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1. INTRODUÇÃO
𝐹 = 𝑁𝐴 ∗ 𝑒 (01)
𝐹 = 6,022𝑥1023 𝑚𝑜𝑙 −1 ∗ 1,6022𝑥10−19 𝐶
𝐹 = 96485,3 𝐶𝑚𝑜𝑙 −1
Para uma reação genérica que ocorrerá em uma célula eletrolítica, temos:
𝐵 𝑧+ + 𝑧𝑒 → 𝐵𝑠
zF ------ M
i.t ------ m
𝑀∗𝑖∗𝑡
𝑚𝑡𝑒𝑜 = (02)
𝑧∗𝐹
2. OBJETIVOS
3. PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL
4. RESULTADOS E DISCUSSÕES
1
Corrente (A) 1,35
Tempo (s) 180
2
Corrente (A) 0,149
Tempo (s) 2220
𝑀∙𝑖∙𝑡
𝑚𝑡𝑒𝑜 =
𝑧∙𝐹
58,6934 ∙ 1,35 ∙ 180 58,6934 ∙ 0,149 ∙ 2220
𝑚𝑡𝑒𝑜 = +
2 ∙ 96485,3 2 ∙ 96485,3
𝑚𝑡𝑒𝑜 = 0,175 𝑔
𝑚𝑒𝑥𝑝 = 𝑚𝑓 − 𝑚𝑖 (03)
𝑚𝑒𝑥𝑝 = 2,473 − 2,32
𝑚𝑒𝑥𝑝 = 0,123 𝑔
𝑚𝑒𝑥𝑝 (04)
ƞ= ∙ 100%
𝑚𝑡𝑒𝑜
ƞ = 70,5%
𝑚 =𝜌∙𝑉 (05)
𝑚 =𝜌∙𝐴∙𝛿
𝑚
𝛿=
𝜌∙𝐴
0,123
𝛿=
8,9 ∙ 9,62
𝛿 = 1,44 ∙ 10−3 𝑐𝑚
Ou seja, a espessura de níquel sobre a placa é de 0,014 mm.
Um fator relevante a ser abordado é a importância do desengraxe das
peças nas quais ocorrerá o processo de eletrodeposição. Ao realizá-lo, sujeiras
e incrustações previamente presentes são removidas, garantindo maior
eficiência no processo de eletrodeposição. Já a lavagem em água destilada tem
como intuito verificar o êxito da limpeza, quando não ficam gotículas aderidas a
superfície do metal.
5. CONCLUSÕES
6. REFERÊNCIAS
[2] ZENG Y., LI Z., MA M., ZHOU S., Electrochemistry Communications, vol.
2, p. 36 - 38, 2000.