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Partes deste texto foram compiladas pelos Engenheiros Ricardo Grossi Dantas
(MEE) e Cláudio Moro (MEE). Versão final de E.T. Costa.
Maio de 2001
1. Introdução
2. Transdutores resistivos
Figura 3 – Resolução não uniforme do transdutor com fio enrolado. O efeito ocorre
devido ao cursor curto-circuitar dois enrolamentos do resistor em alguns pontos.
2.2 – Transdutores tipo extensômetro
Os transdutores elásticos são feitos por tubos elásticos cheio com fluido
condutor tais como mercúrio, sulfato de cobre, pasta eletrolítica (de EEG, por
exemplo). As extremidades do tubo são seladas por eletrodos que podem ser de
cobre, prata ou platina. Estes transdutores têm menor aplicação em biomédica e
suas características são as seguintes:
Diâmetro interno: 0,5 mm
Diâmetro externo: 2 mm
Comprimento: 3 a 25 cm
Resistência: 0, 02 a 2 Ω/cm
Não linearidade: ±1% até ±4% dependendo do percentual de distensão
dD
dR dL
R
=
L
−2
dD dρ
D
+
ρ
e sendo −
dL
D= υ
L
dR dρ
R ρ
K = = 1 + 2ν +
dL dL L
L
ε = ∆L = 1 . ∆R
L K R
Atualmente são produzidos também strain gauges de materiais
semicondutores, fabricados basicamente de silício e em casos especiais de
germanium. A variação da resistência é de 50 a 80 vezes maior que a dos metais.
O grande problema dos semicondutores é a não linearidade devido à alta
sensibilidade à variação de temperatura. São produzidos a partir de cristais de
silício de alta pureza, dopados artificialmente. A sensibilidade depende da
dopagem, densidade, orientação dos cristais e do processo de fabricação.
O fator de sensibilidade K para os semicondutores é definido pela
expressão:
K = 1 + 2υ + πE
onde π é o coeficiente piezoresistivo (m2/N) e E é o módulo de Young
MATERIAIS DA GRADE
Material da Composição Sensibilidade Resistividade Coef. Temp
Grade K Ω ⋅ Oc (10-4) ( Ω ⋅ C).10
o -4
Ω Ω
Nicrome 80% Ni; 20% Cr + 2,0 112 3
Constantancopel 45% Ni; 55% Cr + 2,0 49 0,1
Isoelastic 36% Ni; 8% Cr; 0,5 % + 3,5 112 2
Mo; 55,5% Fe
Manganin 4% Ni; 12% Mn; 84% + 0,47 48 0,1
Cu
Irídio-Platina 5% Ir; 95% Pt + 5,10 24 10
Monel 67% Ni; 33% Cu + 1,9 42 20
Níquel - 12,0 7,8 60
Silicio tipo p 100 a 170
Silicio tipo n -100 a -140
Tabela 2
• aço α = 12 x 10-6 °C -1
• alumínio α = 23 x 10-6 °C -1
• plástico α = 65 x 10-6 °C -1
• titânio α = 9 x 10-6 °C -1
• aços austenídicos α = 16 x 10-6 °C -1
Ponte de Wheatstone:
Ponte Balanceada:
Ponte de Wheatstone
Quando não há passagem de corrente pelo galvanômetro, dizemos que a
ponte está em equilíbrio ou balanceada.
Portanto: porém:
V BD = 0 V AD = R1 ⋅ I 1
V AD = V AB V AB = R2 ⋅ I 2
V DC = V BC V DC = R4 ⋅ I 1
I = I1 + I 2 V BC = R3 ⋅ I 2
Substituindo, conclui-se que:
R1 R4 = R2 R3
ou
R1 ⋅ R3 = R2 ⋅ R4
Portanto, quando uma ponte de Wheatstone está em equilíbrio, o produto
das resistências opostas é igual entre si.
'
Se fizermos R1 ser a resistência de um extensômetro e R
1 o valor da
resistência desse extensômetro quando a peça em que ele está colado sofre uma
deformação, para conseguirmos novamente o equilíbrio da ponte de Wheatstone,
'
deveremos variar R 2 para um valor R2 conhecido, através por exemplo de um
banco de resistências.
'
⋅ R3 ⋅'R3
R1 = R 2 calculamos
'
R1 = R 2 '
R4 R4
• Ponte Desbalanceada:
Portanto: VDB = R1 I1 - R2 I2
mas I1 = V CA ( R1 + R 4)
I2 = V CA ( R2 + R 3)
V DB R1 R2
Substituindo = -
V CA R1 + R4 R2 + R3
• Circuito em ¼ de ponte
V DB R1 + ∆ R1 R2
= - ,
V CA R1 + ∆ R1 + R4 R2 + R3
mas R1 = R2 = R3 = R4 = R
V DB ∆ R1
então = ,
V CA 4 R + 2 ∆ R1
∆ R1
onde =K ε
R
V DB Κ ⋅ε ⋅ R
portanto =
V CA 4 R + 2 ⋅ Κ ⋅ ε ⋅ R
Transformando esta equação para unidade usual em micro-
deformações, temos:
V DB Κ ⋅ µε ⋅ 10−6
=
V CA 4 + 2 ⋅ Κ ⋅ µε ⋅ 10− 6
• Circuito em ½ ponte
V DB Κ ⋅ µε ⋅ 10−6
= (equação não linear)
V CA 2 + Κ ⋅ µε ⋅ 10−6
V DB Κ ⋅ µε ⋅ (1 − ν ) ⋅ 10−6
= ( ν é o coeficiente de Poisson)
V CA 4 + 2 ⋅ Κ ⋅ µε ⋅ (1 − ν ) ⋅ 10 −6
V DB
= Κ ⋅ µε ⋅ 10−6 (equação linear)
V CA
Os extensômetros instalados em braços opostos atuam não só em
sentidos opostos, mas com dois deles segundo o efeito de Poisson, isto é
R1 e R3 em tração, R2 e R4 em compressão, ou vice-versa, sendo R2 e R4
segundo Poisson.
V DB Κ ⋅ µε ⋅ (1 + ν ) ⋅ 10−6
= (equação não linear)
V CA 2 + Κ ⋅ µε ⋅ (1 − ν ) ⋅ 10−6
Os extensômetros instalados em braços opostos atuam no mesmo
sentido, (tração ou compressão), mas com dois deles segundo o efeito de
Poisson.
V DB Κ ⋅ µε ⋅ (1 + ν ) ⋅ 10−6
= (equação linear)
V CA 2
• Intensidade do sinal de saída
K=2
µε = 1000 µ m/m
♦ Circuito em ¼ de ponte:
V DB
= 0,5 mV/ V
V CA
♦ Circuito em ½ ponte, com deformação em sentidos opostos e braços
adjacentes:
V DB
= Κ ⋅ µε ⋅ 10−6 = 2.1000.10-6 = 2.10-3 = 2 mV/ V
V CA
Comparando os exemplos acima, percebemos que o circuito de ponte
completa nos dá um maior sinal de saída, o que favorece na hora da leitura.
COMPARAÇÃO ENTRE EXTENSÔMETROS METÁLICOS E
SEMICONDUTORES
3. Transdutores Indutivos
4. Transdutores capacitivos
Na figura 16, vemos que os esquemas (a), (b) e (c) à esquerda utilizam um
único capacitor, e os da direita utilizam 2 capacitores. Em (a ) o deslocamento
provoca a variação da distância entre as placas e em (b) e (c) o deslocamento
provoca a variação da área dos capacitores pelo movimento relativo das placas.
Um exemplo de aplicação de transdutor capacitivo pode ser visto na figura 17
abaixo. Neste exemplo, o transdutor capacitivo de deslocamento tem resposta em
freqüência estendida até DC.
Figura 16 – Sistema de medição de deslocamento linear com transdutor
capacitivo.
C1 = [ ε0 εr A ] / [ d – x ] C2 = [ ε0 εr A ] / [ d + x]
Portanto:
C1 – C2 = [ ε0 εr A ] [ 1 / (d – x ) – 1 / ( d + x)]
C1 – C2 = [ ε0 εr A ] [ 2 x / ( d2 – x2 ) ]
Ainda:
C1 + C2 = [ ε0 εr A ] [ 1 / (d – x ) + 1 / ( d + x)]
C1 + C2 = [ ε0 εr A ] [ 2 d / ( d2 – x2 ) ]
[ C1 – C2 ] / [C1 + C2 ] = 2 x / 2 d = x / d (linearidade)
Daí:
V0(jω) = { 1 / 2 – [ C2 / ( C1 + C2 ) ] } Vin ( jω )
V0(jω) = { [ C2 + C1 – 2 C2 ] / 2 ( C1 + C2 ) ] } Vin ( jω )
V0(jω) = ( C1 – C2 ) / 2 ( C1 + C2 ) Vin ( jω )
V0(jω) = [ x / 2 d ] Vin ( jω )