Escolar Documentos
Profissional Documentos
Cultura Documentos
2ª Lei de Faraday:
As quantidades de diferentes produtos
formados em um eletrodo pela mesma
quantidade de eletricidade são proporcionais
a suas massas moleculares ou atômicas
relativas, divididas pelo número de elétrons
envolvidos durante o processo eletrolítico
Matematicamente,
𝑀
𝑀 − 𝐸𝑞𝑢𝑖𝑣𝑎𝑙𝑒𝑛𝑡𝑒 𝐸𝑙𝑒𝑡𝑟𝑜𝑞𝑢í𝑚𝑖𝑐𝑜
𝑚 𝑔 = 𝐼 𝐴 𝑡(𝑠) 𝑛𝐹
𝑛𝐹
Onde:
m – massa depositada em gramas O cobre (Cu), por exemplo, se deposita quando
a corrente elétrica passa pela solução salina de
M – massa atômica nitrato de cobre (Cu(NO3)2), de acordo com a
seguinte equação:
n – nº de elétrons envolvidos na reação
1 Cu2+(aq) + 2 e– → 1 Cu(s)
F = 96.500 C – constante de Faraday
Perceba que, nesta reação, 2 mols de elétrons
I – corrente em ampere fazem com que 1 mol de Cu2+(aq) se deposite.
Quando passarmos 96.500 C (carga de um mol
T- tempo em segundos de elétrons) depositaremos ½ mol de cobre.
Eficiência de Corrente:
Matematicamente,
Onde massa teórica é aquela calculada pela Lei de Faraday supondo uma
eficiência de 100% de corrente
1. Quantas gramas de níquel pode-se obter numa eletrólise em meio de NiSO4 com uma
corrente de 250 mA, durante 24h. Suponha que a eficiência do processo seja 100%.
Dado: MNi = 58,7 g/mol
2. Numa eletrólise ígnea de nióbio obteve-se 5,0 g de material em 24 h, com uma corrente de
240 mA. Qual foi o número de elétrons envolvidos na reação, supondo que o rendimento de
corrente tenha sido 100%.
Dado: MNb = 92,9 g/mol
Nickel coating was prepared by using a Watts-type bath containing 300 g/L nickel sul-
fate (Ni2SO4 . 6H2O), 30 g/L nickel chloride (NiCl2 . 6H2O), and 30 g/L boric acid (H3BO3). A nickel
sheet of 99.99% purity with dimensions of 100 mm x 50 mm x 5 mm was used as anode and
pure annealed copper plate with dimensions of 20 mm x 15 mm x 2 mm as cathode (substrate)
materials.
The copper substrates were mechanically polished with silicon carbide papers of 400, 600, 800,
1200 grits and alumina suspensions of 8, 1 and 0.25 µm, then rinsed with distilled water and
activated in 10% H2SO4 solution at room temperature for 30 s.
The deposition time was adjusted to achieve an average thickness of 100 µm based on the
Faraday’s law.
During the electroplating process, it was found that the pH of the solution play an important
role on quality of the deposits and the pH range of 3.5 to 4.5 resulted in the deposits with bright
appearances and free of voids and cracks. Hence, the pH of the bath was kept to 4.0 ±0.2.
Other electroplating conditions have been summarized in Table 1.
Fig. 1 SEM micrographs of surface morphology of nickel coatings
2
deposited from: (a) a saccharin-free bath at i=100 mA/cm , (b) a
2
bath containing 5 g/L saccharin at i=100 mA/cm , (c) a bath
2
containing 5 g/L saccharin at i=300 mA/cm
Comparison of XRD patterns of as-deposited Nickel and Nickel powder.
Table-1. The relationship between current density and crystallite size.
EFFECTS OF CURRENT DENSITY ON SIZE AND
SURFACE
MORPHOLOGY OF HIGH SPEED DIRECT
NANO-CRYSTALLINE
NICKEL PLATING ON TITANIUM SURFACE
Noor Zaimah1, Azieyanti Nurain1 and Sakhawat
Hussain2
1Department of Mechanical Engineering, College
of Engineering, UNITEN, Kajang, Selangor,
Malaysia
2Faculty of Mechanical Engineering, Universiti
Teknologi Malaysia, Skudai, Johor, Malaysia
Figure-2. SEM images showing the effect of current densities on the grain size of
(a) 0.3 A (b) 0.9 A (c) 1.1 A (d) 1.5 A at 4000 X magnification.