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Introdução
O Transistor de Efeito de Campo de Junção (JFET), ou, simplesmente, Transistor de
Efeito de Campo (FET), é um tipo de transístor desenvolvido na sequência das pesquisas do
transístor bipolar, visto anteriormente. O mecanismo básico de funcionamento é o mesmo:
obter-se controle da intensidade de uma corrente principal a partir da polarização de uma
junção (VBE ou IB controlando IC). No caso do FET, a forma de controle difere um pouco da
que ocorre no transístor bipolar, conforme será visto no item a seguir. Ver-se-á que a corrente
principal no FET não fluirá por duas junções, mas por um meio semicondutor único,
envolvendo apenas lacunas ou elétrons livres (fluxo unipolar), contrariamente aos transístores
bipolares que envolvem ambos os portadores. Em vista disso, os FET são chamados de
transístores unipolares.
Com algumas alterações na estrutura do FET, obtém-se um outro modelo de FET: o
FET de Metal Óxido Semicondutor de Porta Isolada, MOSFET ou IG-FET, muito empregado
em sistemas digitais e que apresentam características especiais que melhoram as condições de
operação em certas aplicações. Em geral, por não precisar vencer uma barreira de potencial
(0,6 volts) para se obter condução, como no transístor bipolar, os FET, em geral, operam com
pequenos níveis de tensões e correntes, reduzindo os consumos de seus circuitos. Em geral, os
FET apresentam vantagens em relação aos transístores bipolares, como impedância de entrada
muito altas (como 100M), maior imunidade a ruído e maior estabilidade térmica.
pação de calor, de forma similar aos transístores bipolares. A figura abaixo apresenta aspectos
físicos de FETs.
Sabe-se que em torno de uma junção PN forma-se uma região de depleção (região
vermelha) ou barreira de potencial elétrico, como visto anteriormente. Quando VGS asume
valor negativo (polo negativo na Gate e positivo na Fonte), ficando a junção inversamente
polarizada, a região de depleção é reforçada e aumenta de largura, provocando redução na
largura do canal. Quanto mais negativa for esta, mais estreito ficará o canal. Se a junção for
polarizada diretamente, a região de depleção, praticamente, ficará inalterada. Assim, pode-se
controlar a largura do canal mediante o valor da tensão VGS quando esta polariza
inversamente as junções laterais (VGS negativa para FET canal N e positiva para canal P).
Observe, ainda, que, neste caso, a corrente de Gate será praticamente zero.
Para avaliação do efeito da tensão Dreno-Fonte (VDS) sobre o nível de condução do
FET, isto é, sobre o valor de ID (ou da corrente no canal), considerar-se-á VGS constante e
igual a zero (curto entre Gate e Fonte), como ilustrado na figura abaixo, considerando-se
ensaios com VDS = 1, 2 e 4 Volts (Figuras A, B e C, respectivamente), com polo positivo no
Dreno e negativo (terra) na Fonte (região inferior do canal).
Do exposto, quanto maior for a tensão reversa VGS, com menos corrente se
alcançaria a saturação. No limite, com VGS = -4 V, praticamente não haveria fluxo de corrente
no canal, conforme apresentado no gráfico abaixo.
VGG pode ser constante em série com uma fonte de sinal variável (como saída de um
microfone), fazendo com que VGS varie, provocando variações mais intensas em ID e em VRD
(tensão sobre o resistor RD). RD poderia representar a bobina de um relé, de um alto-falante,
etc., para acioná-los devidamente para uma dada finalidade prática.
Cão. Tem-uma junção PN entre o canal e a região P do substrato. Quando a tensão Substrato-
Fonte (Source) for negativa, polarizando inversamente a junção, a largura do canal reduz,
aumentando sua resistência, da mesma forma que no JFET. Mas, o mais comum é empregar
tensão Substrato-Fonte igual a 0 V(com terminais Substrato e Fonte interligados). Na sua
operação normal, é comum fazer com que a resistência do canal fique dependente da
polaridade da tensão aplicada entre Gate-Fonte, VGS. Quando VGS é positiva, o pólo positivo
fica ligado ao Gate, eletrizando positivamente a lâmina metálica ligada a este terminal. A
camada de Óxido impede que essa carga se dilua pelo semicondutor. Essa carga fará gerar um
campo elétrico na região do canal N, atraindo elétrons do Substrato. Isto aumentará a
concentração de elétrons livres e, consequentemente, a condutividade elétrica do canal. Se
houver uma tensão aplicada entre Dreno-Fonte, passaria a fluir uma corrente ID mais intensa.
Contrariamente, se VGS for negativa, o pólo negativo fica ligado ao Gate, eletrizando
negativamente a lâmina metálica ligada a este terminal. O campo gerado repelirá elétrons do
canal, reduzindo a concentração destes e, assim, reduzindo sua condutividade elétrica,
reduzindo ID. Portanto, o controle da intensidade de ID ficará em função do valor e polaridade
da tensão VGS. Caso o canal seja do tipo P, a avaliação será similar, intensificando ID quando
VGS for negativa e enfraquecendo quando positiva. À direita, na figura anterior, representam-
se os símbolos empregados para o MOSFET Depleção, canais N e P (à direita). Pode-se
relacionar duas vantagens importantes desse componente em relação o JFET: impedância de
entrada mais elevada (correntes de Gate praticamente zero, por causa da camada de óxido) e
operação com tensões VGS tanto positiva quanto negativa. Considere os circuitos abaixo.
Tem-se MOSFET canal N (seta pra dentro). No circuito à esquerda, a corrente ID será
mais fraca que no da direita, pois o potencial negativo de Gate reduz a concentração de
elétrons no canal.
Uma variação dessa estrutura apresentada do MOSFET Depleção é o chamado
MOSFET Acumulação (ou Crescimento), cuja estrutura é representada na figura a seguir,
com sua simbologia. Vê-se que não há um canal definido entre Dreno e Fonte. Inicialmente,
estes estão separados pela região P (substrato).
A simbologia empregada para o MOSFET Acumulação (canal N) se distingue da
anterior pelo fato de Gate e Fonte estarem separados (linha tracejada). A aplicação de uma
tensão VDS, praticamente, não produzirá uma corrente de Dreno (ID), pois haverá uma junção
PN inversamente polarizada no caminho. Assim, quando a tensão de porta (VGS) é zero ou
negativa, o componente se achará em estado desligado, sem condução. Ao ser aplicada uma
tensão positiva, elétrons de P são atraídos para próximo do óxido, formando um canal N,
como se ligasse um fio condutor entre Dreno e Fonte. Assim, passará a fluir uma corrente ID,
ao ser aplicada uma tensão VDS. Portanto, diferentemente do modelo anterior, esse com-
ponente só conduzirá com VGS positiva no modelo canal N, e negativa, no modelo canal P.
Para descrição de funcionamento do MOSFET Acumulação, observe os gráficos
constantes da figura a seguir (ignore a reta de carga incluída à esquerda). Quanto mais positiva
for VGS, mais conduzirá o componente. Vê-se, à direita, que o transistor só começará a
conduzir quando, efetivamente, estiver formado o canal (tipo N). Fora isto, a operação é
similar a do tipo depleção.