VIDROS REFLETIVOS

Introdução
As camadas aplicadas na superfície do vidro cobrem uma grande variedade de aplicações ,
propósitos e escala de manufaturas. Os extremos podem ser representados por camadas
simples ou duplas , em chapas de vidro com até 20 m2 de área para uso na arquitetura , ou
sistemas com 100 camadas em poucos cm2 para componentes óticos complexos em
aplicações eletro ópticas . O maior efeito aparente de uma camada é alterar a transmissão e
a reflexão da luz em todo o seu espectro , bem como alterar as características da superfície
do vidro, tais como , a condutividade elétrica e a resistência a abrasão.
Nesse trabalho, alguns dos importantes vidros com camadas existentes e outros em fase de
desenvolvimento serão apresentados.

Aplicação de filmes refletivos e anti refletivos

Quando um feixe de luz atravessa o ar, índice de refração n 0 e valor igual a 1, e passa
através de uma chapa de vidro , índice de refração n 2 , parte do feixe incidente é refletido
pela superfície 1 e uma segunda parte é refletido pela superfície 2 .
A fração refletida pela superfície é dada pela equação:

R =(( n0 – n2 ) / ( n0 + n2 ) )2

Para o vidro sodo cálcico que tem um índice de refração n2 de 1,52 em ar , o

qual tem índice de refração n0 de 1,00, a equação nos dá uma reflexão de
4,1% por superfície , ou seja reduz a transmissão total em 8,2%.

1
Pela deposição de filmes com baixo índice de reflexão , n1, na superfície , a
reflexão pode ser reduzida e com isso aumentar a transmissão .

2
 100%

n0 1,2%

n1
n2 1,2%

n1
n0

97,6%

Com a aplicação de anti refletivos será o fim dessa imagem

3
Para se obter uma eficiência máxima , n1 deve ser igual a media geométrica
entre n0 e n2, sendo para o vidro sodo calcico n = 1,23. Na prática um produto
como o fluoreto de magnésio, MgF2, com 1,38 é largamente usado. Caso em
complemento , cada camada seja feita com uma espessura “t” que produza
uma camada com o quartzo de comprimento de onda (n1* t = ¼ , onde o
comprimento de onda médio da luz visível é aproximadamente 550 nm ) o
máximo beneficio é alcançado devido aos fenômenos de interferência entre as
ondas resultantes, que possuem metade da freqüência da onda incidente. Neste
caso , a redução na reflexão para somente 1,2% por superfície a 550 nm pode
ser obtido. Este é o mais simples filme de uma camada contra a reflexão sendo
a base da maioria dos sistemas práticos encontrados

Deposição de camadas

Pelo uso da combinação de diferentes materiais e aplicações de um grande

numero de camadas é possível produzir camadas refletivas com altíssima
performace para aplicações especiais. As deposições de camadas são usadas
na área de arquitetura para promover eficientes controles da energia térmica
solar e da luz que entra em um ambiente através das janelas.
Um modo simples de conseguir esta atenuação é através do uso de vidros
coloridos ou pintados. Isto tem sido usado por varias décadas (Bamford, 1977)
mas as performaces são limitadas desde que o mecanismo é a absorção e não a
reflexão da luz. Os 4,1% de reflexão da superfície do vidro ( n2 = 1,52 ) são
duramente afetados alterando-se a absorção do vidro. Em complemento , um
mecanismo que trabalhe por absorção em um material semitransparente é
parcialmente efetivo no controle da qualidade de radiação emitida pelo vidro.
o interior.

4
 No espectro solar , aproximadamente 50% da radiação solar está
compreendida na faixa do espectro visível (VIS), enquanto os outros 50%
estão na região do infravermelho ( IR ) e do ultravioleta ( UV ) . é comum nas
indústrias de fachadas definir a performance de uma janela em termos de
“transmissão de luz branca” ( WLT – white light transmission ) e da
“transmissão de aquecimento solar total” (TSHT – total solar heat
transmission) pelo uso da relação WLT / TSHT. A melhor performance

5
possível que pode ser conseguida por vários mecanismo esta mostrado no
quadro abaixo.

Produto Tipo de produto Trans Reflex. THST ( FS

luminosa luminosa )

Infrastop-Auresin * Evaporação térmica a 39 26 28

vácuo – Off line
Infrastop- Bronze * 22 36 15

New Suncool Blue * 20 23 33

Magnetron sputtering
New Suncool Bronze *
Off line 10 19 24

New Suncool Silver *

10 38 23

Kapafloat * Magnetron sputtering 77 11 65 **

Off line

Reflectafloat * On line 33 43 53

Solarcool Bronze *** 21 35 39

Spray Pirolítico
Solarcool Grey ***
17 35 39

*Produzido pela Pilkington

** Valores para dupla vitrge
4+4 mm
*** Produzido pela PPG

6
Deposição do material

Os materiais usados para recobrimento do vidro são predominantemente , mas

não exclusivamente, alguns metais tais como prata, cromo, silício, ou oxidos
metálicos como a sílica , alumina e óxido de estanho. A grande variedade dos
métodos de estão descritos detalhadamente em vários livros dedicados a
ciência e tecnologia de filmes finos, : hollans – 1961; Maissel and Glang –
1970; Vossen and Kern – 1978 e Pulker – 1984. Os anais do seminário de
Battelle sobre Vidros com Camadas , publicado em Filmes sólidos finos , vol.
77 – 1981, nos fornece uma boa revisão.

Os métodos de processamento podem ser divididos em dois

grandes grupos:

A vácuo

A pressão atmosférica

7
Fluxograma do processo

Mecanismo da diminuição
da transmissão solar

Absorção Reflexão

Deposição de
camadas

Vácuo
Baixa Pressão Atmosfera

Off line
On line
 Cool-lite
 Antélio
 Reflectasol
 Eko
 Starelio

8
Técnicas a pressão atmosférica

Electroless Deposition ( Deposição Química )

Processo de prateação – A superfície do vidro é ativada com solução de
cloreto estanoso , a deposição de prata é feita com soluções de amoníaco mais
um redutor ( glucose ) . Este método também pode ser usado para deposição
de cobre ou de níquel

Dip ou Spin coating ( Pulverização a frio seguido de hidrólise e desidratação )

Pode se depositar vários óxidos metálicos , como o SiO2, TiO2, Al2O3.
Filmes de soluções de metais alcalinos são pulverizados no vidro em
temperatura ambiente , seguido de hidrólise e desidratação a 300 – 400 graus
Celcius.

Spray Coating ( Pulverização a quente )

Pode se depositar vários óxidos metálicos como TiO2, Cr2O3, Fe2O3, SnO2.
Usa-se organometálicos em pó como percursor , ou diluído em solventes
orgânicos ( acetato ) o qual é pulverizado sobre o vidro quente 600 graus.

Técnicas a vácuo

Evaporação ( sublimação )

9
Evaporação térmica de Ag, Al, Au, ZnS, MgF2. A evaporação é feita por
feixes de elétrons de Si,SiO2, Cr

Sputtering ( processo via plasma )

Corrente contínua: Necessita de um substrato condutor , como metal , para
depositar a camada de metal e também óxidos metálicos e nitretos em O2 ou
N2.
Alta frequência : Pode ser usado em substrato isolantes , SiO2, Al2O3, vidros
Magnetron de corrente contínua: Possui alta taxa de deposição em grandes
áreas para aplicações na arquitetura , depositando metais , ligas , óxidos e
nitretos.

Plasma CDV
Decomposição de um percursor gasoso ou vapor , em uma descarga de
plasma, como:
SiH4 Si amorfo
SiH3 + NH3 Si3N4
CxHy diamante e diamante carbono

A maior parte dos materiais de deeposição podem ser aplicados por um ou

mais métodos não existindo o “melhor” método. Cada método em particular a
ser usado depende primariamente do custo de produção. Os processos a
vácuo são geralmente mais versáteis pois o equipamento pode ser usado para
depositar uma larga variedade de camadas com mínimas alterações na maneira
de operar o equipamento, como alteração do gás no método de evaporação ou
do substrato no processo vi plasma. Os outros processos são muito mais
específicos para o material de deposição ou percursor.

10
Deposição de camada para arquitetura

A área dominada por processo a vácuo , hitoricamente o primeiro filme de

controle solar usado em vidro em larga escala foi uma variação de camadas
metálicas e dielétricas aplicado por evaporação térmica no fim da década de
50 usando um equipamento Leybold – Heraeus na Alemanha. Os materiais
eram ouro e uma mistura de niquel cromo, com sulfeto de zinco usado como
meio dielétrico transparente. Este era um processo lento tornando o produto
final muito caro, mas estas camadas tinham uma boa performance ótico , ainda
sendo usado atualmente.

No final da década de 60 , um evaporador por feixe de eletrons completamente

automático foi desenvolvido nos EUA pela Libby – Owens – Ford, mas este
equipamento possibilitava somente a aplicação de uma camada , não sendo
bem asssimilado pela indústria em geral.
As camadas aplicadas por evaporação possuem uma fraca resistência
mecânica , e sua desvantagem , juntamente com sua maior sensibilidade à
umidade , é a necessidade de ser protegida em dupla vitrage ou em chapas
laminadas.
No final da década de 70 , Aico – Temescal e Leybold – Heraeus estiveram
ativamente envolvidos no desenvolvimento de um Magnetron sputtering de
corrente contínua para aplicação de vários tipos de camadas , em largas
escalas , com altas velocidades de deposição e baixo custos. Estas camadas
tinham melhores propriedades e podiam ser usadas em janelas como
produzidas. Tipicamente , estas deposições podem ser de uma única camada
ou uma combinação de camadas contendo vários materiais, como nitreto de

11
titânio ou nitreto de cromo e ligas de aços inoxidáveis. Esta tecnologia teve
uma rápida expanção no súltimos 20 anos coma instalação de mais de 100
plantas de fabricaçãoem largas escala , por todo o mundo. Uma planta típica
de sputterinng para deposição de camadas para arquitetura pode cobrir uma
chapas de 3m de largura por 6m de comprimento em aproximadamente 3
minutos. Trabalhando em condições normais, estas plantas podem produzir
cerca de 2 a 3 milhões de m2 por ano.

DEPOSIÇÃO DE CAMADAS DE BAIXA EMISSIVIDADE OFF-LINE

O principio destas camadas (normalmente referidas como low-E) resido na

possibilidade de combinação de metais altamente refletivos com certos óxidos
eletricamente condutores na região do infravermelho do espectro, para
comprimento de ondas ao redor de 3000 nm, com alto nível de transmissão
luminosa no espectro visível.
Essencialmente, existem 2 classes de materiais que podem ser usados para
produzir camadas de baixa emissividade, filmes metálicos de Au, Ag, Cu e Al,
em ordem decrescente de condutividade. Comercialmente, o alumínio é óxido
metálico que possui a melhor relação custo benefício, sendo usado em maior
escala, em substituição dos demais.
Na prática os filmes de prata são depositados entre duas camadas de óxidos
dielétricos transparentes, que servem para maximizar a transmissão luminosa
no espectro visível, pela formação de uma camada anti-refletiva, protegendo a
camada de prata que é extremamente frágil. A camada de óxido também
fornece à camada de prata um substrato de ligação bem definido, favorecendo
o seu crescimento. Os materiais mais comuns usados como camadas de óxidos
são SnO2, ZnO e TiO2, que são materiais que podem ser também aplicados
por Magnetron sputtering.

12
A variedade de produtos tem se expandido bastante recentemente, incluindo
produtos com baixa emissividade e baixa transmissão de luz no espectro
visível para adaptar-se à diferentes condições climáticas em várias partes do
mundo. Adicionalmente, através do ajuste da espessura da camada de óxido,
as cores do produto final podem ser alteradas em função do estilo
arquitetônico desejado.

DEPOSIÇÃO DE CAMADAS ON-LINE

As técnicas de deposição em pressão ambiente são necessárias à aplicação de

camadas em processos de produção contínua de vidro. Os métodos mais
comuns são:
 processo de pirólise: pulverização sobre o vidro de uma solução contendo o
elemento percursor a ser depositado dissolvido em um solvente apropriado;
 processo de deposição termo-química de vapor (CVD): passagem de uma
corrente de um gás ou vapor ,no qual o elemento percursor está dissolvido,
sobre o vidro.
Estas técnicas exploram o fato que as modernas tecnologia de fabricação de
vidro plano produzem uma contínua fita de vidro com uma superfície de alta
qualidade e bastante reprodutível, sob bem definidas condições de
temperatura, atmosfera e velocidade de estiramento.

13
Desde o momento em que o vidro entra dentro do Float, a cerca de 1000ºC,
para que seja conformada a fita de vidro até sua saída, a fita de vidro fica
submetida a uma atmosfera redutora de N2/H2. Após a saída do float a fita de
vidro é continuamente resfriada, sob atmosfera normal, até a temperatura
ambiente, na zona de recozimento. O principal problema técnico a ser
resolvido é a correta especificação de equipamentos para deposição para que
possa ser obtido uma variação na uniformidade de aplicação menor que 2% ao
longo de toda largura da fita (3,0m) para atender aos requisitos estéticos do
produção em larga escala de fachadas de vidro. Adicionalmente, o processo
normalmente envolve um significante nível de engenharia química para
manipular corretamente as quantidades de materiais depositados.
A primeira tentativa de produção de vidros com camadas de controle solar por
pulverização pirolítica envolveu o uso de óxidos da primeira coluna dos
metais de transição da tabela periódica. Estes óxidos são pulverizados sobre a
fita ainda quente, logo após a saída do Float, usando acetil-acetonatos e
octonatos dissolvidos em solventes orgânicos como cloreto de meltila. Os
óxidos de metais mais comuns são os de ferro, cobalto, níquel e cromo. Estas
camadas operam pela combinação entre a absorção e reflexão de luz. O
processo foi desenvolvido no final da década de 60 e início da de 70 por várias
companhias obtendo boas propriedades óticas e propriedades mecânicas e
durabilidade ainda não alcançadas.
No começo da década de 70 a Pilkington desenvolveu o processo químico de
deposição de vapor no qual um fino filme de silício foi depositado na fita de
vidro, dentro do Float pela pirólise do silano(Kirkbrie et al., 1974). O produto
teve boas propriedades óticos, chegando a cerca de 50% de reflexão da luz. A
principal dificuldade deste processo foi o desenvolvimento de um
equipamento capaz de controlar a temperatura de deposição capaz de distribuir

14
a mistura gasosa contendo silano com um alto grau de uniformidade ao longo
dos 3,5 m de largura da fita de vidro.
Produtos de baixa emissividade baseados em complexas multicamadas de
filmes de óxidos de metais dielétricos não são produzidos on-line, mas vários
produtores de vidro tem desenvolvido processos on-line para fabricarão de
produtos de baixa emissividade feitos com a deposição de filmes condutores
de fluoretos dopados com óxido de estanho. Para conseguir uma baixa
emissividade a espessura da camada depositada deve ser muito mais delgada
que as mencionadas anteriormente. Isto exige enormes controles da cinética
do processo e do controle de uniformidade transversal , pois pequenas
variações na espessura da camada podem produzir diferenças de coloração.
A vantagem desta camada, é a maior resistência mecânica, se comparada às
camadas fabricadas pelos métodos de sputtereing

15
Segue gráficos para efeito de comparação entre refletivos pelo processo a
vácuo e antélio .

Obs: Os valores apresentados não representa o valor do produto no mercado ,

pois os mesmos se referem as amostras analisadas

Vidro base vidro verde

A N T É LI O H A V A N A

10 0

90

80

70

60

50

40

30

20

10
Vidro base vidro
0
bronze

16
 A N TÉLIO B A S E IN C OLOR

100

90

80

70

60

50

40

30 Vidro base vidro incolor

20

10

PRATA CLAIR EKO 6 INCOLOR

R E F LE T I V O 4 m m

10 0

90

80

70

60 AL
50

40
Vidro base vidro incolor
30

20

10

17
 R E F LE T I V O 4 m m

1 00

90

80

70

60

50 Vidro base vidro incolor

40

30
PR
20

10

REFLETIVO4 m m

100

90

80

70

60

50
Vidro base vidro incolor
40

30 BZ
20

10

0
1020

1140

1260

1380

1500

1620

1740

1860

1980

2100

2220

2340

2460
420

540
300

660

780

900

18
 R E FLE T I V OS 4 mm

1 00

90

80

70

60

50

40
Vidro base vidro incolor
30

20

10

4 PN 114 4 OU 114 4 TE 115 4 PN 10 8 4 INCOLOR

RE FLE T I V OS 4 mm

100

90

80

70

60

50
Vidro base vidro incolor
40

30

20

10

4AZ 120 4TE 115 4AZ 130 4AZ 140 4 INCOLOR

19
 Co mpa ra ç ã o do s Va lo re s de TE UV
100

90

80

70

60

50

40

30

20

10

0
UV

ESMERALDA HAVANA CLAIR PRATA

EKO 4al 108 4PR 108 4PR 114
4BZ 114 4PN 114 4OU 114 4AL 120
4PR 120 4AZ 120 6BZ 120 4TE 115
4AZ 130 4AZ 140 4 INCOLOR 4AL 114
4BZ 108 4PN 108

C o m p a r a ç ã o d o s Va l o r e s d e TE VIS

100
90
80
70
60
50
%

40
30
20
10
0
ESMERALDA HAVANA CLAIR PRATA
EKO 4al 108 4PR 108 4PR 114
4BZ 114
4PR 120
4PN 114
4AZ 120 1 4OU 114
6BZ 120
4AL 120
4TE 115
4AZ 130 4AZ 140 4 INCOLOR 4AL 114
4BZ 108 4PN 108

20
 Com paração dos Valores de TE Inf Verm .
90
80

70
60

50
%

40
30
20

10

0
ESM ERALDA HAVANA C LAIR PR ATA EKO 4 al 10 8
4 PR 10 8 4 PR 114 4 BZ 114 1
4 PN 114 4 OU 114 4 AL 12 0
4 PR 12 0 4 AZ 12 0 6 BZ 12 0 4 TE 115 4 AZ 13 0 4 AZ 14 0
4 INCOLOR 4 AL 114 4 BZ 10 8 4 PN 10 8

100 Comparação dos Valores T E Total

90
80
70
60
50
%

40
30
20
10
0
ESMERALDA HAVANA CLAIR PRATA EKO
4al 108 4PR 108 4PR 114 4BZ 114 4PN 114
4OU 114 4AL 120 4PR 120 4AZ 120 6BZ 120
4TE 115 4AZ 130 4AZ 140 4 INCOLOR 4AL 114
4BZ 108 4PN 108

21
 Com paração dos Valores de TL
100
90
80
70
60
50
%

40
30
20
10
0

ESMERALDA HAVANA CLAIR PRATA EKO

4al 108 4PR 108 4PR 114 4BZ 114 4PN 114
4OU 114 4AL 120 4PR 120 4AZ 120 6BZ 120
4TE 115 4AZ 130 4AZ 140 4 INCOLOR 4AL 114
4BZ 108 4PN 108

22
23