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Deposição Simultânea de Vários Íons

Fundamentals of Metal Deposition/ Raub e Müller

Somente em poucos casos a descarga catódica de um certo íon metálico é o


único processo catódico que ocorre. Frequentemente outros íons metálicos e
hidrogênio são descarregados simultaneamente. É possível também ocorrer um
processo de redução catódica sem deposição de metal ou hidrogênio.

A posição e a forma da curva de polarização individual de cada espécie


presente, determina a intensidade das correntes parciais que correspondem a cada
reação catódica individual.

As figuras mostram três casos


típicos para cátions A e B
depositados simultaneamente.
No caso (a) as curvas
potencial catódico versus densidade de corrente são
afastadas uma da outra. Durante a eletrólise o catodo
assume o potencial de descarga do metal mais nobre.
O processo catódico consiste na descarga dos cátions
do metal A – o potencial de deposição de B não é
atingido.

Para o potencial E1 , a densidade de corrente limite,


jlim , do metal mais nobre é atingida. O potencial
torna-se então rapidamente menos nobre até que a
descarga do cátion B se inicia como uma segunda
reação.

Com o aumento posterior da densidade de corrente,


aumenta-se a descarga do cátion B, enquanto o metal
A deposita-se com o mesmo valor absoluto, mas
decresce em valor percentual.
Na figura (b), as curvas potencial x densidade de
corrente são próximas uma da outra. O potencial de
deposição do metal menos nobre já é atingido, mesmo
para relativamente baixas densidades de corrente.

Assim, a co-deposição de B é possível mesmo antes da


densidade de corrente limite de A ser atingida.
Para o potencial E1 , as densidades de corrente parciais
correspondentes são jA,1 e jB,1 e para o potencial E2 , as
densidades são jA,2 e jB,2.

As condições para deposição simultânea dos


dois metais são mais favoráveis quando as curvas
potencial catódico vs densidade de corrente são
idênticas. Este caso, entretanto, é difícil de ocorrer na
prática.
Figura (c) mostra duas curvas de potencial vs
densidade de corrente, que se interceptam.
Para o potencial E1 as densidades de correntes
parciais são jA,1 e jB,1 :

( jA,1 maior que jB,1 )

Para o potencial E2 as densidades de correntes


parciais são iguais e assim a eficiência de corrente,
tanto de A como de B, são iguais a 50%.

Para o potencial E3 as densidades de corrente parciais


são jA,3 e jB,3 :

( jB,3 maior que jA,3 )


Neste tipo de curva, a densidade de corrente parcial jB cresce mais
rapidamente do que jA , quando a densidade de corrente aumenta. Isto
significa que a eficiência de corrente com relação ao cátion A diminui.
Na prática, vários valores da eficiência de corrente podem ser
encontrados dependendo da posição relativa das curvas de
polarização.
Leis de Faraday
1ª Lei de Faraday:
A quantidade de produto formado em um
eletrodo pela eletrólise é proporcional a
quantidade de eletricidade que passa
pela solução
Leis de Faraday

2ª Lei de Faraday:
As quantidades de diferentes produtos
formados em um eletrodo pela mesma
quantidade de eletricidade são proporcionais
a suas massas moleculares ou atômicas
relativas, divididas pelo número de elétrons
envolvidos durante o processo eletrolítico
Matematicamente,
𝑀
𝑀 − 𝐸𝑞𝑢𝑖𝑣𝑎𝑙𝑒𝑛𝑡𝑒 𝐸𝑙𝑒𝑡𝑟𝑜𝑞𝑢í𝑚𝑖𝑐𝑜
𝑚 𝑔 = 𝐼 𝐴 𝑡(𝑠) 𝑛𝐹
𝑛𝐹

Onde:
m – massa depositada em gramas O cobre (Cu), por exemplo, se deposita quando
a corrente elétrica passa pela solução salina de
M – massa atômica nitrato de cobre (Cu(NO3)2), de acordo com a
seguinte equação:
n – nº de elétrons envolvidos na reação
1 Cu2+(aq) + 2 e– → 1 Cu(s)
F = 96.500 C – constante de Faraday
Perceba que, nesta reação, 2 mols de elétrons
I – corrente em ampere fazem com que 1 mol de Cu2+(aq) se deposite.
Quando passarmos 96.500 C (carga de um mol
T- tempo em segundos de elétrons) depositaremos ½ mol de cobre.
Eficiência de Corrente:

A eficiência de corrente de uma eletrólise é definida como sendo a razão entre a


massa real depositada e a massa teórica depositada.

Matematicamente,

𝑚𝑎𝑠𝑠𝑎 𝑟𝑒𝑎𝑙 𝑑𝑒𝑝𝑜𝑠𝑖𝑡𝑎𝑑𝑎(𝑜𝑢 𝑑𝑖𝑠𝑠𝑜𝑙𝑣𝑖𝑑𝑎)


𝑒𝑐 = × 100 (%)
𝑚𝑎𝑠𝑠𝑎 𝑡𝑒ó𝑟𝑖𝑐𝑎 𝑑𝑒𝑝𝑜𝑠𝑖𝑡𝑎𝑑𝑎(𝑜𝑢 𝑑𝑖𝑠𝑠𝑜𝑙𝑣𝑖𝑑𝑎)

Onde massa teórica é aquela calculada pela Lei de Faraday supondo uma
eficiência de 100% de corrente

Se estamos considerando a deposição de um metal, nos referimos a eficiência de


corrente catódica (ecc) para o catodo e eficiência de corrente anódica (eca) para o
anodo.
Em várias situações as reações que acontecem no anodo e no catodo não são
únicas. Assim, quando acontecem reações secundárias, uma parte da corrente é
perdida, com consequente perda de eficiência.
Exercícios:

1. Quantas gramas de níquel pode-se obter numa eletrólise em meio de NiSO4 com uma
corrente de 250 mA, durante 24h. Suponha que a eficiência do processo seja 100%.
Dado: MNi = 58,7 g/mol

2. Numa eletrólise ígnea de nióbio obteve-se 5,0 g de material em 24 h, com uma corrente de
240 mA. Qual foi o número de elétrons envolvidos na reação, supondo que o rendimento de
corrente tenha sido 100%.
Dado: MNb = 92,9 g/mol
Nickel coating was prepared by using a Watts-type bath containing 300 g/L nickel sul-
fate (Ni2SO4 . 6H2O), 30 g/L nickel chloride (NiCl2 . 6H2O), and 30 g/L boric acid (H3BO3). A nickel
sheet of 99.99% purity with dimensions of 100 mm x 50 mm x 5 mm was used as anode and
pure annealed copper plate with dimensions of 20 mm x 15 mm x 2 mm as cathode (substrate)
materials.

The copper substrates were mechanically polished with silicon carbide papers of 400, 600, 800,
1200 grits and alumina suspensions of 8, 1 and 0.25 µm, then rinsed with distilled water and
activated in 10% H2SO4 solution at room temperature for 30 s.

The deposition time was adjusted to achieve an average thickness of 100 µm based on the
Faraday’s law.
During the electroplating process, it was found that the pH of the solution play an important
role on quality of the deposits and the pH range of 3.5 to 4.5 resulted in the deposits with bright
appearances and free of voids and cracks. Hence, the pH of the bath was kept to 4.0 ±0.2.
Other electroplating conditions have been summarized in Table 1.
Fig. 1 SEM micrographs of surface morphology of nickel coatings
2
deposited from: (a) a saccharin-free bath at i=100 mA/cm , (b) a
2
bath containing 5 g/L saccharin at i=100 mA/cm , (c) a bath
2
containing 5 g/L saccharin at i=300 mA/cm
Comparison of XRD patterns of as-deposited Nickel and Nickel powder.
Table-1. The relationship between current density and crystallite size.
EFFECTS OF CURRENT DENSITY ON SIZE AND
SURFACE
MORPHOLOGY OF HIGH SPEED DIRECT
NANO-CRYSTALLINE
NICKEL PLATING ON TITANIUM SURFACE
Noor Zaimah1, Azieyanti Nurain1 and Sakhawat
Hussain2
1Department of Mechanical Engineering, College
of Engineering, UNITEN, Kajang, Selangor,
Malaysia
2Faculty of Mechanical Engineering, Universiti
Teknologi Malaysia, Skudai, Johor, Malaysia
Figure-2. SEM images showing the effect of current densities on the grain size of
(a) 0.3 A (b) 0.9 A (c) 1.1 A (d) 1.5 A at 4000 X magnification.

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