Programa de Educao Tutorial Qumica Supramolecular, Nanocincia e Nanotecnologia

Materiais nanoestruturados
Os materiais considerados nanoestruturados so todos aqueles apresentam, pelo menos em uma dimenso, com tamanho na ordem de nanmetros geralmente menores que 100 m. No incio da nanotecnologia os produtos eram feitos por acaso, mas atualmente os novos materiais e nanoestruturas so criados atravs do uso de mtodos fsicos e qumicos para permitir que uma determinada estrutura tenha uma propriedade especial atravs da manipulao intencional de molculas e tomos. A explorao de propriedades na escala nano o ponto de partida da nanotecnologia. Um dos melhores exemplos so os pontos qunticos que apresentam caractersticas diferentes dependendo do tamanho. Quanto aos mtodos de preparao desses novos materiais, duas abordagens principais tm sido empregadas: bottom up (de baixo para cima) e top down (de cima para baixo). A abordagem (bottom-up) consiste basicamente em construir estruturas tomo a tomo ou molcula por molcula, o primeiro passo fabricar os tijolos da matria de forma precisa, controlada e reprodutvel, e isto pode significar em alguns casos com preciso atmica. Nesse caso temos que falar de avanados mtodos de sntese e, tambm, de mtodos para observar e medir o comportamento (mecnico, eltrico, magntico, entre outros) do que est sendo produzido. De acordo com a perspectiva Top-Down parte-se de um bloco slido para se obter as nanoestruturas, do macro para o nano. A moagem, por exemplo, um mtodo tipicamente top-down que proporciona a obteno de nanopartculas. Porm, o grande problema reside na imperfeio da superfcie da estrutura obtida atravs desse processo. Outra rota de fabricao consiste em submeter um corpo slido ao de corroso seletiva atravs de tcnicas de litografia ou engenharia de preciso, o caso do processo de fabricao de semicondutores. Uma das grandes vantagens da nanotecnologia o aumento da rea superficial dos materiais na escala nano o que torna estes materiais muito mais reativos. Como resultado, os materiais com tamanhos nano absorvem calor facilmente e a temperatura de fuso diminui no caso de slidos. Este apenas um exemplo de como os nanomateriais diferem dos demais materiais. A meta da nanotecnologia utilizar estas novas propriedades como o aumento da rea superficial para preparar novos materiais denominados nanomateriais. Estes materiais no possuem necessariamente tamanho nanomtrico, mas possuem em sua composio estruturas nanomtricas que geraram novas propriedades e aplicaes. Um dos possveis problemas da nanotecnologia a nanopoluio que gerada por nanomateriais, ou durante a confeco destes. Este tipo de poluio, formada por nanopartculas que podem ser muito perigosas uma vez que flutuem facilmente pelo ar viajando por grandes distncias.

Devido ao seu pequeno tamanho, os nanopoluentes podem entrar nas clulas de seres humanos, animais e plantas. Como a maioria destes nanopoluentes no existe na natureza, as clulas provavelmente no tero os meios apropriados de lidar com eles, causando danos ainda no conhecidos. Estes nanopoluentes poderiam se acumular na cadeia alimentar como os metais pesados e o DDT. Os materiais nanoestruturados podem ser divididos em trs categorias. A primeira compreende materiais com dimenses reduzidas e/ou dimensionalmente na forma de nanopartculas, fios, fitas ou filmes finos. Nano fitas de dixido de estanho, um exemplo deste tipo de nanoestrutura, que pode ser obtido por vrias tcnicas, tais como deposio qumica ou fsica de vapor, condensao de gs inerte, precipitao de vapor, lquido supersaturado ou slido. A segunda categoria compreende materiais em que a estrutura limitada por uma regio superficial fina (nanomtrica) do volume do material. Por exemplo, "nanoclusters" de grafite recobertos com uma camada de partculas de cobalto. Pode-se obter este tipo de estrutura por tcnicas como deposio qumica ou fsica de vapor e irradiao laser, sendo este ltimo o procedimento mais largamente aplicado para modificar a composio e/ou a estrutura atmica da superfcie de um slido em escala nanomtrica.

http://jolisfukyu.tokai-sc.jaea.go.jp/fukyu/mirai-en/2006/4_12f4_27.html

A terceira categoria consiste de slidos volumtricos com estrutura na escala de nanmetros. Algumas ligas metlicas destacam-se como exemplos deste tipo de material. Existem vrias tcnicas para se obter este tipo de estrutura, desde a mistura mecnica (moagem) at a deposio qumica ou fsica de vapor. As nanopartculas podem ser divididas em orgnicas e inorgnicas.. As nanopartculas metlicas e xidos so os principais representantes do grupo dos inorgnicos nanoestruturados. Os exemplos mais comuns de nanopartculas orgnicas so os componentes celulares e os vrus. Anodizao para obteno de membrana cermica Materiais cermicos so geralmente uma combinao de elementos metlicos e no-metlicos (formam xidos, nitretos e carbetos). So isolantes trmicos e eltricos e sua ligao predominante inica. Com relao s propriedades mecnicas as cermicas so duras, porm frgeis. Em geral so leves e mais resistentes
Preparao dos eletrodos

Banho eletroltico (anodizao)

Tratamento trmico

Caracterizao da membrana (raio X e MEV) Anlise termogravimtrica

altas temperaturas e ambientes severos que metais e polmeros, devido ao elevado ponto de fuso. Processo de obteno da membrana de alumina andica Anodizao A anodizao uma reao eletroltica na qual formada uma camada andica sobre o alumnio. Esta camada andica, composta de xido de alumnio, produzida na superfcie do metal de forma controlada e uniforme, por meio de aplicao de um diferencial de corrente contnua em banhos eletrolticos, sob intensa agitao e temperaturas controladas(ASSOCIAO BRASILEIRA DE CORROSO 2005). A camada de xido formada depende do tipo de eletrlito formado, pois o xido formado pode ser poroso ou no. Eletrlitos que exercem ao solvente sobre o xido produzem filmes porosos, caso contrrio, obtm-se filmes compactos. Como exemplos de eletrlito que atacam o xido tm-se o cido sulfrico, fosfrico, crmico e oxlico (BOCCHETTA ET. al.,2003). A espessura dos filmes xidos compactos basicamente funo da voltagem aplicada, pois sendo o filme dieltrico, para acorrente ser mantida, a voltagem deve crescer. O crescimento dos filmes porosos apresenta uma dependncia da densidade da corrente, temperatura, voltagem e tempo de anodizao.
Retirando alumnio residual (utilizando HCl e CuCl):

Membrana aps dissoluo com NaOH, para abertura dos poros profundos:

Integrantes: Amanda Marinho de Oliveira e Mauricio Chaves Orientador: Jefferson Leixas