao
de matrizes, pois so vrios os aspectos que
influenciam na qualidade final da revelao.
Ainda assim, alguns fatores devem ser considerados no momento de escolher a lmpada:
- Tipo de radiao que a emulso precisa
(UVA, UVC, UVV);
- Tipo de lmpada que apresenta melhor
desempenho para esta emulso;
- Dosagem e intensidade mnimas necessrias para a polimerizao completa da emulso;

- Potncia da lmpada para garantir a

polimerizao completa da emulso;
- Tempo de exposio sugerido pelo fabricante da emulso.
A considerao desses fatores apontar para o tipo de fonte de luz mais adequado, uma vez que a seleo incorreta
do tipo de lmpada, por exemplo, pode
causar m qualidade na gravao da matriz e, conseqentemente, na impresso.
Ou, ainda, baixa durabilidade da emulso
depois de polimerizada.

Distncia da lmpada
em relao matriz
Nos processos de gravao, importante
ficar atento distncia da fonte de luz em
relao matriz.
Cada fabricante de fonte de luz ir
mencionar a distncia mnima a ser respeitada, sob o risco da presena de alta

Lmpada de vapor de mercrio ou de arco voltaico

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temperatura, decorrente do arco eltrico da lmpada, danificar o tecido. Alm

disso, a temperatura excessiva tende a
queimar superficialmente a emulso,
comprometendo a penetrao dos raios
UV e, conseqentemente, sua polimerizao completa.
Como mencionado anteriormente,
o sistema ptico, que determinar
o tipo de projeo dos raios UV. Eles
devem ser sempre paralelos entre si e
perpendiculares em relao emulso.
Sabe-se, contudo, que muitas fontes de
luz no respeitam essa orientao e acabam efetuando projees difusas com
o objetivo de alcanar matrizes serigrficas de diversos tamanhos. A escolha
adequada da distncia s obtida pela
medida de temperatura e radiao, dados que so facilmente apontados em
um radimetro multibanda.
Fala-se atualmente no uso de prensas de contato para gravao de matrizes serigrficas com sistemas a vcuo. A
vantagem de tal recurso a quase total
eliminao do espaamento entre a tela
e o positivo, incrementando-se a resoluo das imagens posteriormente impressas pelo aumento da qualidade dos
traos e retculas.

Gravadora de matriz com obturador

temporizado

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Fontes de luz

As fontes de luz utilizadas nos processos de exposio podem sensibilizar matrizes dos mais diversos tipos: desde as pequenas telas serigrficas por meio de mesas de gravao , at telas para impresses em grandes formatos, em que so
utilizadas salas de exposio.
Nas fontes de luz, diversos tipos de lmpadas podem ser utilizados:

Lmpada fluorescente Lmpada xennio
Lmpada halgena

Lmpada de mercrio
(tambm conhecida
por arco voltaico):

Tipo de bulbo
Bulbo de boro-silicato,

com amlgama de

mercrio sob baixa

presso de argnio

Bulbo de quartzo, com

mercrio, haletos
metlicos e gs
argnio em mdia
presso

Bulbo de quartzo, com

mercrio e gs
argnio em mdia
presso

Bulbo de quartzo, com

mercrio, aditivos
metlicos e gs
xennio em alta
presso

Radiao

Emite picos intensos

Emite picos intensos
e persistentes de
e persistentes acima
radiao UV em torno da faixa UVV (415nm)
da faixa UVA (365nm)
ou UVC (254nm),
dependendo do
modelo

Emite picos intensos

e persistentes acima
da faixa UVV (415nm)
e na faixa UVA (365nm)

Emite picos intensos

e persistentes na faixa
UVA (365nm)

Potncia

Tradicionalmente,
essa lmpada tem
potncia de 40W

As potncias podem
chegar a at 4000W

As potncias podem
chegar a 1000W

Tempo de
exposio

pode variar de
varia de 1 a 3 minutos
3 a 8 minutos

varia de 30 segundos
a 2 minutos

varia de 3 a 5 minutos

As potncias podem
chegar a at 4000W

Tipo de processo
um processo frio,
um processo com
indicada para

indicado para situaes mdia temperatura,
sensibilizao de

em que a alta
indicada para emulses emulses espessas

temperatura
mais finas, utilizadas
um processo com

indesejvel
para se obter alta
altssima temperatura

resoluo

um processo com
alta temperatura.
indicada para
sensibilizao de
emulses em que a
qualidade da
gravao
mdia ou baixa

Obs: Apesar das desvantagens que apresenta em comparao s lmpadas halgenas, por exemplo, as lmpadas de vapor
de mercrio so as mais utilizadas pelos sergrafos devido ao menor custo de aquisio.
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Dicas e informaes importantes
Problemas que fontes de luz inadequadas podem causar na revelao:
- revelao inapropriada da matriz;
- falta de definio e de qualidade;
- no aderncia da emulso malha;
- perdas financeiras e de produo.
Como calculada a distncia entre
a lmpada e a matriz
No existe uma distncia padro. A
intensidade luminosa (potncia) varia com o quadrado da distncia em
relao ao substrato a ser revelado.
Por isso, importantssimo adequar
a distncia da fonte matriz. Tal medida possibilita que a distribuio de
intensidade luminosa seja homogenia, garante uma revelao de qualidade e previne o aquecimento excessivo do vidro.

Exemplo:
- Prensas de gravao de at 1,00 X
1,00 m;
- Tipo de emulso Diazo;
- Tipo de lmpada - Ultravioleta Metal
Halgena;
- Potncia - entre 1000 a 2000 watts;
A distncia entre a lmpada e o vidro
da mesa de gravao, deve ser de 80 cm,
para quadros superiores a 50 X 50 cm de
rea. Para os quadros inferiores, a distncia precisa ser de, no mnimo, 50 cm.
Nota - Para matrizes superiores,
recomendvel o uso de equipamentos
de gravao tipo basculantes, fonte
de luz independente e lmpadas com
potncias entre 4,0 a 7,0 Kwatts. Nesses
casos, a distncia deve ser determinada
com base em exposio x tempo, ou

utilizando fotolito de teste de cura, facilmente encontradas no mercado.

Para escolher a fonte de luz, devem
ser avaliados:
- tipo de emulso a ser utilizada;
- finalidade da matriz;
- tamanho do quadro;
- durabilidade e caractersticas camada desejada.
Para trabalhos de alta definio,
sugerida a utilizao de emulses
base de bicromato, atravs de equipamentos com lmpadas fotoflood e
halgenas.
Para trabalhos que exigem alta definio e revelo, sugerida a utilizao
de emulses a base de diazo, atravs
de equipamentos com lmpadas ultravioleta metal halgenas.
Fonte: Econolite