UNIVERSIDADE FEDERAL DE GOIÁS

INSTITUTO DE QUÍMICA

ALLYSTER RODRIGUES SILVA

LABORATÓRIO DE MÉTODOS ELETROANALÍTICOS

PROFa. DRa. LÍVIA FLÓRIO SGOBBI

ELETRODEPOSIÇÃO DE COBRE EM ELETRODO DE PLATINA

GOIÂNIA
JULHO/2022
OBJETIVOS
Eletrodeposição de cobre em eletrodo de platina via eletrogravimetria.

MATERIAIS E REAGENTES

Materiais:
➔ Eletroanalizador com par de eletrodos de platina;
➔ Agitador magnético;
➔ Béquer, 50 mL e 250 mL;
➔ Papel toalha;
➔ Estufa;
➔ Balança semi-analítica;
➔ Pinça;
➔ Barra magnética;
➔ Chapa aquecedora.

Reagentes:
➔ Ácido nítrico (HNO3) concentrado;
➔ Ácido sulfúrico (H2SO4) concentrado;
➔ Acetona (C3H6O);
➔ Água destilada (H2O);
➔ Liga metálica contendo cobre.

Procedimento experimental:

Inicialmente, para abertura da amostra, pesou-se cerca de 0,2362 g da liga metálica

contendo cobre com auxílio de uma pinça, um béquer de 50 mL e uma balança
semi-analítica. Com isso, o béquer contendo a liga metálica foi levado a capela, o qual foi
colocado sobre a chapa aquecedora sob aquecimento adicionando 2 mL de ácido sulfúrico
(H2SO4) concentrado. Após alguns minutos, adicionou-se 1 mL de ácido nítrico (HNO3)
concentrado e deixou por mais alguns minutos sob aquecimento. Pesou-se também os
eletrodos de platina obtendo como massa para o eletrodo menor (ânodo) aproximadamente
13,7694 g e para o eletrodo maior (cátodo) aproximadamente 19,6938 g. Inseriu-se os
eletrodos em seus respectivos pólos, o ânodo no polo positivo e o cátodo no polo negativo, de
forma com que ambos não se encostassem. Ligou-se o eletroanalisador e colocou-se o béquer
contendo a amostra preparada no eletroanalisador e manteve-se em constante agitação com
auxílio de um agitador mecânico, inseriu-se 80% dos eletrodos de platina no béquer. Após 22
minutos sob agitação, inseriu-se o restante dos eletrodos de platina na solução esperando por
mais 10 minutos. Com o fim dos 10 minutos, desligou-se o sistema, retirou-se os eletrodos da
solução e os lavou com água destilada, em seguida mergulhou-se o cátodo em solução de
acetona (C3H6O) contida em um béquer de 50 mL. O cátodo foi levado à estufa, ficando por
aproximadamente 3 minutos, em seguida, pesou-se o eletrodo e anotou-se a massa. Por fim,
para lavagem do eletrodo, mergulhou-o em um béquer de 50 mL contendo solução de ácido
nítrico (HNO3) concentrado e posteriormente com bastante água corrente.
RESULTADOS E DISCUSSÃO

Para início do experimento, foi necessário a etapa de abertura da amostra, na qual

solubilizou-se a quente a liga metálica contendo cobre em ácido sulfúrico (H2SO4)
concentrado e em ácido nítrico (HNO3) concentrado. O ácido nítrico (HNO3) atua como
despolarizante impedindo a descarga de íons H+, porque o NO3- é mais facilmente reduzido a
NH4+ do que a evolução de H2, portanto, o NO3- oxida o H+ antes que ocorra o
desprendimento de hidrogênio no cátodo, conforme a reação a seguir:

NO3- + 10 H+ + 8 e- → NH4+ + 3 H2O

Entretanto, o ácido nítrico (HNO3) não deve possuir o ácido nitroso (HNO2), pois o
mesmo retarda a eletrodeposição podendo oxidar o cobre depositado no eletrodo
impurificando-o. Como não foi necessário a calibração do equipamento, montou-se o sistema
com os eletrodos conforme a Figura 1 (SGOBBI, 2022).

Figura 1. Aparelhagem para eletrodeposição.

Os eletrodos utilizados são de platina pois são inertes e não ocorre reação com o metal
depositado. O cátodo possui forma cilíndrica, possui uma haste e é constituído por uma fina
tela de platina. Possui forma cilíndrica pois, desta forma possui grande área superficial,
permitindo a livre circulação da solução eletrolítica, o que contribui para diminuição do efeito
de polarização. O ânodo é um cilíndro menor que o cátodo disposto no interior do eletrodo
maior. Ambos são colocados de forma com que não se encostem para que não haja
curto-circuito (SADLER, 2001).
O efeito de polarização de concentração também pode ser diminuído com o
aquecimento da solução, pois assim, aumenta a mobilidade iônica, reduz a viscosidade do
meio e forma correntes de convecção, podendo diminuir o potencial aplicado para a
eletrodeposição. Baixa corrente por área do eletrodo pode favorecer a formação de depósitos
metálicos com boas características físicas, já o uso de elevadas correntes pode provocar
depósitos irregulares com fracas características físicas, pouco aderentes, contribuindo para o
aumento da polarização. Os depósitos devem ser densos e bem aderidos à superfície do
eletrodo para que o mesmo possa ser lavado, secado e pesado sem que haja perda de sólido e
interferência no resultado final da análise (CIENFUEGOS, 2000).
Com o sistema montado e ligado, inseriu-se 80% dos eletrodos na solução em
constante agitação. A constante agitação é necessária para que todo o cobre da solução
chegue mais rapidamente no eletrodo. Os eletrodos são inseridos somente 80% de início
como forma de segurança devido o resultado final da eletrodeposição do cobre ser mais
visual (solução se tornar incolor). O restante do eletrodo foi inserido após 22 minutos pois
não possuía nenhuma deposição do metal na parte do eletrodo não inserida inicialmente, após
inserido, se houvesse metal em solução o mesmo seria depositado sob a superfície restante do
eletrodo, não tendo interferência no resultado final.
Ao início do experimento, foi observado uma turbidez na solução, onde a mesma foi
constituída de grande quantidade de bolhas, devido a liberação elevada de hidrogênio e
oxigênio. As reações ocorridas nos eletrodos são:

➔ Cátodo:
Cu2+ + 2 e- → Cu0

➔ Ânodo:
2 H2O → O2 + 4 H+ + 4 e--

Ao fim do processo, observou-se que a solução estava incolor e havia bastante sólido
depositado sobre a superfície do cátodo. Desligando o sistema, retirou-se os eletrodos,
lavando-os com água destilada, em seguida, mergulhando-os em acetona (C3H6O), isto para
obter uma rápida secagem com auxílio da estufa para posterior pesagem do eletrodo. Antes
da pesagem, observou-se mudança na coloração do sólido sobre a superfície do eletrodo, o
qual apresentava coloração marrom, passando para leve tonalidade de preto, isto devido a
oxidação do cobre ali depositado e formação de óxidos, podendo interferir no resultado final
(SKOOG, 2007).
Como o equipamento utilizado é antigo, não é possível a medição exata do potencial e
corrente elétrica aplicada no sistema, com isso, os parâmetros para o experimento não foram
constantes, não sendo possível a aplicação da lei de Faraday. Com os dados dispostos na
Tabela 1, é possível calcular o teor de cobre na amostra:

Tabela 1. Dados experimentais.

Massa (g)

Massa de Cobre inicial 0,2362

Massa do eletrodo menor 13,7694

Massa do eletrodo maior 19,6938

Massa do eletrodo maior + amostra 19,8784

depositada

Massa da amostra depositada 0,1846

Para cálculo do teor de cobre na amostra, utiliza-se a seguinte equação:

𝑚𝑎𝑠𝑠𝑎 𝑑𝑎 𝑎𝑚𝑜𝑠𝑡𝑟𝑎 𝑑𝑒𝑝𝑜𝑠𝑖𝑡𝑎𝑑𝑎
𝑇𝑒𝑜𝑟 % = 𝑚𝑎𝑠𝑠𝑎 𝑑𝑒 𝐶𝑜𝑏𝑟𝑒 𝑖𝑛𝑖𝑐𝑖𝑎𝑙
× 100

Logo:
0,1846 (𝑔)
𝑇𝑒𝑜𝑟 % = 0,2362
× 100

𝑇𝑒𝑜𝑟 % = 78, 15 %

Pode-se dizer que o teor de cobre e massa depositada (massa inicial de cobre = 0,2362
g e massa final depositada = 0,1846 g) obtidos foram relativamente altos, já que houve
fatores que influenciaram no processo como por exemplo a oxidação do cobre ao retirar o
eletrodo do sistema, essa oxidação faz com que haja perda de sólido na superfície do
eletrodo. Outro fator é a possível perda de sólido nas lavagens feitas no eletrodo após sua
retirada do eletroanalisador bem como não ter deixado tempo o suficiente no sistema para
total eletrodeposição do cobre no eletrodo.
CONCLUSÃO

A técnica utilizada possibilitou determinar o teor de cobre depositado na superfície do

eletrodo de platina via eletrogravimetria. A metodologia utilizada mostrou-se eficiente,
simples e de certa forma rápida, obtendo um teor de cobre relativamente alto, quando
considerado os fatores que afetam o processo. Tais fatores podem ser citados, como por
exemplo oxidação do cobre depositado ao eletrodo no final do processo, perda de sólido na
hora da lavagem do eletrodo e até mesmo a formação de sólido depositado não denso e pouco
aderente.
REFERÊNCIAS

Apostila de Métodos Eletroanalíticos/Práticas experimentais. Profa. Dra. Lívia Flório Sgobbi,

Dr. Fabrício Ribeiro de Souza.
CIENFUEGOS, Freddy., Análise Instrumental. Rio de Janeiro, 2000.
SADLER, Maria de L., Métodos Instrumentais para Análise de Soluções, 4ª ed. Lisboa, 2001.
SKOOG, Douglas A., Fundamentos de Química Analítica, 4ª ed. São Paulo, 2007.